「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(364ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method therefor comprises a forming process for forming a pattern including wiring, TFTs, or the like on the TFT array board, and a process for forming an interlayer insulating film by a high density plasma CVD on the top side of the projecting parts constructed by the presence of the above pattern in the gap area between pixel electrodes adjacent to each other.例文帳に追加

その製造方法は、ＴＦＴアレイ基板上に、配線やＴＦＴ等を含むパターンを形成する形成工程と、相隣接する画素電極の間隙となる領域に、上記パターンの存在によって構築された凸部の上側に、高密度プラズマＣＶＤによって層間絶縁膜を形成する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor device double-sided wiring tape carrier for which high conduction reliability between conductive foil sheets coating both sides of an insulating tape is secured, finer pitch of a wiring pattern formed on the conductive foil sheets is achieved, excellent yield is obtained when the wiring pattern is formed, and flexibility is improved; and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

絶縁テープの両面を覆う導体箔間の高い導通信頼性を確保し、導体箔に形成される配線パターンのファインピッチ化を実現し、配線パターンを形成する際に良好な歩留まりを得るとともに、耐屈曲性が改善した半導体装置用両面配線テープキャリアおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The display testing device successively generates a pattern switching on one part per once imaging out of a pixel group of a display equivalent to one pixel of a camera, and uses a display testing method for detecting the defect of a region equivalent to each pixel of the camera from image data for imaging each pattern.例文帳に追加

本発明は、カメラの１画素に相当するディスプレイの画素群のうち一度の撮像につき１箇所のみ点灯するパターンを逐次生成し、各パターンを撮像した画像データからカメラ各画素に相当する領域の欠陥を検出するディスプレイ試験方式を使用することを特徴とするディスプレイ試験装置に関する。 - 特許庁

A plasma processing method of a sapphire substrate comprises executing plasma processing on a sapphire substrate, on which a mask pattern is formed by a resist film arranged on a surface, by using a mixed gas obtained by mixing a CH_2F_2 gas with a BCl_3-based gas to form, on the surface of the sapphire substrate, an uneven structure corresponding to the mask pattern.例文帳に追加

サファイア基板のプラズマ処理方法において、表面に配置されたレジスト膜によりマスクパターンが形成されたサファイア基板に対して、ＢＣｌ_３が主体のガスにＣＨ_２Ｆ_２ガスを混合した混合ガスを用いてプラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminated structure in which members are joined together via the cured product of a composition which can form the cured product of a fine adhesive pattern excellent in properties such as adhesion to various members, hardness, heat and chemical resistances, the adhesive pattern being formed by photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により精細な接着剤パターンを形成し、各種部材に対する接着性、硬度や耐熱性、耐薬品性等の特性に優れる接着剤パターンの硬化物を形成できる組成物の硬化物を介して部材同士が接合された積層構造物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate with a metal pattern, which is capable of highly accurately processing the metal pattern by using laser light, capable of processing a metal thickness film by laser light of comparatively low power and allowed to be applied also to a flat panel display such as a plasma display, and to provide a substrate with a metal laminate.例文帳に追加

レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。 - 特許庁

A signal pattern between first and second coplanar-type transmission lines (503, 513) and a ground pattern are connected to each other with the high accuracy of a μm order of the upper side (527) of a nonconductive fill for filling a gap between first and second substrate (501, 511) by printing or a vapor deposition method.例文帳に追加

第１の基板（５０１）と第２の基板（５１１）との間の空隙を充填する非導電性フィル上部（５２７）に、印刷・あるいは蒸着法を以ってμｍオーダーで精度よく第１のコプレーナ型伝送線路（５０３）と第２のコプレーナ型伝送線路（５１３）との信号パターン、及びグラウンドパターンをそれぞれ接続させる。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink, being a low temperature processing type electroconductive ink, capable of forming an extremely fine electroconductive pattern by screen printing, moreover requiring no specialized production process, and excellent in resistance value stability; to provide a laminate with the electroconductive pattern using the electroconductive ink; and to provide a method for producing the laminate.例文帳に追加

低温処理型の導電性インキであって、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキ、及びそれを用いた導電パターン付き積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an electroformed body which has a concave part on the surface thereof and in which a metal layer comprising a metallic material different from that of the electroformed body is formed on the bottom of the concave part so that a pattern of the concave part has optional design properties such as a letter and a picture pattern, decorative properties and visibility and to provide a method for producing the electroformed body.例文帳に追加

表面に凹部を有する電鋳体であり、電鋳体とは異なる金属材料からなる金属層が前記凹部底部に形成されており、前記凹部のパターンを文字、絵模様等任意のデザイン性、装飾性、視認性を有する0ものとする電鋳体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of generating at least one pattern on the upper surface of a support body 1 made of a substance showing first thermal conductivity includes a process of arranging a mask 7 made of a substance which shows second thermal conductivity and including at least one hole part 8 having a shape corresponding to the shape of the pattern.例文帳に追加

第１熱伝導率を示す物質から作られる支持体１の上面上に少なくとも１つのパターンを作成する方法は、第２熱伝導率を示し、且つ、パターンの形状に対応する形状を有する少なくとも１つの孔部８を含む物質から作られるマスク７を配置する工程を含む。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, by which in double patterning according to LLE, a hydrophobic treatment can be readily conducted on a peripheral portion of the substrate without dissolving or transubstantiating a first resist pattern before execution of a second patterning processing after formation of the first resist pattern in a first patterning processing.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングにおいて、１回目のパターニング処理により１回目のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニング処理を行う前に、１回目のレジストパターンを溶解又は変質させずに、基板の周縁部に対して容易に疎水化処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.例文帳に追加

感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has excellent color purity, heat resistance and light resistance and which can be formed into a thinner layer: a color resist having favorable pattern formability; inkjet ink having excellent jetting stability; and a color filter having a favorable pattern shape and a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

色純度に優れ、耐熱性、耐光性に優れ、薄層化が可能な着色硬化性組成物を提供し、パターン成形性の良好なカラーレジスト、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、およびこれを用いたパターン形状の良好なカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an etchant that can etch a fine pattern without generating bubbles during etching at room temperature, can be easily removed by washing with water when it becomes no more necessary after etching, and can achieve an extremely precise pattern of a transparent conductive film without residual etching portions and overetched portions while having excellent electric properties, and also to provide a method of etching.例文帳に追加

常温にて、エッチングの際に、泡立ちがなくて微細パターンのエッチング入り、およびエッチング後、不要になったエッチング液の水洗浄除性が優れており、エッチング残り、およびオーバーエッチングのない高微細精度の電気特性が優れた透明導電膜のパターンが得られるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a connection member in which pitch accuracy between through-holes formed between pattern body parts is improved, and connection reliability between a mating member is enhanced by improving accuracy in the pitch dimension between the pattern body parts in the vicinity of positions of forming the through-holes, and also to provide a method of manufacturing the connection member.例文帳に追加

パターン本体部間に形成される貫通孔間のピッチ精度を向上するとともに、貫通孔の形成位置付近におけるパターン本体部間のピッチ寸法精度を向上して、相手側部材との間における接続信頼性を向上する接続部材および接続部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition for forming a pattern having excellent roughness characteristics and dry etching resistance when an ArF excimer laser, an electron beam, an X-ray, an EUV and the like are used as an exposure light source, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

According to the present embodiment, the rotary device can be produced that narrows down a bearing gap and improves the efficiency of raking up the lubricant to increase the dynamic pressure by reducing the deformation of the shape of the protrusions of the thrust dynamic pressure pattern and the variation in the height of the protrusions when forming the thrust dynamic pressure pattern in a method of producing the rotary device.例文帳に追加

この態様によると、回転機器を生産する方法においてスラスト動圧パターンを形成する際にスラスト動圧パターンの凸部の形状の崩れや凸部の高さのバラツキを低減でき、軸受隙間を狭くすると共に潤滑剤のかき集めの効率を向上して動圧を高め得る回転機器を生産できる。 - 特許庁

A display control board for managing control of a display device of a game machine selects, as a principle, one of three notice modes (sensing information modes) which are no-notice, a notice pattern A and a notice pattern B based on a random selecting method (S103, S107) using random number values, and displays an image on the notice based on the selection.例文帳に追加

表示装置の制御を司る表示制御基板は、原則として、乱数値を用いた無作為的な選択手法(S103,S107)に基づいて、予告無し、予告パターンＡ及び予告パターンＢという三つの予告態様（感知情報態様）の中から一つを選択し、その選択に基づいて予告に関する画像表示を行う。 - 特許庁

The press-forming method comprises forming the molding material into a corner-protruding shape, and forming a concave-convex pattern on each outer surface of the molding material with a concave-convex pattern forming part mounted on each of two shaping molds corresponding to two outer surfaces on the protruding corner sides of the molding material.例文帳に追加

成形材料を出隅形状に成形し、この成形材料の出隅側の二つの外面に対応する二つの成形型を用いて、成形材料の各外面に各成形型に設けた凹凸模様賦型部によって凹凸模様を成形するようにした出隅役物用成形材料のプレス成形方法に関する。 - 特許庁

The film thickness measuring method forms a laminated film L0 by integrating an adhesion layer L1 comprising film thickness T1 on a substrate S including a mask pattern M by forming the mask pattern M on the substrate S, a measuring object layer Lm, and a protection layer L2 comprising film thickness T2 by having higher mechanical strength than the measuring object layer Lm in order.例文帳に追加

基板Ｓの上にマスクパターンＭを形成し、マスクパターンＭを含む基板Ｓの上に膜厚Ｔ１からなる密着層Ｌ１と、測定対象層Ｌｍと、測定対象層Ｌｍよりも高い機械的強度を有して膜厚Ｔ２からなる保護層Ｌ２とを順に積層して積層膜Ｌ０を形成した。 - 特許庁

The pattern matching method and apparatus for carrying out pattern matching between design data and the image taken by a scanning electron microscope converts the design data into a bitmap, and carries out the matching between the bitmapped design data and the image taken by a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a component configuration for reducing a packaging surface and thinning the thickness of a film incorporating components when incorporating the chip component into a substrate, and manufacturing method for accurately packaging and incorporating such chip passive component as an LCR by forming a fine wiring pattern on a circuit board and at the same time forming the connection with the wiring pattern.例文帳に追加

チップ部品を基板に内蔵するにあたって実装面積が小さく、部品内蔵層厚が薄くできる部品構成、及び回路基板に微細な配線パターンを形成しつつ、配線パターンとの接続を形成しながらＬＣＲ等のチップ受動部品を正確に実装、内蔵する製造方法を提供する。 - 特許庁

In this circuit formation method, a static electricity latent image in a circuit pattern is formed on the surface of a photoreceptor 1, charged powder for forming a circuit is deposited electrostatically on the static electricity latent image, and an image by the charged powder for forming circuits in a circuit pattern shape is transferred onto a ceramic green sheet 10 before fixing by heat.例文帳に追加

感光体１の表面に回路パターン状の静電潜像を形成し、その静電潜像に回路形成用荷電性粉末を静電的に付着させ、回路パターン状の回路形成用荷電性粉末による像をセラミックグリーンシート１０上に転写させた後、熱によって定着させる回路形成方法である。 - 特許庁

A method for deciding the optical quality of a reflecting product 12 includes a step of reflecting a first gray scale pattern 26 from the product 12, a step of picking up the first image of the pattern 26 by means of an image pickup device 24, and a step of deciding the optical quality of the product 12, based on the data obtained from the image.例文帳に追加

反射製品の光学品質を決定する方法が、第１のグレースケール・パターン26を製品12から反射させる工程、第１パターンが製品から反射した後、撮像装置24で第１パターン26の第１画像を得る工程及び、第１画像から得られたデータに基き、製品の光学品質を決定する工程、を含む。 - 特許庁

An ink-jet method using a liquefied substance containing conductive particles as an ink at a normal temperature is used for the formation of the conductive pattern 411 (including 412, 414), the conductive particles are made to contact with one another by drying and solidifying this ink, and thus the conductive pattern 411 (including 412, 414) is formed.例文帳に追加

この導通パターン４１１（４１２，４１４も）の形成には、常温では導電性粒子を含有した液状物をインクとするインクジェット法が用いられ、当該インクを乾燥固化させることにより導電性粒子を相互接触させて、導通パターン４１１（４１２，４１４含）が形成されている。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.例文帳に追加

超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

In the optical imprint method, employing the imprint mold, exposure light is coherent light, and the total of the cross-sectional dimension of a convex pattern part and the cross-sectional dimension of a concave pattern part is equal to an optical path length corresponding to the half wavelength of the coherent exposure light or the odd number times of the half wavelength, is used.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドを用いた光インプリント法は、露光光がコヒーレントな光であり、凸パターン部の断面寸法と凹パターン部の断面寸法の合計が、コヒーレントな露光光の半波長または半波長の奇数倍に相当する光路長と等しいインプリントモールドを用いることを特徴とする。 - 特許庁

In the device and method for adjusting the stereoscopic image display device, a test pattern image is projected on a screen 26 via an aperture member 36 attached to a center projector 24e via the projection lens 28e, and the position of the projection lens 28e is adjusted so that an appropriate test pattern image is obtained.例文帳に追加

本発明は、立体画像表示装置の調整装置及び調整方法に関するものであり、中央のプロジェクタ２４ｅに投影レンズ２８ｅを介して装着したアパーチャ部材３６を介してスクリーン２６にテストパターン画像を投影し、適切なテストパターン画像が得られるように、投影レンズ２８ｅの位置を調整する。 - 特許庁

In the imaging apparatus and the image working method, one or a plurality of mask patterns are registered in advance, a desired pattern is selected out of the one or plurality of registered mask patterns, and part of the photographed image is cut out using the pattern to obtain a cut-out image (B) and combined with a stored image (A) (C).例文帳に追加

本発明の撮像装置および画像加工方法によれば、（複数の）マスクパターンを登録しておき、登録した（複数の）マスクパターンの中から所望のパターンを選び、そのパターンを用いて撮影画像の一部を切り抜いて切抜き画像とし（図６（Ｂ））、記憶画像（図６（Ａ））に合成することができる（図６（Ｃ））。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can prevent a parasitic capacity increase of a conductive pattern due to a thickness increase of a barrier film by preventing a contact resistance of a portion connected with N-type conductive region from increase in forming the conductive pattern directly connected with the N-type conductive region containing silicon.例文帳に追加

シリコンを含むＮ型の導電領域と直接接続される導電パターンの形成時に、Ｎ型の導電領域と接続される部分のコンタクト抵抗の増大を防止し、バリア膜の厚さ増大に伴う導電パターンの寄生容量の増大を防止できる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition used for manufacture of a color filter by an ink-jet system which makes a forming process of a pixel pattern simple and low-cost, a color filter having the pixel pattern formed with the resin composition by the ink-jet system and a method for manufacturing the color filter by the ink-jet system utilizing the resin composition.例文帳に追加

画素パターンの形成工程が簡便で低コストのインクジェット方式によりカラーフィルタを製造するために用いる樹脂組成物、該樹脂組成物からインクジェット方式により形成された画素パターンを有するカラーフィルタ、および該樹脂組成物を用いるインクジェット方式によるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22.例文帳に追加

薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a photomask for avoiding occurrence of pattern defects and patterns beside specification caused by foreign matter or contamination of a photomask and for decreasing the frequency of exchanging photomasks in a process of forming a pattern constituting a color filter by exposure and development of a photoresist coating film through a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを介したフォトレジストの塗布膜への露光、現像処理によりカラーフィルタを構成するパターンを形成する際に、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの欠陥及び規格外のパターンの発生を回避するフォトマスクの交換頻度を減少させるフォトマスクの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In the method of creating the service map, service transaction repository related to the same service transaction on at least two functions is determined, a data feature pattern in the service transaction repository is determined, and the service map for associating the determined data feature pattern with the service is determined.例文帳に追加

本発明のサービスマップを生成する方法は、少なくとも二の機能上同一のサービストランザクションと関連付けられるサービストランザクションリポジトリを決定し、前記サービストランザクションリポジトリにおけるデータ特徴パターンを決定し、決定された前記データ特徴パターンとサービスとを関連付けるサービスマップを決定する。 - 特許庁

Further, the groove part DH is formed on the dry film 14 on a pattern inclusion layer PL by the photolithography method by which the back face 11r of the glass substrate 11 is exposed to light by using the pattern inclusion layer PL composed of the residual part of the gold 15 and the dry film 14 as a mask, and further the gold 15 is imbedded to the groove part DH.例文帳に追加

さらに、この金１５とドライフィルム１４の残部から成るパターン含有層ＰＬをマスクとし、ガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、このパターン含有層ＰＬ上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、さらに金１５でその溝部ＤＨを埋める。 - 特許庁

The method further includes a step of setting to the change pattern for correcting the basic torque Tmbase so as to suppress the rotation of the engine when the crank angle θ is in a position exceeding a target stopping position, and setting the change pattern for correcting the basic torque Tmbase so as to accelerate the rotation of the engine when at a position not reaching the target stopping position.例文帳に追加

クランク角θが目標停止位置を超える位置である場合にはエンジンの回転を抑制するように基本トルクＴｍｂａｓｅを補正する変動パターンとし、目標停止位置に届かない位置である場合にはエンジンの回転を促進するように基本トルクＴｍｂａｓｅを補正する変動パターンとする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method and a pattern drawing device which are capable of realizing uniform exposure without elongating a drawing time even if an energy variation is large in the pulse laser beam of a light source when a gray scale is reproduced through the frequency of overlapping spots in the laser beam drawing device using a digital mirror device.例文帳に追加

デジタルミラーデバイスを用いたレーザビーム描画装置におけるスポットの多重回数でグレースケールを再現する場合に、光源のパルスレーザ光のエネルギーばらつきが大きくても、描画時間が長くならずに、均一な露光量を得ることが可能なパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。 - 特許庁