「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(352ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a tin-electroplated sheet, which prevents formation of a woodgrain pattern without decreasing manufacturing efficiency when manufacturing several sorts of tin-electroplated sheets, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

複数種類の電気ブリキを製造する場合において生産能率を低下させることなく木目模様の発生も防止できる電気ブリキの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display and a driving method thereof which are adapted to reduce heat generation and power consumption of a data drive circuit and to prevent decrease in display qualities by using fragile pattern data.例文帳に追加

データ駆動回路の発熱及び消費電力を減らして、脆弱パターンのデータで表示品質の低下を予防する液晶表示装置とその駆動方法を提供する。 - 特許庁

HYDROPHOBIC POLYMER, LAMINATED FORM WITH ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN, PRINTED WIRING BOARD UTILIZING THE LAMINATED FORM, THIN-LAYER TRANSISTOR, AND DEVICE EQUIPPED WITH THEM例文帳に追加

疎水性ポリマー、それを用いた導電性膜を有する積層体、導電性パターンの製造方法、該積層体を利用したプリント配線基板、薄層トランジスタ及びこれらを備えてなる装置 - 特許庁

To enhance the accuracy of control of a color tone by properly setting a pixel of interest for the control, in terms of a method and a device for controlling the color tone of a pattern for use in a printer.例文帳に追加

印刷機の絵柄色調制御方法及び装置に関し、制御のための注目画素を適切に設定して、色調制御の精度を向上させることができるようにする。 - 特許庁

To provide an operation reserving control method for a system, allowing reserved operation corresponding to the life pattern of a user while avoiding troubles involved in setting and registering each operation reserving time.例文帳に追加

その都度の運転予約時刻の設定登録に伴う煩雑さを回避しつつも、ユーザの生活パターンに合致した予約運転を行い得るシステムの予約運転制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a servo pattern forming method to be applied to a magnetic recording medium which has grooves and non magnetic regions between recording tracks or isolated magnetic dots.例文帳に追加

溝や非磁性領域で記録トラック間を分断した構造、あるいは孤立した磁性ドットを形成した構造の磁気記録媒体に適用するサーボパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate capable of forming a conductive pattern having no defect such as damage on both the faces of the substrate without generating the defect such as the damage on both the faces of the substrate.例文帳に追加

基板の両面に傷等の不良を発生させることなくその基板の両面に傷等の不良のない導電パターンを形成できる基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask data generating method for easily confirming whether an optical proximity effect correction pattern is automatically generated or not in the prescribed part of an arbitrary layer.例文帳に追加

任意のレイヤーの所定の箇所において、光学近接効果補正パターンが自動発生されたか否かを簡単に確認することができるマスクデータ作成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a glass brick for a building having a novel appearance of a light-emission pattern having a feeling of depth in a dark place not realized heretofore and excellent in design properties, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

暗所で従来にない奥行き感を備えた発光模様による新規な外観を有する意匠性に優れた建築用ガラスレンガとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fine metal structure where electroplating can be performed to the pattern of the film to be worked formed by a nano-imprint process without removing a residue film.例文帳に追加

残渣膜を除去する必要なしに、ナノインプリント法で形成された被加工膜のパターンに電解めっきを施すことができる微細金属構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a core mold for in-mold foam molding capable of making the design pattern of an in-mold foamed molded object sharp and capable of achieving cost reduction, and the core mold.例文帳に追加

型内発泡成形体の意匠模様を鮮明にできると共に、コストダウンを図ることができる型内発泡成形用中型の製作方法及び該中型を提供する。 - 特許庁

To provide a resist processing device, a resist applying and developing device, and a resist processing method that reduce LER or LWR by flattening a side surface of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの側面を平坦化することによりＬＥＲ又はＬＷＲを低減することができるレジスト処理装置、レジスト塗布現像装置、およびレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide equipment and method that enable speedy and reliable calibration by a programmable pattern forming means using measured values preferably measured at a substrate level.例文帳に追加

好ましくは基板レベルで測定された測定値を使用して、プログラム可能なパターン形成手段のより迅速でかつ信頼性のある較正を可能にする装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming fine and accurate resist patterns without being affected by a PED or a PCD in resist pattern formation using charged particle beams.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成において、ＰＥＤ、ＰＣＤ等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for inspecting a wiring circuit board which can detect the condition of a highly integrated wiring circuit pattern at a high resolution without contacting.例文帳に追加

高集積化された配線回路パターンの状態を非接触で、且つ高分解能に検出できる配線回路基板の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive heat-resistant photosensitive polymer composition having good sensitivity even in a thick film, a method for producing a relief pattern using the composition and electronic parts using this.例文帳に追加

本発明は、厚膜でも感度が良いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物およびこの組成物を用いたレリーフパターンの製造法、並びにこれを用いた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a fabric cutting device capable of cutting a fabric corresponding to a pattern displayed in the fabric with a cutting line being corrected and to provide a fabric cutting method.例文帳に追加

本発明は、布帛に表示された柄模様に対応して裁断ラインを補正して裁断することができる布帛裁断装置及び方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask structure with high pattern definition at an opening or the like, without changing a base plate structure, in relation to the vapor deposition mask and a manufacturing method of an organic EL display device.例文帳に追加

蒸着マスク及び有機ＥＬ表示デバイスの製造方法に関し、基板構造を変更することなく、開口部等におけるパターン精度の高い蒸着マスク構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method of accurately forming vias on an electronic component buried in the interior; the vias extending from the outer surface to specified positions on the electronic component or a wiring pattern.例文帳に追加

内部に埋没された電子部品に対して、外表面からその電子部品や配線パターンの所定の位置に連通するビアホールを精度良く設けられる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern.例文帳に追加

次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される１つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming concavo-convex pattern by which fine concavo-convex patterns are formed by a simple apparatus and the formation speed of the fine concavo-convex patterns is increased.例文帳に追加

簡便な装置により微細凹凸パターンを形成することが可能であり、また微細凹凸パターンの形成速度を上げることが可能な微細凹凸パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of generating complementary masks based on a target pattern having features to be imaged on a substrate for use in a multiple-exposure lithographic imaging process.例文帳に追加

多重露光リソグラフィ写像プロセス中で使用される、基板上に写像されるフィーチャを有する目標パターンに基づく相補的マスクを生成するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film forming method which can correspond to minute pattern forming and the reduction of the amount of a material to be used and can stably form a film at a desired position on a substrate.例文帳に追加

微細なパターン形成や材料使用量の低減化に対応可能であり、基板上の所望の位置に膜を安定して形成することができる膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprinting apparatus and an imprinting method using it, capable of repeatedly pressing on the same substrate and transcribing a mold pattern over the entire substrate with high fidelity.例文帳に追加

同一基板上に繰り返しプレスすることを可能にし、基板全面に忠実度の高い鋳型パタンの転写が行えるインプリント装置及びそれを用いたインプリント法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser which can enhance suppression effect of a power supply noise, and in which the freedom of a wiring pattern on a wiring board can be made large, and to provide a method of manufacturing the semiconductor laser.例文帳に追加

電源ノイズの抑制効果を向上させることができ、しかも配線基板の配線パターンの自由を大きくできる半導体レーザ装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit and its image processing method that can properly discriminate whether image data with a particular pattern are color data or monochromatic data and conduct image processing desired by a user.例文帳に追加

特定パターンの存在する画像データについても適切にカラー／モノクロ判別し，ユーザが所望する画像処理を行う画像処理装置およびその画像処理方法を提供すること。 - 特許庁

The color filters 4a, 5a, 6a are formed by an ink jet method in the region partitioned by using the resist film and the black-colored resin film as partitions at the positions specified by the pattern 2a.例文帳に追加

その後、ブラックマトリクス２ａ位置におけるレジスト膜及び黒色樹脂膜を隔壁として区画された領域内にカラーフィルタ４ａ、５ａ、６ａをインクジェット法により形成する。 - 特許庁

To provide a forming method of a fluorescent screen for a cathode-ray tube enabled to pattern a pigment layer without detaching a shadow mask and doing without exposure for forming the pigment layer.例文帳に追加

シャドウマスクを脱着することなく、顔料層のパターニングを行えると共に、顔料層を形成するために露光を必要としない陰極線管の蛍光面の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the T-shape gate electrode comprises the steps of forming a first photoresist pattern having a first opening 35b including a tapered sidewall, and coating a first metal layer 36 having Schottky characteristics thereon.例文帳に追加

テーパー状側壁を有する第１の開口部３５ｂを設けた第１のフォトレジストパターンを形成し、その上にショットキ特性を有する第１の金属層３６を被着する。 - 特許庁

To provide resist for metal foil etching, which is heat drying type resist ink and can suppress the occurrence of a pinhole during etching processing using acid, and to provide a metal foil pattern forming method.例文帳に追加

熱乾燥型レジストインキであって、酸によるエッチング処理に際して、ピンホールの発生を少なくできる金属箔エッチング用レジストの提供、および金属箔パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a display apparatus and method in which when a plurality of frames can be sequentially changed over and displayed, the pixel pattern changeover time of the frame can be shortened.例文帳に追加

複数のフレームを順次切り換えて表示させる場合に、フレームの画素パターン切換時間を短縮することが可能な表示装置及び表示方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit in which a momentary current is widely suppressed and a dummy pattern does not become a noise source to the existing wiring.例文帳に追加

瞬時電流を半導体集積回路の広範で抑制し、かつダミーパターンが既存配線に対してノイズ源とならない半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND FOR USE IN PRODUCTION OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される樹脂、該樹脂の製造に使用される重合性化合物及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a synthetic resin sheet having a minute uneven pattern on the surface in a sheet extrusion-molding method high in degree of freedom in relation to the area and thickness of a molding and excellent in productivity.例文帳に追加

表面に微細な凹凸パターンを有する合成樹脂シートを、成形品の面積、厚みに対する自由度が高く、生産性に優れるシート押出成形法で提供する。 - 特許庁

To provide a cerium oxide polishing agent and a method of polishing substrate for highly planarizing the overall part of the surface to be polished of a semiconductor substrate which includes uneven surfaces resulting from wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンによる凹凸を有する半導体基板の被研磨面内全体での高平坦化を可能にする酸化セリウム研磨剤および基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern using liquid for a liquid immersion exposure process having extremely high transparency and a refractive index that is higher than that of water at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加

200nm以下の波長範囲において非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a washing machine information providing method and a system for detecting the using pattern and abnormal state of a washing machine online and improving the reliability and performance of the washing machine.例文帳に追加

洗濯機の使用パターンと異常状態をオンラインで検知し、洗濯機の信頼性と性能を向上させた洗濯機運転情報提供方法とそのシステムを提供する。 - 特許庁

The method uses at least one graph matching pattern to convert at least a part of graph data including nodes and edges to a data structure as an image of a homomorphism thereof.例文帳に追加

１以上のグラフ・マッチングのためのパターンを用いてノードとエッジを含むグラフデータの少なくとも一部を準同型写像の像であるデータ構造に変換する方法が提供される。 - 特許庁

To eliminate moires due to abrupt variation in pixel values caused by flaw in a multivalued image and to suppress generation of moire of an eyesore pattern, using a convenient method.例文帳に追加

多値画像中の傷等による、画素値の急激な変化によるモアレをなくすことができ、又、簡易な手法で、モアレや目障りな模様の発生を確実に抑制することができるようにする。 - 特許庁

To provide a silicon-on-insulator (SOI) method with a pattern for manufacturing a composite integrated circuit having both of a logic circuit part and a buried dynamic random access memory (DRAM) array part.例文帳に追加

論理回路部分と埋め込みダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ（ＤＲＡＭ）アレイ部分の両方を有する複合集積回路を製作するパターン付きシリコンオンインシュレータ（ＳＯＩ）方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high transmittance halftone phase shifting mask capable of clearly transferring a required pattern to a photosensitive resin and to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

所望のパターンを明確に感光性樹脂に転写することが可能な、高透過率型ハーフトーン位相シフトマスクおよびそのマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for making an opening part between adjacent patterns finer than resolution of a projection exposing machine and for preventing the occurrence of deviation of dimensional precision between patterns.例文帳に追加

隣接するパターン間の開口部を、投影露光機の解像度よりも微細化することが可能であって、かつパターン間の寸法精度ずれが生じにくいパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a various switch pattern forming method capable of forming various switch patterns inexpensively and precisely even if there are many kinds of shapes and structures of switch patterns of a switch substrate to be manufactured.例文帳に追加

製造しようとするスイッチ基板のスイッチパターンの形状・構造が多種類あっても、これらを安価に且つ精度良く形成できる各種スイッチパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a layout method and layout apparatus for obtaining the constitution of a dummy pattern group whereby dummy patterns can be inserted efficiently into the layout of actual patterns while suppressing the increase of the data amount required therefor.例文帳に追加

データ量の増加を抑えた上で実パターンのレイアウト内にダミーパターンを効率良く挿入できるダミーパターン群の構成が得られるレイアウト方法及びレイアウト装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing inspection method and image processing inspection device capable of shortening, in an image processing inspection using pattern matching, the processing time required for the image processing inspection.例文帳に追加

パターンマッチングを用いた画像処理検査において、画像処理検査に要する処理時間の短縮を図ることが可能な画像処理検査方法および画像処理検査装置を提供する。 - 特許庁