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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003件



例文

PROCESSED PIGMENT, PIGMENT DISPERSION COMPOSITION USING THE SAME, COLORED ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT, COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND SOLID STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

加工顔料、並びに、これを用いた顔料分散組成物、着色感活性光線性又は感放射線性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子用カラーフィルタ、固体撮像素子 - 特許庁

To provide a polymer for a resist, having high sensitivity and high resolution, and hardly causing defects and line edge roughness at development; to provide a method for producing the polymer for the resist; to provide a resist composition containing the polymer for the resist; and to provide a method for producing a pattern by using the resist composition.例文帳に追加

高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

MASKING METHOD AND CORRECTING METHOD FOR OUTPUT EVENT OF BIDIRECTIONAL SIGNAL IN TEST PATTERN FILE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDING MASKING PROGRAM AND CORRECTING PROGRAM FOR OUTPUT EVENT OF BIDIRECTIONAL SIGNAL例文帳に追加

半導体集積回路のテストパターンファイルにおける双方向信号の出力イベントのマスキング方法と修正方法および双方向信号の出力イベントのマスキングプログラムと修正プログラムとを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a waveform generator, a signal generation apparatus therewith, a waveform generation method and a signal generation method that keep phase continuity at connection parts of a waveform pattern sequence while reducing a frequency offset of each bit data.例文帳に追加

各ビットデータの周波数オフセットの発生を低減しつつ、波形パターン列の接続部の位相を連続にすることができる波形発生器及びそれを備えた信号発生装置並びに波形発生方法及び信号発生方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a photomask, manufacturing method of photomask and manufacturing method of semiconductor device which can improve a resist shape on a wafer after a photomask pattern exposure, and obtain sufficient defect detection sensitivity in the defect inspection of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスクの欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁


例文

FILM TYPE SEMICONDUCTOR PACKAGE PROVIDED WITH TEST PAD HAVING SHARED OUTPUT CHANNEL, TEST METHOD FOR FILM TYPE SEMICONDUCTOR PACKAGE, TEST DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE PROVIDED WITH PATTERN SHARED WITH TEST CHANNEL, AND TESTING METHOD IN SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

出力チャンネルが共有されるテストパッドを備えるフィルム型半導体パッケージ及びフィルム型半導体パッケージのテスト方法、テストチャンネルが共有されるパターンを備えるテスト装置及び半導体装置、並びに半導体装置におけるテスト方法 - 特許庁

An automatic moving carriage on which a range finder and a CCD camera are mounted is guided by recognizing pictures from the camera by the number counting method based on the shapes and the pattern matching method of the similar shapes by using the data of the range finder from stored maps and routes.例文帳に追加

距離計とCCDカメラを取り付けた自動移動台車を、記憶している地図と経路から距離計のデータを使い、カメラからの画像を概形による個数の数え上げ法と相似形状のパターンマッチング法によって認識して誘導する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the member for a display, a pattern obtained by exposing and developing two kinds of photosensitive paste containing the low- melting glass and the filler having an average particle diameter of 0.005-0.08 μm by a photolithography method is baked to form the barrier.例文帳に追加

また、低融点ガラス、平均粒子径が0.005〜0.08μmのフィラーを含有する2種類の感光性ペーストをフォトリソグラフィ法によって露光、現像し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法である。 - 特許庁

To provide an automatic guided vehicle, an automatic guided vehicle operation system and its control method comprising a pattern means and its detecting means facilitating detection of an own absolute position without degrading a recognition rate by a simple sensing method.例文帳に追加

単純なセンシング方法により、認識率を低下させずに簡便に自己の絶対位置の検出が可能となるパターン手段およびその検出手段を備えた、無人搬送車、無人搬送車運転システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method for producing a phosphor screen of a cathode-ray tube, and a method for manufacturing a cathode-ray tube, capable of eliminating deviation between an electron beam track and a phosphor layer pattern after the inside of the cathode-ray tube is vacuum-pumped, so that color deflection is reduced in use.例文帳に追加

陰極線管内部を真空排気した後の電子ビーム軌道と蛍光体層パターンとのずれをなくし、使用に際して色ズレが少ない陰極線管の蛍光面の作製方法および陰極線管の製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a method for manufacturing a tacky adhesive molded article by sterically printing a reticulated pattern or the like on a release paper or the like by using a tacky adhesive, special ink through a method such as screen printing or the like, fixing and subsequently separating the obtained molded article from the release paper before it is used.例文帳に追加

網目状等の形状を粘着性の特殊インキを使用して剥離紙等にスクリーン印刷等の方法で立体的に印刷し、定着した後に剥離紙から剥離して使用する粘着性成型品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which an ink-jet method is used, the generation of an ink mist is restrained and a dotted color blend among pixels, defective chromaticity and a defective pattern can be prevented beforehand, which are caused by the ink mist, can be prevented beforehand.例文帳に追加

インクジェット法によるカラーフィルタの製造方法において、インクミストの発生を抑制し、インクミストの影響による画素間のドット状混色や色度不良、パターン不良を未然に防止することのできるカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a refractive index variable composition in which the refractive index of the material is varied by an easy method and a refractive index difference can be varied in a desired positive or negative direction, and to provide a method for forming a refractive index pattern from the composition.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、屈折率差を正または負の任意の方向に変化することができる屈折率変化性組成物および該組成物から屈折率パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for EL element evading a state where excessive layers are laminated on each light emitting part formed in a pattern when the light emitting part is formed by using a photo lithography method and carrying out peeling easily and speedily.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法を用いて発光部を形成する際に、パターン状に形成された各発光部上に何層も余分な層が積層されている状態を回避し、剥離を容易かつ迅速に行うEL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for applying the insect pest-repelling processing to the printed circuit board, characterized by forming a conductive layer on a substrate according to a circuit pattern, disposing a solder resist and then printing the treated printed circuit board by an ink jet method using a heat- meltable ink which contains an insect pest-repelling agent and is solid at the ordinary temperature.例文帳に追加

基材上に配線パターンに従って導電性層を形成し、ソルダレジストを設けた後のプリント配線板に、害虫忌避剤を含有する常温で固体の熱溶融インクを用いたインクジェット方式により印字する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of reducing development defect due to deposition of a resist film and re-adhesion of a semi-insoluble material in a developing and rinsing process with a normal hardware environment, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

通常のハード環境のままで、現像、リンス工程において、レジスト膜の析出及び半不溶化物の再付着による現像欠陥を低減させることができるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device of simulation capable of designing an aperture so as to obtain an optimum resolution and DOF and a recording medium where the method of simulation is recorded which can be read out by a computer, considering the layout status of a circuit pattern in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びDOFを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。 - 特許庁

This method of forming a printed circuit pattern is characterized by including processes of: forming a guide by using this guide-forming ink having a slip property; curing the formed guide by in-situ UV; and forming a printed circuit pattern on the inside of the cured guide by using a metal ink.例文帳に追加

スリップ特性を有するガイド形成用インクでガイドを形成する工程と、上記形成されたガイドをin−situ UV硬化する工程と、上記硬化されたガイドの内側に金属インクを用いて印刷回路パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする印刷回路パターンの形成方法である。 - 特許庁

The record reproducer along with the record reproducing method utilizing this reproducer comprises a means for holding edit pattern information including repetitively usable edit position information, a means for acquiring contents information, and a means for editing the acquired contents information, based on the edit pattern information.例文帳に追加

繰返し利用可能な編集位置情報を含む編集パターン情報を保持する手段と、コンテンツ情報を取得する手段と、取得したコンテンツ情報を編集パターン情報に基づいて編集する手段とを有する記録再生装置及び同装置を利用した記録再生方法などを提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which is high in sensitivity and excellent in LER, exposure latitude and pattern shape, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

高感度であること、LERが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this analysis method, a semiconductor wafer is measured for every chip by measuring means 1, and wafer map data 6 of the semiconductor wafer are formed based on the data resulting from the measurement for every chip, and the pattern of this wafer map data 6 of the semiconductor wafer is compared with the image pattern formed for every defective factor and stored in a memory part.例文帳に追加

半導体ウエハを測定手段1でチップ毎に測定し、その測定によるチップ毎の測定結果のデータによって、半導体ウエハのウエハマップデータ6を作成し、この作成したウエハマップデータ6のパターンと予め不良要因毎に作成されて記憶部に格納されている画像パターンとを比較する。 - 特許庁

To provide a sample image length measurement method by which the measurement area can be set by easily, quickly and surely performing matching of a plurality of standard images and the sample image even when the obtained sample images are various on the basis of a pattern forming condition of a pattern forming device such as a stepper.例文帳に追加

例えばステッパーのようなパターン形成装置のパターン形成条件により、得られる試料像にばらつきがある場合であっても、簡便、迅速、かつ、確実に、複数の基準画像と試料像のパターンとのマッチングを行うことにより測定領域を設定することのできる試料像測長方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a step of performing a first exposure for partly forming the image of a pattern and a step of performing a second exposure for partly forming an image of the pattern, and at least either the first or the second exposure is performed, using an illumination mode substantially having a bipolar intensity distribution.例文帳に追加

パターンを部分的に結像するために、第1感光を行う段階と、パターンを部分的に結像するために、第2感光を行う段階とを含み、しかも、上記第1と第2の感光のうちの少なくとも一方を、実質的に双極強度分布を有する照明モードを使用することで行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed-wiring board for restraining the generation of non-bonding or a void at a pattern gap when forming solder resist, and at the same time for restraining the generation of void when injecting a sealing resin into the gap between packaging components and a substrate in a printed-wiring board having a narrow-pitch pattern.例文帳に追加

狭ピッチのパターンを有するプリント配線板において、ソルダレジストを形成する際、パターン間隙での未着、ボイドの発生を抑えるとともに、実装部品と基板の隙間に封止樹脂を注入する際、ボイドの発生を抑えたプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method includes an imprinting step of pressing a mold 5 formed with a rugged pattern in the lower clad layer 2 after coating of the lower clad layer 2 and transferring the rugged pattern to the lower clad layer 2, and a printing step of printing the core layer 3 in a recessed part 6 formed on the surface of the lower clad layer 2 by the imprinting step.例文帳に追加

下部クラッド層2の塗工後に、下部クラッド層2に凹凸パターンが形成されたモールド5をプレスして、凹凸パターンを下部クラッド層2表面に転写するインプリント工程と、インプリント工程により下部クラッド層2表面に形成された凹部6内に、コア層3を印刷する印刷工程と、を含む。 - 特許庁

The erroneous enclosing detection method goes through an envelope thickness measurement process S3, a detection target thickness measurement process S4, an identical pattern data detection process S17, a primary envelope thickness discrimination process S7, a secondary envelope thickness discriminating process S8, a pattern data update process S10, and a temporary storage process S9.例文帳に追加

誤封入検出方法において、封筒厚さ測定工程S3と、検出対象厚さ測定工程S4と、同一パターンデータ検出工程S17と、第一次封筒厚さ判別工程S7と、第二次封筒厚さ判別工程S8と、パターンデータ更新工程S10と、一時記憶工程S9とを経る。 - 特許庁

To provide a polymeric compound appropriate for a base resin of a positive resist material having a high resolution exceeding a conventional positive resist material, an excellent pattern shape after exposure, and further exhibiting excellent etching resistance, particularly of a chemically amplified positive resist material, a positive resist material and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having resistance to noble metal plating in a neutral to alkaline cyanide plating bath and excellent in resolution, adhesion and resist removability, a photosensitive resin laminate using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate, and uses of the resist pattern.例文帳に追加

中性〜アルカリ性のシアン浴での貴金属めっきに耐え、解像度、密着性、レジスト剥離性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for retreading for realizing a suitable front and rear end connecting state by adopting pattern aligning without irregular wear or without release of a connecting part, and automatically efficiently regulating an elongation or a contraction of a tread member at a winding time in the pattern aligning over an entire length in a uniform state.例文帳に追加

接合部の偏摩耗や剥離の生じないパターン整合を採用しパターン整合におけるトレッド部材の巻付け時の伸縮調整を全長に亘って均一な状態で自動的に効率良く行い適正な先後端接合状態を実現するリトレッディング方法及び装置を供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer paper, by which a transfer paper with a printed or copied transfer pattern or the like of the liking of a fuser easily obtained with the help of a color copying machine or a color printer can be manufactured and also a transfer paper enabling the transfer pattern or the like to be easily transferred to a material of whatever kind, can be manufactured and a transfer paper.例文帳に追加

本発明は誰でもが気軽にカラーコピー機やカラープリンターを用いて自分の好みの転写模様等がコピーやプリントされた転写紙を製造することができるとともに、どんな材質のものにでも容易に転写することができる転写紙の製造方法および転写紙を得るにある。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which fine permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が2次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a magnetic pattern duplication method by which a pattern is duplicated to a magnetic recording medium by applying an external magnetic field, a pre-master body comprising a magnetic material and having an irregularity formed according to a patterned part of a master body is disposed between the external magnetic field and the master body having a patterned magnetic material part.例文帳に追加

本発明は、外部磁界を与えることによりパターンを磁気記録媒体に複製する磁気パターン複製方法であって、外部磁界と磁性体部分がパターンニングされたマスター体との間に、磁性体からなり、マスター体のパターン部に合わせて凹凸が形成されたプレマスター体を配置させたことを特徴とする。 - 特許庁

This method for imparting letters or a pattern to an incense stick comprises mixing an incense stick material with a colorant having a bright color, forming an incense stick having the bright color, and then adding high heat to the surface of the incense stick to burn organic base materials such as a binder, a burning auxiliary, etc., thus imparting black letters or pattern to the incense stick.例文帳に追加

線香材料に明るい色の着色料を混入して明るい色の線香を形成し、該線香の表面に高熱を加えて線香に含まれる結合材や支燃材などの有機基材を燃焼させることにより、黒い文字又は模様を付することを特徴とする線香に文字や模様を付する。 - 特許庁

In this manufacturing method using a molding device wherein an upper die having a desired uneven design pattern and having a built-in heater is arranged oppositely to a lower die having a satin design pattern and having a built-in heater, a plastic board is fed between the upper and lower dies heated to a predetermined temperature and thereafter pressed for a predetermined period under a predetermined pressure.例文帳に追加

所望の凹凸模様パターンを有しヒータを内蔵した上型と、梨地状模様パターンを有しヒータを内蔵した下型とを対向配置した成形装置であって、所定の温度に加熱した上型と下型の間にプラ基板を供給した後、所定圧力のもとで所定時間プレスする。 - 特許庁

A method includes a step of calculating a first gray tone set of a pixel set, the first gray tone set being, corresponding to the center of a pattern disposed in a first lattice position, and furthermore, includes a step of calculating a second gray tone set of the pixel set, the second gray tone set being, corresponding to the center of a pattern disposed in a second lattice position.例文帳に追加

方法は、ピクセルセットの第一グレートーンセットを計算するステップを含み、第一グレートーンセットは第一格子位置に配置されているパターンの中心に対応し、さらにピクセルセットの第二グレートーンセットを計算するステップを含み、第二グレートーンセットは、第二格子位置に配置されているパターンの中心に対応する。 - 特許庁

This method comprises a mortar filling step of filling a mortar 2 into the defective portion 1b formed on a fair-face concrete surface 1a, a form pattern forming step of forming a form trace pattern on the portion to be restored and a gradation step of stippling a gradation coating material moderated to a desired color with an inorganic pigment.例文帳に追加

打放しコンクリート表面1aに生じた欠損部1bにモルタル2を充填するモルタル充填工程と、修復箇所に型枠跡模様を形成する型枠模様形成工程と、無機質顔料により所望の色に調整されたぼかし用塗材を叩き塗りするぼかし工程と、を有するものである。 - 特許庁

To provide a magnetic card writer capable of erasing a magnetizing pattern of a magnetic medium of the magnetic card without using an erase head and also capable of appropriately erasing the magnetizing pattern of the magnetic medium positioned in small space even if the small space is formed between magnetizing elements of a magnetic head, and to provide a magnetic card writing method.例文帳に追加

消去ヘッドを用いることなく磁気カードの磁気媒体の磁化パターンを消去することができると共に、磁気ヘッドの磁化素子間に若干の隙間があっても、その隙間の部分にあたる磁気媒体の磁化パターンを好適に消去することのできる磁気カードライタおよび磁気カードライト方法を提供する。 - 特許庁

In this finishing method for the mortar, after a finishing surface is coated with the mortar 3 as a finishing material, a pigment 4 is placed on the surface of the mortar 3 under a wet state in which the mortar 3 has not been dried yet; the arbitrary pattern 5 is formed by applying the pigment 4 to the finishing mortar 3; and a finishing coating 6 is applied onto the pattern 5.例文帳に追加

モルタルの仕上げ工法は、仕上げ面に仕上げ材としてのモルタル3を塗った後、該仕上げモルタル3が乾かない湿潤状態のうちにその表面に顔料4を載せ、該顔料4を仕上げモルタル3に塗り込んで任意の模様5を形成し、この上に仕上げ塗装6をすることである。 - 特許庁

To provide a push-button switch structure which enables improvement in workability by drying and curing patterns in a short time, to prevent dust and foreign matters from adhering, and prevent the pattern from bleeding and becoming faint and patchy, to print the pattern by a required quantity of film thickness, and to secure sufficient strength of ink, and also to provide a manufac turing method therefor.例文帳に追加

模様を短時間で乾燥・硬化させて作業性を向上させ、塵や異物等の付着、ニジミやカスレ等を抑制防止し、必要量の膜厚で模様を印刷することができ、かつ充分なインキ強度を確保できる押釦スイッチの構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fine line drawing method, a fine pattern is formed on a substrate by prior drawing of flying and adhering a fine fluid composed of a material capable of generating electric field concentration to the substrate with the use of an electric field, and subsequently, main drawing of flying and adhering a fine fluid onto the fine pattern with the use of an electric field is carried out.例文帳に追加

電界を用いて、電界集中を起こすことが可能な材料からなる微細流体を基板へ飛翔付着させる先描画によって基板上に微細パターンを形成し、続いて、該微細パターン上に、電界を用いて、微細流体を飛翔付着させる本描写を行う微細線描写方法。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度(即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたL&Sパターンと同等の解像度)で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A filter adjustment method for adjusting the property of an analog filter (111) comprises the steps of supplying a pseudo random bit pattern to the analog filter (111), calculating a cross-correlation value of the output of the analog filter (111) and the pseudo random bit pattern, and adjusting the property of the analog filter, based on the calculated cross-correlation value.例文帳に追加

本発明は、アナログフィルタ(111)の特性を調整するフィルタ調整方法において、アナログフィルタ(111)に擬似ランダムビットパターンを供給し、アナログフィルタ(111)の出力と擬似ランダムパターンとの相互相関値を算出し、算出した相互相関値に基づいてアナログフィルタの特性を調整することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resist material which shows sufficient transparency when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used for the manufacture of a semiconductor device, which reduces a pattern dimension by flow baking, and which is easily controlled for the flow amount and a flow figure, and also to provide a method for forming a pattern in the resist material.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つフローベークでパターン寸法を小さくすることが可能で、フロー量、フロー形状が制御し易いレジスト材料及びそのパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This method includes the step of forming a concave/convex pattern in the surface of a 2P resin layer formed on a flat substrate, the step of forming a recording layer on the concave/convex pattern, and the step of peeling the flat substrate from the 2P resin layer after the 2P resin layer and the recording layer are bonded to the support substrate of an optical recording medium.例文帳に追加

平坦基板上に塗布された2P樹脂層の表面に凹凸パターンを形成し、前記凹凸パターン上に記録層を形成し、前記2P樹脂層及び前記記録層を光記録媒体の支持基板上に接着した後に、前記平坦基板を前記2P樹脂層から剥離する光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide a starting method and a controller for brushless motors and an electric pump wherein when in the initial stage of startup, a pattern changing timing time is excessively short and is equal to or shorter than a predetermined time, delay angle control is carried out; and as a result, pattern capture error is eliminated and it is possible to start a brushless motor in a short time and eliminate abnormal noise at startup.例文帳に追加

起動初期の場合にパターン切換タイミング時間が極端に短くて、所定時間以下のときは、遅れ角制御を行うことにより、パターン捕捉ミスがなくなり、短時間で起動が可能となり、起動時の異音をなくすることができるブラシレスモータの起動方法、制御装置及び電動ポンプを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for forming the fine wiring comprises a step of (a) treating at least one side of a wiring pattern to be formed on a base substrate with alkali metal hydroxide solution, and (b) treating hydrophobic ink in accordance to the wiring pattern to be formed.例文帳に追加

本発明の一側面によれば、(a)アルカリ金属水酸化溶液によってベース基材上に形成しようとする配線パターンの少なくとも一側を処理する段階、及び(b)上記形成しようとする配線パターンに沿って疎水性インクを処理する段階を含む微細配線の形成方法が提供される。 - 特許庁

The method for forming the mask pattern uses techniques of optical proximity correction of the mask pattern having a phase shift region with a plurality off transmittance.例文帳に追加

複数の透過率の位相シフト領域を有するマスクパターンの光近接効果補正技術を用いたマスクパターン形成方法であって、単層の位相シフトマスクを想定した光近接効果補正を行うOPC処理工程と、光近接効果補正後に透過率を決定する工程と、透過率の決定後透過率に対応するマスクバイアスをかける工程を含む。 - 特許庁

To provide a patterning method which remarkably enhances the productivity of pattern formation to base material, does not require the vacuum environment, allows the pattern to be continuously and stably formed and treated on the base material and enhances the maintenance and to provide a film forming apparatus which performs the patterning.例文帳に追加

基材上へのパターンの形成の生産性を大幅に高めるとともに、真空環境をつくる必要もなく、パターンを基材上に連続的に、安定して形成、処理することができるメンテナンス性の向上したパターニング方法及び該パターニングを行う製膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

To provide a pattern formation method, for forming a pattern on a resist film by using close filed light by the transmissivity change of a film formed on the resist film for reversibly generating the transmissivity change of the film formed on the resist film with high sensitivity, without causing mix-in of contamination sources.例文帳に追加

レジスト膜上に形成された膜の透過率変化による近接場光を用いて前記レジスト膜にパターンを形成する方法であって、レジスト膜上に形成された膜の透過率変化を高感度で可逆的に生じさせるとともに、汚染源の混入を引き起こさないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁




  
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