「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(369ページ目) - Weblio英語例文検索

One embodiment of this system is a nondestructive method, by which profile data about test pattern lines are acquired by using spectral data measured, using an optical measurement instrument and a profile library.例文帳に追加

一実施形態が、光学計測装置を使用して測定されたスペクトルデータとプロファイルライブラリとを使用することによって、テストパターン線のプロファイルデータを取得するための非破壊的な方法である。 - 特許庁

To provide a lens sheet having excellent adhesiveness to a substrate and yellowing resistance and making formation of a high-definition pattern possible by using a photosensitive resin composition having pressure-sensitive adhesiveness, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を用いたレンズシートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further enables formation of a pattern with a higher saturation by performing the first laser irradiation at a high output and performing the second and subsequent laser irradiations at the same or lower outputs.例文帳に追加

本方法において、レーザ照射を高出力で行ったのち、２回目以降のレーザ照射を同出力又は低出力で行うことにより、より彩度の高い紋様を得ることが出来る。 - 特許庁

In a stamper that forms a microstructure on a substrate using a press machine, a stamper for a nanoprint is characterized in that the stamper has a peeling mechanism; and a pattern transferring method using the stamper is disclosed.例文帳に追加

プレス装置を用い、基板上に微細構造を形成するためのスタンパにおいて、前記スタンパが剥離機構を有することを特徴とするナノプリント用スタンパ、及び該スタンパを用いるパターン転写方法。 - 特許庁

In this wafer development method, a developer is supplied to the surface of a resist film formed on a wafer, and during the development of the resist film, the line width of a pattern on the resist film is measured.例文帳に追加

ウェハの現像処理において，ウェハ上のレジスト膜の表面に現像液が供給されて，レジスト膜の現像が行われている際に，レジスト膜に形成されるパターンの線幅が測定される。 - 特許庁

In the pattern forming method, when a thermoplastic resin layer and an intermediate layer are present, a step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer is included between the transfer step and the exposure step.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a cell culture substrate on which a pattern of a region having a good cell-adhesiveness is highly minutely formed, and to a method for producing the same.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞接着性が良好な領域のパターンが高精細に形成された細胞培養基材、およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a thin-film pattern substrate with which the thin-film patterns of a fine wire shape can be stably formed with satisfactory accuracy, a method for manufacturing the device, and an electrooptical device, and an electronic device.例文帳に追加

細い線状の微細な薄膜パターンが精度良く安定して形成することができる薄膜パターン形成基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a structure with a mat-gloss tone pattern mixed which does not need special processing and can be formed by a simple method without passing through a complex process and its molding.例文帳に追加

本発明は、特殊な加工を必要とせず複雑な工程を経ずに簡易な方法で形成できる、マット−グロス調模様が混在する構造物およびその成形体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory device improving a margin in a photo process, preventing defects in pattern, and preventing defects such as photo mask collapse by decreasing aspect ratio of photo mask.例文帳に追加

フォト工程のマージンを向上させること、パターン不良を防止すること、及びフォトマスクのアスペクト比を減らしてフォトマスク崩壊などの不良を防止することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a near-field exposing method with which the pattern of a fine opening formed on an exposure mask can be accurately and efficiently exposed, with proximity EB lithography, to 1:1 with respect to an object to be exposed.例文帳に追加

露光用マスク上に形成された微小開口のパターンを、被露光物に対して正確に効率よく、１：１に等倍露光することが可能となる近接場露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a pattern-formed structure by which deprotection of functional groups can be carried out in a short time and post treatment or the like after the exposure is unnecessary.例文帳に追加

本発明は、官能基の脱保護を短時間で行うことが可能であり、かつ露光後の後処理等が不要であるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board in which a conductor pattern and a via conductor can be accurately and surely formed with a resin sheet having a conductor film formed on the surface thereof fixed to a frame body.例文帳に追加

表面に導体膜が形成された樹脂シートを枠体に固定した状態で、導体パターンやビア導体を精度良く確実に形成できる配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To perform high-precision processing by suppressing pitting or striation due to resist damage when the pattern is formed by a dry etching method using a resist film of the post ArF lithography generation or the subsequent as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成においてレジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved in line edge roughness by normal exposure and liquid immersion exposure and exhibits excellent conformability to water in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board in which delamination is suppressed and deformation of a wiring pattern including a hot-melt composition due to melting is suppressed, and to provide the wiring board.例文帳に追加

デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、ホットメルト組成物を含む配線パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a letterpress printing plate which forms a high-definition print pattern necessary for organic EL and which is allowed to have moderate stress to ensure excellent printing characteristics; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

有機ＥＬに必要とされる高精細な印刷パターンを形成し、印刷用凸版自体に適度な応力を持たせ、印刷特性に優れた印刷用凸版およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of forming a pattern, at first a plastic base 2 is prepared, and a photosensitive material layer 3a is formed by applying a photosensitive material to the plastic base 2 and drying the applied photosensitive material.例文帳に追加

本発明によるパターン形成方法は、まず、プラスチック基材２を準備し、このプラスチック基材２に対して感光性材料を塗布して乾燥させて、感光性材料層３ａが形成される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent resolution and depth of focus, a resin for resists, which is used for the positive resist composition, and a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

優れた解像性及び焦点深度幅を有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられるレジスト用樹脂、該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To improve the resolution of a maskless exposure method of digitally generating a projection pattern without using a mask to perform exposure, without having to uses a complex processes or mechanism element.例文帳に追加

本発明は、マスクを用いることなく投影パターンをデジタル的に生成して露光するマスクレス露光方法に関し、複雑なプロセスや機構要素を付加することなく、分解能を向上することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a liquid drop discharge apparatus, capable of suitably removing grime in a passage for a conductive pattern forming ink of the liquid drop discharge apparatus and clogging in a liquid drop discharge head of the apparatus.例文帳に追加

液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる液滴吐出装置の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator consisting of the compound, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用で新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method of forming a discharge pattern, which manufactures a high grade color filter with a retardation layer in which unevenness by a discharge variation for each nozzle is reduced and visual rough feel is suppressed.例文帳に追加

ノズル毎の吐出バラツキによるムラを低減し、かつ視覚的なざらつき感を抑えた高品質な位相差層付きカラーフィルタを製造することができる吐出パターン生成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a screen printing device which can improve conversion efficiency by increasing the film thickness and, forming a circuit pattern with a large aspect ratio of the sectional shape, as well as a screen printing method.例文帳に追加

膜厚を厚くして断面形状のアスペクト比が大きな回路パターンを形成して変換効率の向上を図ることができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid state imaging device that decreases the number of processes of forming a contact plug electrically connecting a pixel electrode pattern and a semiconductor substrate to each other, and to provide the solid state imaging device.例文帳に追加

画素電極パターンと半導体基板とを電気的に接続するコンタクトプラグを形成するための工程数を低減できる固体撮像装置の製造方法、及び固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, an acid generator made of the compound, a resist composition including the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a material for forming a protective film that has favorable alkali solubility and gives a protective film excelling in water repellency, and to provide a method for forming a photoresist pattern using the material.例文帳に追加

良好なアルカリ溶解性を有し、且つ、撥水性に優れた保護膜を与える保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition which has high photoreactivity, can be patterned and can form a film with high hydrophobicity and excellent dielectric properties; a thin film of the composition; and a pattern forming method.例文帳に追加

光反応性が高くパターニングが可能であるとともに、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal circuit substrate which has a metal wiring pattern excellent in electric conductivity by increasing an adhesiveness between a metal nanomaterial and the substrate in metal wiring, and a method of manufacturing the substrate.例文帳に追加

金属配線において金属ナノ材料と基板との接着性を高めて電気伝導度に優れた金属配線パターンを有する金属回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus that stably produces a nonwoven fabric of inconspicuous pattern composed of fibers having small fiber diameters in good productivity and a method for producing a nonwoven fabric using the apparatus for producing a nonwoven fabric.例文帳に追加

繊維径の小さい繊維からなる、模様の目立たない不織布を安定して生産性良く製造できる装置、及び前記不織布製造装置を用いる不織布の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an interlayer for laminated glass, with which an interlayer for laminated glass on which unevenness in the appearance is suppressed and a pattern is hardly visually recognized when light passes therethrough, can be obtained.例文帳に追加

光が透過した際に、外観むらが抑制されており、模様が視認され難い合わせガラス用中間膜を得ることができる合わせガラス用中間膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal oxide film pattern free of complicated processes, which can form proper patterns even when a material quality or film thickness of the metal oxide film differs between the front and back of a substrate.例文帳に追加

工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt which can be used as a resist material in the photolithography using high energy rays as a light source, a polymer compound, a resist material, and a pattern-forming method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method and apparatus, which forms a dot arrangement pattern for recording an image of high quality without generating a curling and cockle when performing a recording with an ink jet recorder.例文帳に追加

インクジェット記録装置で記録する際にカールやカックルを発生させることなく、高品質な画像を記録可能なドット配置パターンを生成できる画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a curing composition for transfer materials, which is suitable for a nanoimprint method in which selectivity of a dry etching speed with argon gas and oxygen gas is high, and which is capable of forming a fine pattern with a high throughput.例文帳に追加

アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To reduce shape defects at an end of a portion corresponding to the teeth pattern of an interdigital pixel electrode in a method for manufacturing a liquid crystal display device for forming an interdigital pixel electrode by use of maskless exposure.例文帳に追加

マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the mold, a filling material such as casting sand is packed into each partition of a lattice-shaped pattern so as to form the desired curved face of a mold, and the objective mold is manufactured.例文帳に追加

本実施例の鋳型の製造方法は、格子状模型の各区画に鋳物砂等の充填物を詰め込んで鋳型の所望の曲面を形成し、目的とする鋳型を製造する方法である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with the excellent exposure latitude (EL) and focus margin (DOF) capable of reducing the line width irregularity (LWR) and residual defect, a chemically amplified resist composition and a resist film.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れ、線幅バラツキ（ＬＷＲ）及び残渣欠陥を低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilevel gradation photomask, by which a resist level difference structure having different resist residual film values within the film plane can be formed with high accuracy, and thereby, a mask pattern with high accuracy can be formed.例文帳に追加

面内でレジスト残膜値の異なるレジスト段差構造を精度良く形成することができ、これによって精度の高いマスクパターンを形成できる多階調フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrically charged particle beam drawing method and an electrically charged particle beam drawing device that draw a desired pattern by performing correction processing with an amount of irradiation corresponding to a film thickness of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜の膜厚に応じた照射量の補正処理を行い、所望のパターンを描画することのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dissolution inhibitor having a specific structure for improving sensitivity of negative radiation sensitive compositions, a radiation sensitive composition containing the same, and a method of forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物の感度を向上させる、特定構造を有する溶解抑止剤、これを含む感放射線性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method relating to the manufacture of next-generation display members and forming a high definition pattern on a glass substrate having flexibility or a plastic film of low heat resistance at a low cost.例文帳に追加

本発明は、次世代ディスプレイ部材の製造に関し、可撓性を有するガラス基材や耐熱性の劣るプラスチックフィルム上に、低コストで高精細なパターンを形成することを可能にする方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing such a resin composition for optical waveguides permiting the formation of the optical waveguides having a satisfactory optical transmission capability and a sufficiently high pattern-formation precision.例文帳に追加

十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を有する光導波路を形成することが可能な光導波路用樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming a desirable image for various electronic components by a relief reversal printing method and is excellent in film hardness.例文帳に追加

各種電子部品として所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができるとともに、膜硬度に優れる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for measuring a circuit pattern line width, which enable reduction in measuring errors of line width and shorten ing of the processing time, without requiring a large capacity memory.例文帳に追加

線幅の計測誤差を減少させ、かつ、大容量のメモリを必要としないで処理時間を短縮することができる回路パターン線幅計測方法および回路パターン線幅計測装置を提供する。 - 特許庁