「pattern object」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The arrangement of the pattern next to the sewing object held on the embroidery frame is set in a state that the holding position is the second position (S92).例文帳に追加

保持位置が第２保持位置である状態で刺繍枠に保持された縫製対象物に対する次の模様の配置が設定される（Ｓ９２）。 - 特許庁

In finding the focus value, an LER value of a resist pattern for measuring a focus which is formed by exposing an object for which the focus value is to be measured is measured.例文帳に追加

フォーカス値を求める場合、フォーカス値測定対象の露光により形成されたフォーカス測定用レジストパターンのＬＥＲ値を測定する。 - 特許庁

To produce a two-dimensional electrophoretic pattern of control which is a comparison object easily in various conditions, and to quickly and accurately analyze.例文帳に追加

比較の対象となるコントロールの二次元電気泳動パターンを容易に、且つ、様々な条件で作成し、迅速且つ正確な解析を行う。 - 特許庁

An imprinting method includes dropping a resist as a transfer material to a transfer object substrate on which a template pattern formed on a template is transferred.例文帳に追加

実施形態のインプリント方法では、テンプレートに形成されたテンプレートパターンが転写される被転写基板に、転写材としてのレジストを滴下する。 - 特許庁

The circuit disagreement part between the circuit data and the part corresponding to the position of the first verification object pattern of the design circuit data is detected.例文帳に追加

回路データと設計回路データの第１検証対象パタンの位置に対応する部分との間での回路不一致部が検出される。 - 特許庁

Moreover, a motion vector searching section 104 uses the decided searching pattern to search the motion vector from the received encoding object frames.例文帳に追加

さらに、動きベクトル探索部１０４では、決定された探索パターンを用いて、入力された符号化対象フレームから動きベクトルが探索される。 - 特許庁

In a game program for downloading from the game site to a terminal device 20 of the client, an advertisement object appears as a pattern related to the game.例文帳に追加

ゲームサイトからクライアントの端末装置２０へダウンロードするゲームプログラムを、広告対象がゲームに係わる図柄として登場するものとする。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a pattern having a fixed line width on a coating object having steps by an ink-jet method.例文帳に追加

段差を有する塗布対象物においてインクジェット法を用いて一定の線幅のパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

To prevent moire from occurring owing to the interference of a pattern and a bit map surely for printout data inputted by object oriented printer language.例文帳に追加

オブジェクト指向のプリンタ言語で入力される印刷データについて、パターン等とビットマップの干渉により生ずるモアレを確実に防止する。 - 特許庁

Alternatively, a binary image is made using the rendered gray scale image and the pattern recognition is performed on the binary image to detect the inspection object.例文帳に追加

あるいは作成したグレースケール画像から二値画像を作成し、二値画像に対してパターン認識を行い検査対象物を検出する。 - 特許庁

In order to prepare data of a first reticle, the pattern, a tip portion and a butt portion of the object which are arrayed in a Y direction are combined (step S12).例文帳に追加

第１のレチクルのデータの作成のために、Ｙ方向において並ぶ対象物のパターン、先端部及び突合部を結合する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

The arrangement of the standard pattern on the sewing object held on the embroidery frame is identified in a state that the holding position is the second position (S90).例文帳に追加

保持位置が第２保持位置である状態で刺繍枠に保持された縫製対象物上の基準模様の配置が特定される（Ｓ９０）。 - 特許庁

Then, when the moving amount is smaller than a first threshold, the position of the predetermined object or the predetermined pattern on the image detected from the first image is corrected to a position for internally dividing the position of the predetermined object or the predetermined pattern on the image detected from the first image and the position of the predetermined object or the predetermined pattern on the image detected from the second image at a predetermined ratio.例文帳に追加

そして、上記移動量が第１閾値未満である場合には、上記第１画像から検出された当該画像上での上記所定物体または所定図柄の位置と、上記第２画像から検出された当該画像上の上記所定物体または所定図柄の位置とを所定の比率で内分する位置へと、上記第１画像から検出された当該画像上での上記所定物体または所定図柄の位置を補正する。 - 特許庁

To compensate, in a three-dimensional shape measuring apparatus which projects a light pattern onto an object by scanning a light beam with a vibrating mirror, for variations attributable to the environmental conditions of the projected light pattern among other factors.例文帳に追加

振動ミラーにより光ビームを走査することで対象物上に光のパターンを投影する三次元形状計測装置において、投影する光のパターンの環境条件等による変化を補償する。 - 特許庁

When the moved pattern area is located at a position having overlapping on the mask area, an area ratio of the overlapping at the position is calculated, and when the value of the area ratio is larger than a prescribed ratio, the moved pattern area is not decided as an object to be processed.例文帳に追加

移動したパターン領域がマスク領域と重なりを有する位置にあるとき、その位置における重なりの面積比を計算して、この値が所定の比よりも大きいとき処理の対象外とする。 - 特許庁

By this constitution, the imaging is performed with the resolving power, wherein the repeated cycle of the object to be inspected and the resolving power of the taken image become an integral ratio not only to remove the normal repeated pattern but also to detect the flaw pattern.例文帳に追加

これにより、被検査物の繰り返し周期と撮像画像の分解能が整数比となる分解能で撮像を行って、正常な繰り返しパターンを除去でき、欠陥パターンを検出することができる。 - 特許庁

A feature point extraction part 3 extracts feature points from an object image to be traced on the basis of inputted image data and a reference pattern setting part 5 sets the plural extracted feature points as a reference pattern.例文帳に追加

特徴点抽出部３は、入力された画像データを基に、追跡対象画像から特徴点を抽出し、基準パターン設定部５は、抽出された複数の特徴点を基準パターンとして設定する。 - 特許庁

A pixel discrimination section 71 acquires the density of a target pixel and surrounding pixels, reads a pixel pattern from a pattern storage section 7 and determines whether or not the target pixel is to be a processing object by a data correction section 17.例文帳に追加

画素判定部７１は、注目画素および周辺画素の濃度値を取得し、パターン記憶部７２から画素パターンを読み出して注目画素をデータ補正部１７での処理対象とするか否かを判定する。 - 特許庁

A movement area shaping means 115 uses a shape pattern image from a shape pattern image generation means 116 and shapes a movement area label image from a labeling means 104 for outputting a moving object image.例文帳に追加

動領域整形手段１１５は、形状パターン画像生成手段１１６からの形状パターン画像を用いて、ラベリング手段１０４からの動領域ラベル画像を整形して移動物体画像を出力する。 - 特許庁

Subsequently, pattern outlines are generated by expanding and partitioning regions indicated by the inside/outside pattern defining information with reference to pixel values of an edge emphasized image of a sample object image.例文帳に追加

そして、対象試料画像のエッジ強調画像の画素値を参照しながら、パターン内外規定情報で示される領域を膨張させることにより領域分割を行い、対象試料のパターン輪郭線を生成する。 - 特許庁

When deflection of the imaging data is corrected by coding exposure processing, an opening/closing pattern generation part 429 detects the periodic change of the illuminance level of the photographing object, and outputs an opening/closing pattern of a shutter according to the periodic change.例文帳に追加

コード化露光処理により撮像データの振れを補正する際に、開閉パターン生成部429は、撮影対象の照度レベルの周期変化を検出し、周期変化に応じたシャッタの開閉パターンを出力する。 - 特許庁

The dummy pattern 12 is formed in a region which is non-facing the main pattern 11, on the surface of the transparent substrate 10 and which does not resolve to the transfer object, when irradiated with the light from the light source.例文帳に追加

ダミーパターン１２は、透明基材１０の表面のうちメインパターン１１との非対向領域に形成されており、光源の光が照射されたときに被転写対象に解像しないようになっている。 - 特許庁

The comparison inspection is performed by excluding a difference to the pattern domain of the object image formed more deficiently than the pattern domain shown by the master image in the external angle domain of the master image.例文帳に追加

また、マスタ画像における外角領域において、当該マスタ画像が示すパターンの領域より不足して形成されているオブジェクト画像のパターンの領域に対する差分を除外して比較検査を行う。 - 特許庁

To provide an image recognition method, which includes the creation of a master pattern to realize high-speed and high-precision search of an image pattern regardless of deformation variation of a test object or variation on assembling.例文帳に追加

被検対象物の変形バラツキ又は組み付け上のバラツキに拘わらず、高速且つ高精度に画像パターンのサーチを実現するためのマスタパターンの生成を含む画像認識方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The microcomputer 10 references the output cross-reference data to obtain the state signal data being a display object, decides a light emitting pattern corresponding to the data, and outputs the light emitting pattern to the LEDs 6, 7.例文帳に追加

マイコン１０は、この出力対応関係データを参照して表示対象となる状態信号データを得、そのデータ値に応じた発光パターンを決定した後、その発光パターン信号をＬＥＤ６、７に出力する。 - 特許庁

Then, the monitoring controller 110 confirms whether the light source performs light emission based on a prescribed notification exclusion pattern, and approves the moving object as a notification excluding person when the light emission based on the prescribed notification exclusion pattern is performed.例文帳に追加

そして、この光源で所定の報知除外パターンに基づく発光が行われているかを確認し、所定の報知除外パターンに基づく発光が行われている場合には、この動体を報知除外者と認定する。 - 特許庁

The electric conduction pattern inspection device 10 comprises a sensor electrode 18 connected with an electrostatic coupling to one end of an inspection object pattern 14; an electricity supply electrode 16 connected with the electrostatic coupled to the other ends of all conductive patterns 14.例文帳に追加

導電パターン検査装置１０は、検査対象パターン１４の一端に静電結合されたセンサ電極１８と、全導電パターン１４の他端と静電結合された給電電極１６を有する。 - 特許庁

An image processing part 6 sets a matching processing area on the image data from attribute information and object detection information obtained by the radar device 7, and performs pattern matching by a sampling pattern according to each the attribute.例文帳に追加

画像処理部６は、レーダ装置７で得られた物体検知情報と属性情報とから画像データ上でのマッチング処理領域を設定して、それぞれの属性に応じたサンプリングパターンでパターンマッチングを行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a finely processed mold made of a silicone rubber capable of shortening a mold manufacturing time and capable of forming a fine and sharp pattern in the atmosphere, and a method for manufacturing a molded object having a fine pattern.例文帳に追加

型の作製時間を短縮し、かつ大気中で微細で鮮明なパターンを形成することができるシリコーンゴム製微細加工型の製造方法及び微細パターンを有する成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an intra-cell film thickness measuring apparatus provided with an autofocusing means which detects an in-focus position surely and quickly even for an object to be measured having no pattern without using a dummy pattern.例文帳に追加

擬似パターンを用いることなく、パターンが存在しない測定対象物であっても合焦点位置を確実かつ高速に検出できるオートフォーカス手段を具備したセル内膜厚測定装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, a deterioration of pattern fidelity in the transferred image of a pattern formed on a photosensitive object W can be made negligibly small, so that the exposure system can be improved in resolution.例文帳に追加

従って、感光物体Ｗ上に形成されるパターンの転写像におけるパターン忠実度の劣化を無視できる程度に抑えることが可能となり、露光装置の解像度の向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

Based upon the layout of the object, a weighting pattern for the detected image area is determined (S206) and according to the weighting pattern, an image after first correction processing (S204) and an image after second image correction processing (S207) are put together (S208).例文帳に追加

そして、被写体のレイアウトに基づき、検出した画像領域に対する重み付けパターンを決定し(S206)、重み付けパターンに従い、第一の補正処理(S204)後の画像と、第二の補正処理(S207)後の画像を合成する(S208)。 - 特許庁

To provide a pattern inspecting instrument and a method of generating a master data therefor which achieve a highly reliable pattern inspection for an object containing pieces different in direction taking all of the pieces into consideration.例文帳に追加

向きの異なるピースを含む対象物についても，その全ピースを考慮に入れつつ，信頼性の高いパターン検査を行うことができるパターン検査装置およびそのマスタデータの作成方法を提供すること。 - 特許庁

In a surface image of the measurement object imaged with an interference pattern formed, pixels having maximum and minimum brightness levels respectively are selected per cycle of the interference pattern comprising a combination of bright and dark sections.例文帳に追加

干渉縞を発生させて撮像した測定対象物の表面画像において、明部と暗部の組みからなる干渉縞の一周期ごとに輝度レベルが最大の画素と輝度レベルが最小の画素を選択する。 - 特許庁

As a result, the characteristics of the image to be inspected are reflected on the reference image to be used for comparison inspection so that the accurate inspection of the pattern can be realized, regardless of the materials of the pattern or the kind of a process for the object to be inspected.例文帳に追加

その結果、比較検査に用いる参照画像は被検査画像の特徴を反映しているため、検査対象物についてパターンの材料、プロセスの種類に関わらず、パターンの正確な検査が行える。 - 特許庁

Thus, the matching patterns in different featured spaces, that is, the shape of the object and the brightness(luminance) of the surrounding environment are individually provided so that the pattern matching precision can be improved, and that the learning arithmetic load of the matching pattern can be reduced.例文帳に追加

対象物の形状と周囲環境の明るさ（輝度）という異なる特徴空間のマッチングパターンを個別に持つため、パターンマッチング精度が向上し、かつマッチングパターンの学習演算負荷も少なくなる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method in which chemical and physical damages by irradiation of ultraviolet rays are avoided to an object of a pattern formed by an ultraviolet-curing ink, and to provide a liquid droplet ejector.例文帳に追加

紫外線硬化性インクによって形成するパターンの対象物に対して、その紫外線照射による化学的、物理的損傷を回避させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To increase an accuracy of joining transfer patterns together on an object whereon the patterns are transferred by determining a function for deciding the position of each partial transfer pattern on a transfer mask and then transferring an image of each partial transfer pattern according to the function.例文帳に追加

転写マスク上の部分転写パターンの位置を定める関数を決定し、その関数に基づいて部分転写パターンの像を転写することで被転写物上の転写パターンの繋ぎ精度を向上させる。 - 特許庁

A special picture pattern operating hole 31 and a special role object 33 are provided on a play panel 5 of a PACHINKO machine and a special picture pattern display device 32 equipped with a display part 41 is integrated in the central part of the play panel 5.例文帳に追加

パチンコ機の遊技盤５には特別図柄作動口３１及び特別役物３３が設けられ、遊技盤５の中央部分には表示部４１を備えた特別図柄表示装置３２が組み込まれている。 - 特許庁

The speech pattern of an arbitrary speech is newly registered as a recognition object in a characteristic storage part 51 of a storage part 50, and notifying information corresponding to the speech pattern registered is stored in an information storage part 52.例文帳に追加

認識対象として任意の音声を記憶部５０内の特徴記憶部５１に音声パターンを新規に登録し、情報記憶部５２に登録した音声パターンに対応する告知情報を記憶させる。 - 特許庁

To inspect an appearance of an inspection object, for example, a semiconductor chip, a substrate with a pattern or a film with a pattern, to classify a defective from a non-defective.例文帳に追加

本発明は、被検査品、例えば、半導体チップ、又はパターン付き基板、或いはパターン付きフィルムの外観検査を行い、良品と不良品とに分別する外観検査装置及び外観検査方法に関するものである。 - 特許庁

To prevent an adhesive layer protruded to the peripheral edge part of a pattern transferred on an object to be transferred with flexibility and/or retractility from becoming largely different appearance from the object to be transferred caused by repeated deformation.例文帳に追加

可撓性および／または伸縮性を有する転写対象部に転写した図柄の周縁部にはみ出した接着層が、繰り返し変形により転写対象部と大きく異なる外観となることを防ぐ。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus in which exposure of a mask pattern can be fast performed with high accuracy while preventing misalignment of exposure caused by expansion/contraction of an object substrate to be exposed or of a mask on exposing the object substrate.例文帳に追加

被露光基板に露光を行う際、被露光基板またはマスクの伸縮に起因する露光のズレの発生を防止してマスクパターンの露光を迅速に且つ高精度に行うことができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image recognition device capable of accurately detecting an object without an increase in calculation amount even in the recognition of a complicated object, to perform subsequent processing such as the extraction of a feature quantity or pattern recognition.例文帳に追加

複雑な対象を認識する場合にも、計算量を増大せずに正確に対象を検出して、特徴量の抽出やパターン識別といった後続の処理を行える画像認識装置を提供する。 - 特許庁

A photographing prevention system 150 gives a pattern shape on a photographing object in image data which is obtained by photographing the photographing object 200 with a digital camera 300 by light irradiated from a light-emitting part 100.例文帳に追加

撮影防止システム１５０は、発光部１００から照射される光により、撮影対象物２００をデジタルカメラ３００で撮影した画像データ中の撮影対象物にパターン形状を付与するように構成される。 - 特許庁