「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

When it is determined that the repeated pattern is present, the correlation arithmetic operation is re-executed from a shift initial value set based on the image deviation amounts calculated from a pair of image signal strings determined to be not a repeated pattern for the pair of image signal strings determined to be the repeated pattern, and true image deviation amounts are calculated.例文帳に追加

繰り返しパターンありと判定した場合には、繰り返しパターンである一対の画像信号列について、繰り返しパターンでない一対の画像信号列から算出した像ずれ量に基づき設定したシフト初期置から相関演算を再実行し、真の像ずれ量を算出する。 - 特許庁

When the remaining charged amount M lowers to less than the reference remaining amount Mref, in a step S4, a present shift pattern is determined whether it is a first pattern adopted when the remaining charged amount is sufficient or a second pattern adopted when the remaining charged amount is not sufficient.例文帳に追加

充電残量Mが基準残量Mrefを下回っていればステップＳ４へ進み、現在の変速パターンが、充電残量が十分な場合に採用される第１パターンおよび充電残量が不十分な場合に採用される第２パターンのいずれであるかが判定される。 - 特許庁

A means for controlling execution of the variation display game (game control device 100) sets a variation pattern table, which sets the variation pattern of the variation display game started at the end before the shift from the first specific game state to the second specific game state, as a special variation pattern table.例文帳に追加

また、変動表示ゲーム実行制御手段（遊技制御装置１００）は、第１特定遊技状態から第２特定遊技状態に切り替わる前に最後に開始される変動表示ゲームの変動パターンを設定する変動パターンテーブルを、特定の変動パターンテーブルとする。 - 特許庁

The time Q is defined as the total time of the conveyance time Q_1 of a test pattern from the exposure position of the test pattern to a sensor and the time Q_2 since the test pattern is detected by the sensor until the color shift correction value calculated based on the detection results is set for the system and reflected to image formation.例文帳に追加

時間Ｑを、テストパターンの露光位置からセンサまでのテストパターンの搬送時間Ｑ_1と、センサでテストパターンが検知されてから、検知結果に基づき算出される色ズレ補正値がシステムに対して設定され画像形成に反映されるまでの時間Ｑ_2の合計時間とする。 - 特許庁

In the thus separated state, the speed difference detecting pattern is detected (S25), a belt speed difference is calculated from the detection result of the resist pattern of Y color and the detection result of the speed difference detecting pattern (S26), and the stored positional shift amount is corrected according to the calculated speed difference (S27).例文帳に追加

離間した状態で、速度差検出用パターンを検出し（Ｓ２５）、Ｙ色のレジストパターンの検出結果と速度差検出用パターンの検出結果からベルト速度差を算出し（Ｓ２６）、算出した速度差に応じて、格納されている位置ずれ量を補正する（Ｓ２７）。 - 特許庁

This electronic musical instrument is provided with a means for selecting a scale corresponding to a code by designating code progress and a key for a melody pattern and a correcting means for correcting the pitch of the melody pattern for matching it with the scale by operating tone shift corresponding to the code for each sound of the melody pattern.例文帳に追加

この電子楽器は、メロディパターンに対して、コード進行とキーを指定することによって、コードに対応するスケールを選択する手段と、メロディパターンの各音に対してコードに対応して移調し、スケールに合うようにピッチの補正を行う補正手段を有する。 - 特許庁

An image forming apparatus includes an automated pattern update section 274 that decides, based on a job log, a shift time in each time zone to shift the apparatus from a normal conductive state to a power saving state and a display processing section 286 that indicates the decision situation of the shift time in each time zone on a display apparatus by the time zone.例文帳に追加

画像形成装置は、ジョブログに基づいて各時間帯における通常の通電状態から節電状態へ移行するまでの移行時間を決定するオートパターン更新部２７４と、各時間帯における移行時間の決定状況を時間帯別に表示装置に表示させる表示処理部２８６とを含む。 - 特許庁

An electronic control unit 12 for governing control of such an automatic transmission simplifies the shift control by computing transmission torque capacity before the shift of the engaging elements released in shifting, and selecting a control pattern of the shift control in response to the magnitude of the computed transmission torque capacity.例文帳に追加

こうした自動変速機の制御を司る電子制御ユニット１２は、変速に際して解放される係合要素の変速前の伝達トルク容量を演算するとともに、その演算された伝達トルク容量の大きさに応じて変速制御の制御パターンを選択することで、変速制御の簡易化を図っている。 - 特許庁

An arithmetic processing section 15 calculates a pixel shift quantity in response to the contrast pattern of the image pickup object 16, generates z, y direction moving signals Sz, Sy to shift a position of the image pickup system B in the directions z, y so as to obtain a video signal VB resulting from applying pixel shift to a video signal VA of the image pickup system A.例文帳に追加

演算処理部１５は撮像対象１６の明暗パターンに応じた画素ずらし量を算出し、ｚ，ｙ方向移動信号Ｓｚ，Ｓｙを生成して撮像系Ｂをｚ，ｙ方向に位置をずらし、撮像系Ａの映像信号ＶＡに対して画素ずらしされた映像信号ＶＢが得られるようにする。 - 特許庁

To provide an electric sewing machine capable of forming stitches or seams of high quality even in the case where a needle swinging movement pattern just before and after the shift from a start stop stitch step to a normal stitch step or from the normal stich step to an end stop stitch step differs, when the shift occurs.例文帳に追加

始め止め縫いから通常縫いへ、あるいは通常縫いから終わり止め縫いに移行するとき、その移行前後の針振りパターンが異なる場合でも、高品質な縫い目を形成することが可能な電子ミシンを提供する。 - 特許庁

While staying in a low latent probability mode, it is assumed that a variation pattern to which a super shortening variation is made to correspond as variation contents is selected and shift drawing for determining whether to shift from the low latent probability mode to a high latent probability mode is won.例文帳に追加

低潜確モード滞在中に、変動内容として超短縮変動が対応付けられた変動パターンが選択されるとともに、低潜確モードから高潜確モードへ移行させるか否かを決定する移行抽選に当選したとする。 - 特許庁

A Levenson phase shift mask 4 is subjected to projection exposure and the intensity distribution of the light which transmitted through the Levenson phase shift mask 4 is detected by a CCD camera 6, to obtain the relation between the defocus quantity on the CCD camera 6 and the dimension of the optical pattern.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク４を投影露光し、このレベンソン位相シフトマスク４を透過した光の強度分布をＣＣＤカメラ６により検出し、ＣＣＤカメラ６上のデフォーカス量と、光学的パターン寸法との関係を求める。 - 特許庁

If each patch of which the printed result is in the closest pattern to the adjacent patches T31-T35 is selected from the patches T21-T25, it is possible to determine the shift amount (the adjustment value) of the ejection timing of the ink drop that minimizes the shift of the dot forming position.例文帳に追加

パッチＴ２１〜Ｔ２５の中から、それぞれ隣のパッチＴ３１〜Ｔ３５に印刷結果が最も近いパッチを選択すれば、ドット形成位置ずれが少なくなるインク滴の吐出タイミングのずらし量（調整値）を決定することができる。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

An identical resist film is pattern-exposed twice with the first half tone phase shift mask 10 and the second half tone phase shift mask 20 each having translucent sections 12 and 22 for the holes corresponding to the holes belonging to each group.例文帳に追加

そして、各組に属するホールと対応するホール用透光部１２及び２２を有する第１のハーフトーン型位相シフトマスク１０及び第２のハーフトーン型位相シフトマスク２０を用いて同一のレジスト膜に対してパターン露光を２回行なう。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Shift amounts d1 and d2 are measured by using a reference point 132A of a photoelectric conversion face 133A as a reference, and a resist pattern 40 is formed on the photoelectric circuit board 1 by an ink-jet printing method on the basis of the measured shift amounts d1 and d2.例文帳に追加

光路変換面１３３Ａの基準点１３２Ａを基準にして、ずれ量ｄ１及びｄ２を測定し、測定されたｄ１及びｄ２に基づいてインクジェット印刷法によってレジストパターン４０が光電子回路基板１上に形成される。 - 特許庁

A phase shift mask in which a phase of a transmitted light through one electrode pattern is inverted to a phase of a transmitted light through the other electrode pattern is used as a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of the magnetic disk device to form ≤0.25μm track width.例文帳に追加

磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転する位相シフトマスクを用い、0.25μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁

A shift selectivity of the first complex reference beam is larger than that of the second complex reference beam so that the second interference pattern is used as a servo pattern to sequentially determine where the first interference patterns have been stored.例文帳に追加

第１複素参照光の移動選択度が第２複素参照参照光の移動選択度より大きいので、第２干渉縞をサーボパターンとして用いて、第１干渉縞が格納されている位置を順次決定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which the difference in etching shapes caused by the pattern density can be eliminated, and which is excellent in rapid response to the variation of the etching shift amount or the like and is at low cost.例文帳に追加

パターン形成方法に関し、パターン疎密に依るエッチング形状の差を解消することが可能であり、また、エッチングシフト量の変動などに対して即応性に優れ、且つ、低コストのパターン形成方法を提供しようとする。 - 特許庁

A photo mask B has an inspection pattern 12 composed of line groups arranged with regular spacings in directions X, Y so that lines gradually shift to lie on the holes, together with a pattern concerning the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

フォトマスクＢは半導体集積回路に関係するパターンと共に、上記各ホール上に次第にずれて乗るようにＸ方向、Ｙ方向それぞれに規則性を持つ間隔で並べられた各ライン群でなる検査パターン１２を有する。 - 特許庁

An inner sense force control part performs inner sense control by the special pattern different from the normal pattern such as adding vibration to the shift lever, and increasing an operation load, when an obstacle sensor detects an obstacle near the vehicle.例文帳に追加

力覚制御部は、障害物センサが車両近くの障害物を検出しているときには、シフトレバーに振動を加えたり操作荷重を増したりする等の通常とは異なる特別パターンで力覚制御を行う。 - 特許庁

The phase of exposure light passing through the auxiliary pattern portion 104 may be an inverted phase to the phase of exposure light passing through the light transmitting portion 102 or the phase shift portion 103 close to the auxiliary pattern portion 104.例文帳に追加

また、前記補助パターン部１０４を通過する露光光の位相は、前記補助パターン部１０４に直近の前記光透過部１０２または前記位相シフト部１０３を通過する露光光の位相に対して逆位相でよい。 - 特許庁

When the data are received by a shift register 36, the received data are compared with patterns R: 32 to 32n as preset data patterns in a comparison part 34 and the data and a pattern number as a code to indicate the data pattern are transmitted to a buffer managing part 14 by a cache control part 30.例文帳に追加

入力データを所定のデータパターンと比較し、入力データがデータパターンと一致した場合に、バッファメモリに該データパターンを示す符号を記録し、該符号に対応したデータを再生して出力するよう構成する。 - 特許庁

The phase connection is performed by using the first spatial code pattern when a relative phase ϕ of a pixel obtained by the phase shift method satisfies 0<ϕ<+π and by using the second spatial code pattern when it satisfies -π<ϕ<0.例文帳に追加

位相シフト法で求めた画素の相対位相φが０＜φ＜＋πのときには前記第１の空間コードパターンを使用し、−π＜φ＜０のときには前記第２の空間コードパターンを使用することによって、位相接続を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.例文帳に追加

エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a mask by which a pattern transferred onto a wafer can be prevented from being significantly deformed when a phase shift mask and oblique incidence lighting are combined with the mask having an asymmetrical layout to perform exposure.例文帳に追加

非対称なレイアウトのマスクに位相シフトマスクと斜入射照明を組み合わせて露光を行う場合に、ウエハ上に転写されるパターンが大きく変形することを防止できるパターン形成方法及びマスクを提供する。 - 特許庁

A positional correction of a pixel 5 of image information is made sufficiently small for a pattern on a substrate by using a controllable minimum pitch to a beam scanning pitch 6 by a charged particle beam equipment, thereby, a position/angle shift of the pattern of the pixel 5 can be prevented.例文帳に追加

ビームのスキャンピッチ６に荷電粒子ビーム装置で制御可能な最小ピッチを用いることにより、画像情報の画素５の丸め込みを基板上のパターンに対して充分小さくして、画素５のパターン目はずれを防止する。 - 特許庁

The pseudo-random number pattern generating circuit is formed in an integrated circuit, and generates binary sequence pattern data of 2^7-1 pseudo-random numbers having a plurality of output bit widths by using not an exclusive-OR gate but shift resistors 20 interconnected like a ring.例文帳に追加

集積回路に形成され、排他的論理和ゲートを使用せずに、リング状に接続されたシフトレジスタ20を用いることにより、複数の出力ビット幅を有する２^7 -1擬似乱数２進シーケンスパターンデータを発生させる。 - 特許庁

To provide detergent for lithography capable of suppressing the CD shift and the deterioration of cross-sectional perpendicularity without hindering the effect of the surfactant for preventing pattern collapse, and a method for forming a pattern using this detergent.例文帳に追加

界面活性剤によるパターン倒れの防止効果を阻害することなく、ＣＤシフト及び断面垂直性の低下を抑制する、リソグラフィー用洗浄剤及びこの洗浄剤を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

This lithography device is provided with a supporting structure configured to hold a phase shift mask configured so that any unpolarized radiation beam can be pattern-formed according to a desired pattern and a substrate table configured to hold a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って非偏光放射のビームをパターン形成するように構成された位相シフト・マスクを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルとを備えている。 - 特許庁

To provide a method for forming a diffraction grating and a method for manufacturing a semiconductor laser, which can suppress shift of a diffraction grating pattern from a design value even when a pattern dimension of a mask layer is shifted from the design value.例文帳に追加

マスク層のパターン寸法がその設計値からずれた場合においても、回折格子のパターンがその設計値からずれることを抑制可能な回折格子を形成する方法及び半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁

In an optical processing machine for optically processing a matter to be processed optically by illuminating a pattern on a mask with a luminous flux from a light source means and projecting the pattern on the mask onto the matter to be processed with a projection lens, the mask utilizes phase shift.例文帳に追加

光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において該マスクは位相シフトを利用していること。 - 特許庁

In the local alignment step, a local alignment unit carries out the local alignment of a pattern image of a detection object and a reference pattern image of a detection reference in the local area, and obtains a shift amount being the alignment result.例文帳に追加

局所アライメントステップでは、局所アライメント部が、前記局所領域において、検査対象のパターン画像と検査基準の基準パターン画像との前記局所アライメントを行い、局所アライメント結果であるシフト量を得る。 - 特許庁

An isolated light-shielding pattern comprising a light-shielding film region 101 and a phase shift region 102 is formed on a transparent substrate 100 serving as a mask.例文帳に追加

マスクとなる透過性基板１００上に、遮光膜領域１０１と位相シフト領域１０２とから構成された孤立した遮光性パターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a technology in which a test pattern for determining the correction value of positional shift at the time of bi-directional printing can be printed depending on a print mode being used actually.例文帳に追加

実際に使用される印刷モードに応じて、双方向印刷時の位置ズレの補正値を決定するためのテストパターンを印刷することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an optical head which cancels an offset caused by an objective lens shift by using a light-detecting element having a light-receiving face pattern of simple composition, and also to provide an optical disk device.例文帳に追加

単純な構成の受光面パターンを持つ光検出素子を用いて対物レンズシフトに起因するオフセットをキャンセルできる光ヘッド及び光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

A write control section 42 controls an exposure device 30 to form an electrostatic latent image of the color shift correction pattern on a photoreceptor drum 34, and a development unit 33 develops the image.例文帳に追加

書き込み制御部４２で、露光装置３０を制御し色ずれ補正パターンの静電潜像を感光体ドラム３４上に形成し、現像器３３で現像する。 - 特許庁

A first photodetector having a plurality of light receiving patterns receives light from a light source and detects a shift of an intensity distribution center of a far-field pattern of the light source.例文帳に追加

複数の受光パターンを有する第１の光検出器によって光源からの光を受光し、光源のファーフィールドパターンの強度分布中心シフトを検出する。 - 特許庁

To provide a transfer case at lower manufacturing costs by simplifying a speed changing pattern to improve the operability and requiring only one shift load to simplify manufacturing processes.例文帳に追加

変速パターンを単純化して操作性を向上させ、シフトロードを一つに減らし製作工程を簡単にすることにより製作単価を下げるトランスファケースを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing speed variation due to load variation of a photoreceptor depending upon on a pattern of a recorded image to reduce a position shift of recording, transfer, etc.例文帳に追加

記録画像のパターンによる感光体の負荷変動による速度変動を低減させ、記録や転写等の位置ずれを低減させ得る画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A memory (51) connected to the force sense control section (50) previously stores a force sense pattern (52) having hysteresis different in characteristic in a forward operation and a backward operation of the shift lever.例文帳に追加

力覚制御部（５０）に接続されるメモリ（５１）には、シフトレバーの往路操作と復路操作とで特性が異なるヒステリシスを有する力覚パターン（５２）が予め記憶される。 - 特許庁

To provide a method for accurately adjusting the rotational phase of each photoreceptor, by effectively removing the disturbing components contained in a toner pattern for color shift adjusting.例文帳に追加

色ずれ調整用のトナーパターンに含まれる外乱成分を効果的に除去し、各感光体の回転位相を精度よく調整することのできる手法を提供する。 - 特許庁

Event recording shift registers 28 and 30, each for recording the pattern signal S11 outputted from a register 20 and the event signal S32 outputted from a register 24, are provided.例文帳に追加

レジスタ２０から出力されるパターン信号Ｓ１１及びレジスタ２４から出力されるイベント信号Ｓ３２をそれぞれ記録するイベント記録シフトレジスタ２８，３０を備えた。 - 特許庁

The nozzles 310 thus arranged can generate a pseudo-hexagonal lattice pattern by causing a horizontal or vertical shift intendedly with a correction means 704.例文帳に追加

このように配置したノズル３１０は、補正手段７０４によって、意図的な水平または垂直のずれを生じさせて、擬似六方格子パターンを作り出すことができる。 - 特許庁