「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CHANGING EDGE ALIGNING PATTERN OF SHAPE STEEL STOCK SUCH AS BAR STEEL STOCK BY USE OF SHIFT MECHANISM例文帳に追加

シフト機構による棒鋼材などの型鋼材の先端揃えパターン変更方法および装置。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MASK PATTERN CORRECTION例文帳に追加

半導体装置の製造方法、位相シフトマスク、マスクパターン補正方法およびマスクパターン補正プログラム - 特許庁

A phase-shift mask has a checkerboard array and a sub-resolution assist phase pattern surrounding the checkerboard array.例文帳に追加

チェッカーボードアレイ及びこれを囲むサブレゾリューション・アシスト位相パターンを備える位相シフトマスクである。 - 特許庁

If a pellicle exists in an optical path, a substantial shift occurs in the position of the pattern surface of the reticle.例文帳に追加

光路内にペリクルが存在すると、レチクルのパターン面の位置に実質上のずれが生じる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for generating a mask pattern for alternating phase-shift mask lithography.例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンを生成する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The number of pixels in the imaginary color is then calculated for all position shift patterns of RGB planes (steps S10-S40), a position shift among the planes is found from a position shift pattern when the number of pixels in the imaginary color becomes minimum, and the position shift (color shift) of RGB image data is corrected based on the position shift (step S50).例文帳に追加

そして、ＲＧＢ面の全ての位置ずれのパターンについて虚色の画素数を算出し（ステップＳ１０〜Ｓ４０）、虚色の画素数が最小となるときの位置ずれのパターンから各面間の位置ずれを求め、その位置ずれに基づいてＲＧＢの画像データの位置ずれ（色ずれ）を補正する（ステップＳ５０）。 - 特許庁

To provide a pattern distortion correcting device which corrects the distortion of a layout pattern while taking not only an edge shift quantity but a process margin as well into consideration.例文帳に追加

エッジシフト量だけでなく、プロセスマージンも考慮しながら、レイアウトパターンの歪み補正を行うパターン歪み補正装置を提供する。 - 特許庁

Contrarily, in execution of variable display of a special pattern and a decorative pattern, restriction for prohibiting a shift to the power-saving mode is performed.例文帳に追加

一方、特別図柄や飾り図柄の可変表示が実行されているときには、省電力モードに移行しないように制限される。 - 特許庁

To form a pattern with high resolution while preventing pattern shift even when a substrate is misaligned during the substrate is continuously carried.例文帳に追加

基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To permit dry etching inhibiting the amount of pattern shift and obtaining desired etching shapes regardless of the pattern to be formed.例文帳に追加

形成しようとするパターンに関係なく、寸法シフト量を抑制でき且つ所望のエッチング形状が得られるドライエッチングを可能とする。 - 特許庁

In this case, the small-area dummy pattern Ds2 of the upper layer is formed with a shift by a half pitch, with respect to the small area dummy pattern of the lower layer.例文帳に追加

このとき、上層の小面積ダミーパターンＤｓ２は、下層の小面積ダミーパターンに対してハーフピッチシフトさせて形成する。 - 特許庁

The ink jet recorder has a pattern for detecting the dot diameter/dot shift and a pattern for detecting the unevenness of each nozzle.例文帳に追加

インクジェット方式により記録を行う記録装置において、各ノズルのドット径・ドットヨレ検出用パターンとむら検出用パターンとを備える。 - 特許庁

The method for designing a phase shift mask includes steps of: placing an underlay pattern 102 in the layout data designing a phase shift mask; placing a first overlay pattern 100 overlapping the underlay pattern 102 and a second overlay pattern 101 not overlapping the underlay pattern in the layout data; and placing a dummy underlay pattern 105 overlapping the second overlay pattern 101 in the layout data.例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法は、位相シフトマスクを設計するレイアウトデータに、下層パターン１０２を配置するステップと、レイアウトデータに下層パターン１０２と重なる第１の上層パターン１００及び下層パターンと重ならない第２の上層パターン１０１を配置するステップと、レイアウトデータに第２の上層パターン１０１と重なるダミー下層パターン１０５を配置するステップとを備えている。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

A mutual effect between the CCD shift control signal and the video signal of a CCD solid-state imaging element 45 is prevented by arranging the ground pattern PG between the pattern region PS wherein the wiring pattern for the CCD shift control signal is arranged and the pattern region PI wherein the wiring pattern of the video signal is arranged.例文帳に追加

ＣＣＤ移動制御信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＳと映像信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＩの間にグラウンドパターンＰＧを配設することにより、ＣＣＤ移動制御信号とＣＣＤ固体撮像素子４５の映像信号が互いに影響を与えることを防ぐ。 - 特許庁

On the other hand, an image pattern storing section 53 including multiple shift registers which are endlessly serially-connected is provided for storing multiple image pattern data in each shift register and outputting the image pattern data one by one while shifting the image pattern data sequentially according to a clock signal CLK.例文帳に追加

一方、エンドレスに直列接続した複数のシフトレジスタからなる画像パターン格納部５３を設け、その各シフトレジスタに複数の画像パターンデータをそれぞれ格納し、これら画像パターンデータをクロック信号ＣＬＫに応じて順にシフトしながら１つずつ出力する。 - 特許庁

A pattern detection part 32 converts the position shift quantity between the actual arrangement and ideal arrangement of the pattern composed of multiple marks into points and a determination part 34 decides whether or not the pattern is the specific pattern according to the points found by the 1st point imparting part 23 and the points of the position shift quantity found by the detection part 32.例文帳に追加

パターン検出部３２で複数マークからなるパターンの実際の配置と理想的配置との位置ズレ量を点数化し、決定部３４で第１の点数化部２３で求めた点数と前記検出部３２で求めた位置ズレ量の点数からパターンか否か決定する。 - 特許庁

Exposure by the mask for exposure which has a pattern 2 for position shift measurement and exposure by a mask for light which has a pattern 1 for position shift measurement are both carried out for a photosensitive layer on a wafer.例文帳に追加

位置ずれ測定用パターン２を有する露光用マスクによる露光、及び位置ずれ測定用パターン１を有する光用マスクによる露光を、ウエハ上の感光層に対して重ねて行う。 - 特許庁

The control device 20 calculates a gear shift pattern of the vehicle 10 with reference to a predetermined gear shift pattern (A map 21a) on the basis of an accelerator operating amount PA memorized in a memory 21 in advance.例文帳に追加

制御装置２０は、そのメモリ２１に予め記憶されているアクセル操作量ＰＡに基づく所定の変速パターン（Ａマップ２１ａ）を参照しつつ車両１０の変速パターンを算出する。 - 特許庁

The color image forming apparatus determines whether or not there is an abnormality in detection of a color shift detection pattern image based on an output value of an optical sensor when the color shift detection pattern image is detected (S23).例文帳に追加

カラー画像形成装置は、色ずれ検出パターン画像を検出した際の、光センサの出力値に基づいて、色ずれ検出パターン画像の検出に異常があるか否かを判定する（Ｓ２３）。 - 特許庁

When any set for which the number of detection patterns is insufficient is found in the pattern detection, the set is disregarded and the amount of color shift is calculated with the pattern data of the remaining set detected normally to perform color shift correction.例文帳に追加

パターンの検出で検出パターン数が不足したセットがあった場合、そのセットを除く残りの正常に検出されたセットのパターンデータにより色ずれ量を計算し、色ずれ補正を行う。 - 特許庁

A CPU 40 calculates the inter-paper distance from a form in use, a linear speed, etc., and a color shift correction pattern selection section 45 selects a color shift correction pattern sized so as to be fit between sheets of paper.例文帳に追加

ＣＰＵ４０において、使用する用紙、線速等から紙間距離を算出し、この紙間に収まるような色ずれ補正パターンを色ずれ補正パターン選択部４５において選択する。 - 特許庁

A clocked serial interface includes: multiple shift registers for rewritably storing pattern data to determine the waveforms of control signals; and generation means for generating the control signals in accordance with the pattern data in the shift registers.例文帳に追加

コントロール信号の波形を決定するパターンデータが書換可能に格納される複数のシフトレジスタと、これらシフトレジスタ内のパターンデータに応じてコントロール信号を生成する生成手段と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent a shift pattern from being determined in a change lever unit while detecting the position in a selection direction of a change lever and the position in a shift direction thereof using a Hall element.例文帳に追加

ホール素子を用いてチェンジレバーのセレクト方向の位置およびシフト方向の位置を検出しつつ、チェンジレバーユニット内でシフトパターンの判定を行わない。 - 特許庁

The first guide mechanism 91 uses a first guide groove 27 and a first plunger 65 for restricting the operating direction of the shift lever 14 depending on a predetermined shift pattern.例文帳に追加

第１のガイド機構９１は、第１のガイド溝２７と第１のプランジャ６５とにより、シフトレバー１４の操作方向を所定のシフトパターンに応じて規制する。 - 特許庁

The transition between the phase shift region and non-phase shift region alone defines a pattern on the wafer, without the need for an opaque structure on the mask.例文帳に追加

位相シフト領域と非位相シフト領域の間の遷移だけで、ウェハ上のパターンを画定するため、マスク上の不透明構造は不要となる。 - 特許庁

Then correction amounts Cx, Cy, Cθ are calculated, based on the positional shift amounts Zx', Zy', Zθ' measured by the exposure pattern positional shift detecting means 46.例文帳に追加

そして、露光パターン位置ずれ検出手段４６で計測した位置ずれ量Ｚｘ´，Ｚｙ´，Ｚθ´に基づいて補正量Ｃｘ，Ｃｙ，Ｃθを算出する。 - 特許庁

On the H pattern, "the shift completion position of the EV" is arranged at a position corresponding to the half of "shift operation" (operation in a longitudinal direction of a vehicle) from "a 1-2 selecting position" toward "the shift completion position of the first speed".例文帳に追加

Ｈパターン上において、「ＥＶのシフト完了位置」が、「１−２セレクト位置」から「１速のシフト完了位置」へ向けた「シフト操作」（車両の前後方向の操作）の途中に対応する位置に配置される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, a color shift correction method and a program that maintain color shift correction accuracy to execute a color shift correction, even when an entire pattern length region cannot be secured on an image carrier due to the existence of a noise source on the image carrier.例文帳に追加

像担持体上にノイズ源が存在することにより像担持体上にパターン全長の領域が確保できない場合でも色ずれ補正の精度を維持して色ずれ補正を実行すること。 - 特許庁

When the shift is made to the jackpot again during the given period of the game after the end of the jackpot mode, the jackpot performance pattern after the shift is determined based on the jackpot pattern as given when the performance pattern with the higher preferential order is decided.例文帳に追加

また、大当り態終了後における所定の遊技期間中に大当りに再度移行したときは、優先順位の高い方の演出パターンが決定されたときの大当り図柄に基づいて、移行後の大当り演出パターンが決定される。 - 特許庁

A performance using a cherry blossom pattern different from a pattern for a normal performance mode can be executed before and/or after a shift to a ready-to-win state.例文帳に追加

リーチとなる前、または／及び、リーチとなった以後に通常の演出態様とは異なる桜柄を使用する演出を実行可能である。 - 特許庁

To provide a printed wiring board suitable for electrically inspecting print shift of a silk print pattern from a wiring pattern easily and accurately.例文帳に追加

電気的にシルク印刷パターンの配線パターンに対する印刷ずれを容易に、かつ正確に検査するに適した印刷配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask by which a pattern with a profile nearer to the profile of a target pattern can be formed on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に目標とするパターンの形状により近い形状のパターンを形成し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern P particularly adapted to the speed of image formation and a pattern elongated in the sub-scanning direction so that precise measurement of the positional shift amount is allowed (preferably, a pattern in which the pattern P is repeated a plurality of times) are used as the two types for the inter-color registration correction pattern.例文帳に追加

色間レジ補正パターンには、画像形成の速度を特に重視したパターンＰと、正確に位置ズレ量を測定ができるよう副走査方向に長いパターン（好適には、パターンＰを複数回繰り返したパターン）と、の２種類を用いる。 - 特許庁

A ground pattern PG for ground (GND) wires at a common ground level is arranged between a pattern region PS wherein the wiring pattern for the CCD shift control signal is arranged and a pattern region PI wherein the wiring pattern of the video signal is arranged.例文帳に追加

ＣＣＤ移動制御信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＳと映像信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＩの間に共通接地電位であるグラウンド（ＧＮＤ）配線のグラウンドパターンＰＧを配置している。 - 特許庁

To suppress the shift of a coil pattern by securing high shape accuracy, and to enhance the insulation reliability.例文帳に追加

高い形状精度を確保してコイルパターンのずれを抑制するとともに、絶縁信頼性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask, capable of contributing to fineness and high accuracy of a circuit pattern.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this case, a pattern for combination of a plurality of gear shift stage signals is caused to cope with the content of each information.例文帳に追加

その場合に、複数の変速段信号の組合せパターンを、各情報の内容と対応しておく。 - 特許庁

To provide a phase shift mask blank with which a fine pattern is stably transferred with high accuracy.例文帳に追加

微細なパターンを高い精度で安定的に転写することが可能な位相シフトマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

To simultaneously etch a laminated film an organic antireflection film, and an oxide film, and prevent a pattern shift.例文帳に追加

有機反射防止膜と酸化膜との積層膜を同時にエッチング加工し、かつ寸法シフトを抑制する。 - 特許庁

To accurately perform shift to an uphill speed pattern while reflecting acceleration intended by a driver.例文帳に追加

登坂用変速パターンへの切り替えが、運転者の加速意図を反映して的確に行なわれるようにする。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING ADJUSTMENT VALUE OF RECORDING POSITION SHIFT IN PRINTING WHEN PLURAL KINDS OF INSPECTION PATTERN ARE USED例文帳に追加

複数種類の検査用パターンを使用して行う印刷時の記録位置ずれの調整値の決定 - 特許庁