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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
To provide a control method and a device of a member carrying track capable of always arranging a member on a sheet in a specific arrangement pattern, even when a width variation and meandering are caused in the sheet.例文帳に追加
シートに幅変動や蛇行が生じた場合でも、常に一定の配置パターンで部材を該シート上に配置することのできる部材の搬送軌道の制御方法及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide an artificial leather having an uneven pattern regulated so that the surface of the concave part may have the same soft and good touch feeling as that of the convex part, and having excellent feeling; and to provide a method for producing the artificial leather.例文帳に追加
本発明は、凹部表面が凸部同様に柔らかい良好な肌触りで且つ風合いに優れた凹凸模様を有する人工皮革及びその製造方法を提供せんとするものである。 - 特許庁
To provide a micropattern transfer method that reduces an amount of resin applied to a substrate, and furthermore, prevents non-uniformity in thickness on the obtained pattern forming layer.例文帳に追加
本発明は、基板上に塗布する樹脂量が少なく、しかも得られるパターン形成層に厚みむらが生じるのを防止することができる微細構造転写方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In a method for forming a resist pattern, hydrophilic water 21 is coated on the face to be treated of a wafer W, ad the medical liquid of a antireflection film is coated on this so that an about 1,000 Å thickness antireflection film 22 can be formed.例文帳に追加
ウエハWの被処理面に親水液21を塗布し、この上に反射防止膜の薬液を塗布して、例えば1000Å程度の厚さの反射防止膜22を形成する。 - 特許庁
To provide a precise and low-cost manufacturing method for metallic foil sheet preferably used for a collector of a secondary battery and having a continuous pattern without a joint in the longitudinal direction.例文帳に追加
二次電池用の集電体に好ましく用いられるような、長手方向に継ぎ目なく連続絵柄を有する金属箔シートおよびその金属箔シートを精度よく安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fiber base material for a printed wiring board having low moisture percentage, and capable of effectively preventing separation and bulge of a copper foil pattern due to high temperature in reflow soldering, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
リフロー半田付けの際の高温による銅箔パターンの剥がれ及び膨れを効果的に防止できる低水分率のプリント配線板用繊維基材、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming an organic layer pattern by which a high-resolution micropattern can be formed without undergoing any expensive process, e.g., photoresist, leading to simplification of the preparation process and cost reduction.例文帳に追加
フォトレジストなどの高価の工程を経なくても高解像度の微細パターン形成が可能なので、製造工程を単純化し且つ製造コストを節減することが可能な有機層パターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for liquid-pressure transferring which can obtain an ornament having a good appearance by realizing liquid-pressure transfer of a pattern to a substrate for decoration having an opening on a front surface as aimed at the substrate.例文帳に追加
表面に開口部を有する装飾用基体に狙い通りに模様を液圧転写できるようにして、見栄えが良好な装飾体を得ることができる液圧転写方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a mask pattern in an easy process so as to increase the etching selection ratio for a material to be etched (such as a metal film to be etched) comparable with a hard mask.例文帳に追加
ハードマスクに匹敵する被エッチング材料(例えば金属からなる被エッチング膜)とのエッチング選択比を大きくすることが可能なマスクパターンを簡単な工程で形成する方法を提供する。 - 特許庁
To solve a problem that image quality of a medium tone image is degraded due to a density change by dot deformation because a hounds-tooth check pattern is caused over medium density regions when a conventional error diffusion method is applied to a laser beam printer.例文帳に追加
従来の誤差拡散法をレーザビームプリンタに適用すると、中間濃度域にかけて千鳥格子パターンが発生し、ドット潰れによる濃度変化で、中間調画像の画質低下を生じる。 - 特許庁
A method for forming the embossed pattern comprises the steps of inputting a predetermined parameter such as an aligning dealing relation table or the like from an input means 1, and inputting a mask image in which a color number is decided at each pixel from a mask image input means 4.例文帳に追加
入力手段1から、割り付け対応関係テーブル等の所定のパラメータを入力し、マスク画像入力手段4から、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of laminated type electronic components, where a so-called sheet attack phenomenon does not occur when forming an electrode pattern layer on the surface of a green sheet and the short-circuiting fraction defective is small.例文帳に追加
グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、いわゆるシートアタック現象が発生せず、ショート不良率の少ない積層型電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a belt free from a seam (called as seamless belt) which has a fine electrode pattern formed on a part or the whole surface of inner circumferential surface of the belt in an electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加
電子写真式画像形成装置においては、内周面の一部もしくは全面に精密な電極パターンが形成されているつなぎ目の無いベルト(「シームレスベルト」と称する)を製造する方法。 - 特許庁
To provide a compound used for photosensitive compositions which have high resolution and improved edge roughness and can be developed with alkali, to provide a photosensitive composition using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加
高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a compound substrate which is affixed with a piezoelectric substrate and a support substrate to each other via an organic adhesive layer, and a formation method which allows the formation of a desired metal pattern with high accuracy by using lift-off processing.例文帳に追加
圧電基板と支持基板とを有機接着層を介して貼り合わせた複合基板と、リフトオフ加工を用いて精度よく所望の金属パターンを形成できるようにする形成方法を提供する。 - 特許庁
This preparation method for the color filter prints a colored layer, comprising pattern print of at least four colors of red, green, blue and a black on a polyester film, by screen printing, or the like.例文帳に追加
本発明のカラーフィルタ作成方法は、ポリエステル系フィルム上に、赤色、緑色、青色、および黒色の少なくとも4色のパターン印刷からなる着色層がスクリーン印刷等により印刷される。 - 特許庁
To provide a resin molded article which can prevent deterioration caused by light and can be used over a long period without losing an irregular pattern, even when worn, to provide an apparatus for producing the same, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
磨耗があっても不規則模様を失わず、光による劣化を防止することで長期間に渡って使用可能な樹脂成形品およびその製造装置と製造方法を提供する。 - 特許庁
To assure an opening diameter of a contact hole using a material which can be used with a current semiconductor device even a dislocation takes place at exposure of a contact hole and a wiring groove pattern, related to a dual damascene method.例文帳に追加
デュアルダマシン法において、現在の半導体装置で使用可能な材料を用いて、コンタクトホールと配線溝パターンの露光の際に目ズレが生じても、コンタクトホールの開口径を確保する。 - 特許庁
To provide a transfer sheet in which a pattern caused by transfer can be formed with satisfactory shape accuracy without a layer including a photocatalyst being left on a device substrate side, and to provide a method of manufacturing the transfer sheet.例文帳に追加
光触媒を含む層を装置基板側に残さずに形状精度良好に転写によるパターンを形成することが可能な転写シート、および転写シートの作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inkjet recording apparatus capable of easily grasping the inclination of a printing head and a method for recording its dot pattern without bringing about an increase in image data and complication of control of driving.例文帳に追加
本発明は、画像データの増大や駆動制御の複雑化を招くことなく、印刷ヘッドの傾きを容易に把握できるインクジェット記録装置およびそのドットパターン記録方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for improving appearance quality by reducing surface reflection, and preventing an opening associated with integration processing and color tone change between parts of an electrode pattern from becoming eye-catching, in a solar cell.例文帳に追加
太陽電池において、表面反射の低減や集積化加工に伴う開孔、電極パターンの部分間での色調変化を目立たなくして、外観品質の向上を図る方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a shadow mask wherein variations do not occur in the size of a photo-resist film opening part by making an exposure light entering into the mask for pattern exposure uniform.例文帳に追加
パターン露光用マスクに入射する露光光を均一とすることで、形成されるレジスト膜開口部の寸法にバラツキの生じないシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a hardening component for a transferring material which is preferable to a nano-imprint method that the selectivity of a dry etching speed of an argon gas and an oxygen gas is high and can form a fine pattern with a high throughput.例文帳に追加
アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device capable of preventing a streaky display defect caused by that a rubbing roll repeatedly abuts on a pattern position such as a positioning mark, and to provide a method for manufacturing the display device.例文帳に追加
位置合わせマーク等のパターンの個所にラビングロールが繰り返し当接することに起因するスジ状の表示不良を防止することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A patterning method for forming a straight grain pattern comprises the steps of lightly pressing a patterning tool having the above patterning material to a work piece coated with a grain patterning coating material and sliding the tool straightly.例文帳に追加
木目付け塗料を塗布した被加工材に対して、前記の模様付け材を備えた模様付け具を軽く押しつけてほぼ直線的に摺動させ、柾目模様を形成する模様付け方法。 - 特許庁
To provide a method for processing a housing member of mask blank, suitable for a mask blank having a chemical amplification resist mask and keeping stable resist performance for forming a desired mask pattern.例文帳に追加
化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供する。 - 特許庁
To provide a system and method that allow an array of individually controllable elements to be formed in which the size of the individually controllable elements used for the pattern forming means in a lithographic apparatus can be reduced.例文帳に追加
リソグラフィ装置のパターン形成手段に用いる、個別制御可能要素のサイズを縮小できる個別制御可能要素のアレイを構成可能にするシステム及び方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a raising/lowering processing method for preparing the image of a more beautiful construction material pattern by desirably raising and lowering the image of the construction material obtained as digital data.例文帳に追加
デジタルデータとして入手した建材柄画像に対して、好ましい抑揚を加えることにより、より良い美感を有する建材柄画像を作成する抑揚付け処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
The imprint method comprises filling an irregular pattern of an imprint mold with a resin before pressing the imprint mold onto a transfer substrate, and performing preliminary curing in the filled state.例文帳に追加
本発明のインプリント法は、インプリントモールドと転写基板を圧着する以前にインプリントモールドの凹凸パターン内に樹脂を充填し、充填した状態で予備硬化を行うことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a heat treatment method and its apparatus which activate an ion-implanted impurity without changing the profile of the impurity as well as without causing a problem of a pattern volatilization, etc.例文帳に追加
イオン注入した不純物のプロファイルを崩すことなく、また、パターンの揮発などの問題を起こすことなく注入された不純物を活性化する熱処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁
Constituents bound to the sensor array are directly determined by measuring the mass increase on the surface, and data analysis of the method is performed using neutral network or statistics based pattern recognition techniques.例文帳に追加
センサーアレイに結合した成分をその表面上の質量の増加を測定することによって直接決定し、データ解析を神経回路網または統計学に基づいたパターン認識法を用いて行う。 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
g線、i線、KrFエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも2種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a method of manufacturing a semiconductor excellent in reliability which cancels the variations of a pattern dimension certainly by correcting appropriately the deviation of a light exposure and a focus.例文帳に追加
露光量およびフォーカスのずれを適切に補正して、パターン寸法の変動を確実に解消することができる信頼性にすぐれた半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。 - 特許庁
A method and apparatus for composing an illumination pattern includes a user interface 102 capable of receiving input commands 106, wherein the input commands 106 are directed to the selection of at least one illumination region.例文帳に追加
点灯パターンを作成するための方法と装置は、入力コマンド106を受け取ることができるユーザーインターフェース102を含み、入力コマンドは少なくとも一つの点灯領域の選択に向けられる。 - 特許庁
The method for knitting the patterned knitted fabric, characterized by changing the tension applied to the fed knitting yarn with a tension-changing device 30 during the knitting operation, thus forming the pattern comprising loop length-different portions in the knitted fabric.例文帳に追加
その編成方法は、張力変動装置30により編成中に給糸張力を変動させることによって、ループ長の異なる部分からなる柄を編地に形成するものである。 - 特許庁
To provide a method of setting two of an exposure quantity tolerance, a pattern size tolerance, and a defocusing tolerance (set tolerances) and designing a photomask according to an expected value of the remaining tolerance (unset tolerance).例文帳に追加
露光量裕度、パターンサイズ裕度及びデフォーカス裕度の内の2つを設定(設定裕度)し、残りの裕度(未設定裕度)の期待値に基づきフォトマスクを設計する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a spiral pattern membrane element capable of effectively preventing adhesion from deteriorating at sealed sections while maintaining an effective membrane area without extending the coating width of an adhesive and its manufacturing method.例文帳に追加
接着剤の塗布幅を広げずに、有効膜面積を維持しながら、封止部における接着力の低下を効果的に防止することができるスパイラル型膜エレメント、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The transfer film where the laminated film having an adhesive resin layer, an inorganic vapor deposition layer and a resist layer is formed on a support film, and the forming method of the inorganic pattern using the transfer film are provided.例文帳に追加
粘着樹脂層、無機蒸着層およびレジスト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されている転写フィルムと、当該転写フィルムを用いた無機パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a ceramic green sheet capable of preventing generation of delamination between a ceramic green sheet and a conductive pattern in case of laminating both.例文帳に追加
本発明は、セラミックグリーンシートと導体パターンとを積層した場合における両者間のデラミネーションの発生を抑制できるセラミックグリーンシートの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a method for preparing a microembossed sheet which a microembossing pattern can be accurately transferred on and can be easily peeled off from a microembossing roll and its apparatus.例文帳に追加
マイクロエンボスパターンの転写を正確に行うことができると共に、マイクロエンボスシートのマイクロエンボスロールからの引き剥がしを容易に行うことができるマイクロエンボスシートの製造方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
To pattern a transparent conductive thin film laminated product comprising a transparent, high-refraction factor thin film layer and a transparent metal thin film layer by a fine patterning dry etching method.例文帳に追加
透明高屈折率薄膜層と透明金属薄膜層からなる透明導電性薄膜積層体を反応ガスを用いたドライエッチング手法により、微細なパターニドライエッチング法を用いてパターニングする。 - 特許庁
To provide an etching device and method for obtaining the sidewall of a silicon nitride film, having film thickness and height sufficient for electrical insulation at the sidewall part of a pattern having a step in level.例文帳に追加
段差のあるパターンの側壁部において電気的絶縁のために十分な膜厚と高さを有するシリコン窒化膜のサイドウォールを得られるように改良されたエッチング装置および方法を提供する。 - 特許庁
This method includes a stage where a metal plate is formed into a product shape and simultaneously the rugged pattern is worked at least in a portion of the surface of the product shape.例文帳に追加
金属板材を製品形状に成形すると同時に当該製品形状の表面の少なくとも一部に凹凸模様を加工する工程を含むことを最も主要な特徴としている。 - 特許庁
The method comprises utilizing a stress-assisted rolling process for a microstructure phase film layer to form a microstructure phase film pattern with a plurality of openings and a plurality of phase retarder patterns.例文帳に追加
この方法は、マイクロ構造位相フィルム層に対する応力アシスト圧延プロセスを利用して複数の開口部および複数の位相リターダパターンを備えたマイクロ構造位相フィルムパターンを形成するステップを含む。 - 特許庁
Furthermore, when manufacturing an X-ray mask, at least the Ta of the absorber pattern 11 is formed by a sputtering method, by a plasma of electron cyclotron resonance.例文帳に追加
さらに、X線マスクを作製する場合に、少なくとも吸収体パタンのTaを電子サイクロトロン共鳴によるプラズマを用いたスパッタ法により形成する工程を含むX線マスクの製造方法とする。 - 特許庁
To provide a method of detecting a defect position of a semiconductor wafer, in which a defect such as chipping smaller than a notch and cracking in a wafer outer peripheral region off a pattern can be precisely detected.例文帳に追加
ノッチより小さい微細な欠けやパターンから外れたウエハ外周領域の割れなどの欠陥を精度よく検出することができる半導体ウエハの欠陥位置検出方法を提供する。 - 特許庁
To provide a wet etching method where a correct pattern shape and excellent dimensional precision can be obtained by increasing adhesion between a metal-deposited layer and a resist ink for wet etching.例文帳に追加
金属蒸着層とウェットエッチング用レジストインクとの密着性を高めることにより、正確なパターン形状ならびに優れた寸法精度を得ることを可能にするウェットエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring circuit board with a metal support layer in which inspection can be made accurately as to whether or not a conductor pattern is acceptable, and to provide a wiring circuit board.例文帳に追加
金属支持層を備える配線回路基板において、導体パターンの良否を精度よく検査することができる配線回路基板の製造方法、および、配線回路基板を提供すること。 - 特許庁
A random number signal is added to the noise generation position of an imaging signal for disturbance, thus changing the fixed pattern noise into random noise for eliminating by a noise elimination method utilizing adjacent pixel correlation and frame one.例文帳に追加
撮像信号のノイズ発生位置に乱数信号を加算し攪乱することで、固定パターンノイズをランダムノイズ化し、隣接画素相関やフレーム相関を利用したノイズ除去方法で除去する。 - 特許庁
The method also comprises the steps of thereafter electrolytic copper plating the entire surface of the laminate 25 thinner than the plating layer 27 to form a copper plating layer 41, forming a required conductor pattern 42, thereby obtaining the printed circuit board 40.例文帳に追加
その後、積層体25の全面を前記銅めっき層27よりも薄く電解銅めっきして銅めっき層41を形成し、所要の導体パターン42を形成してプリント配線板40を得る。 - 特許庁
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