「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a panorama image synthesis technique using a scanning charged-particle microscope, which achieves a panorama image robust against contamination, imaging shift and distortion of an image in a wide-field imaging region (EP) on a fine semiconductor pattern.例文帳に追加

微細な半導体パターンに対する広視野な撮像領域（ＥＰ）において、コンタミネーション、画像の撮像ずれや歪みに対してロバストなパノラマ画像合成を実現できるようにした走査荷電粒子顕微鏡を用いたパノラマ画像合成技術を提供することにある。 - 特許庁

Then the line sensor is moved as shown by the arrow Y (step 122) to make a second scan (step 124), a test pattern read signal is analyzed to calculate the quantity of a position shift from the first scan (step 126), and the line sensor is finely adjusted and moved as shown by the arrow X (step 128).例文帳に追加

続いて、ラインセンサを矢印Ｙ方向に移動し（ステップ１２２）、第２のスキャンを行い（ステップ１２４）、テストパターン読取信号を解析し、前第１のスキャンとの位置ズレ量を算出し（ステップ１２６）、ラインセンサを矢印Ｘ方向に微調整移動する（ステップ１２８）。 - 特許庁

In a mask pattern (a) for patterning word lines and data lines, lengths of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 having end parts neighboring each other are varied to shift their ends from each other, and further the ends of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 are slanted.例文帳に追加

ワード線やデーター線をパターニングするためのマスクパターン（ａ）において、終端部の隣り合うワード線ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５、ＷＬ６の長さを変えて先端をずらし、さらにワード線端ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５，ＷＬ６を斜めに角を落とす。 - 特許庁

In a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of a magnetic disk device, a track width of 0.24 μm is formed by using an edge emphasis phase shift mask in which the phase of the transmissive light of one electrode pattern is reversed from that of the other transmissive light.例文帳に追加

磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転するエッジ強調型位相シフトマスクを用い、０．２４μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁

It is determined by an external ECU whether or not the two electric signal profiles are varied according to a pattern scheduled between the two operation positions, and the electric signal is provided for detection of the operation position of the shift lever 15 when it is varied.例文帳に追加

この２種の電気信号プロファイルが、２つの操作位置の間において予定されたパターンに従って変化しているか否かを外部のＥＣＵで判別し、変化している場合に当該電気信号をシフトレバー１５の操作位置の検出に供するようにした。 - 特許庁

To provide a recording device and a recording method with which deterioration of a recording medium can be prevented even when a sync pattern is overwritten directly with respect to a rewritable optical information recording medium into which the method of SPS (start point shift) cannot be introduced due to the restriction of a linking rule or the like.例文帳に追加

リンキングルールの制約等によりＳＰＳの手法を導入できないような書き換え可能な光学情報記録媒体に対し、シンクパターンをダイレクト・オーバライトしても、記録媒体の劣化を防止することができる記録装置及び記録方法を提供する。 - 特許庁

The color shift-reducing optical filter is interposed on the front side of a display panel of the display device, and includes a laminar back ground layer 10 and a green wavelength absorption pattern 20 absorbing the light of green wavelength.例文帳に追加

ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前方に具備される光学フィルターであって、層をなすバックグラウンド層（１０）と、上記バックグラウンド層に所定の厚さにて形成され、グリーン波長の光を吸収するグリーン波長吸収パターン（２０）と、を含むカラーシフト低減光学フィルター。 - 特許庁

A bit serial signal 212_0 of each frame sequentially transfers a shift register composed of flip-flop circuits 250 to 257, and the existence/absence of frame synchronization is discriminated when coincidence circuits 260 to 267 make bits of respective stages coincide with corresponding bits of the synchronous pattern 220_0.例文帳に追加

フレームごとのビットシリアルな信号２１２_0は、フリップフロップ回路２５０〜２５７からなるシフトレジスタを順次転送され、それぞれの段のビットが同期パタン２２０_0の対応するビットと一致回路２６０〜２６７で一致をとられることでフレーム同期の有無が判別される。 - 特許庁

To prevent a print defective substrate from being produced owing to a position shift of a substrate on a palette by a system which positions one screen mask above a plurality of substrates mounted on the palette and screen-prints a predetermined pattern on the plurality of substrates together at a time.例文帳に追加

パレット上に搭載した複数の基板の上方に１枚のスクリーンマスクを位置させて複数の基板に一括して所定のパターンをスクリーン印刷するシステムにおいて、パレット上の基板の位置ずれ等に起因する印刷不良基板の生産を未然に防止する。 - 特許庁

The arithmetic circuit has a memory RAM storing original image data to be referred to by the unit of a macro block being the block of prescribed number of pixels and a pattern judging block for outputting a bit shift quantity S12 required for extracting a pattern, data on whether to permit writing into a memory and data S18 showing which direction one direction of an object boundary pixel is.例文帳に追加

演算回路は、参照すべき元の画像データを所定数の画素のかたまりであるマクロブロック単位で格納したメモリＲＡＭと、パターンを抽出するために必要なビットシフト量Ｓ１２と、メモリへに書き込みを許可するか否かのデータＳ１６と、一方向がいずれの方向のオブジェクト境界画素かを示すデータＳ１８とを出力するパターン判定ブロックとを有する。 - 特許庁

An imprint apparatus includes: a detector 172 that detects a marking formed on a substrate; and a control unit CNT that makes the detector detect the marking between imprint cycles, and that calculates an overlay to obtain an overlay error that is a shift between a pattern formed on a top layer of the substrate and a new pattern formed on a layer upper than the top layer based on a detection result.例文帳に追加

基板に形成されたマークを検出する検出器１７２と、インプリントサイクルとインプリントサイクルとの間において、前記検出器にマークを検出させて、その検出結果に基づいて、基板の上の層に形成されたパターンと当該層よりも上の層に新たに形成されたパターンとのずれであるオーバーレイ誤差を求めるオーバーレイ計測を実行する制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

To provide a polyamide-based multilayer film which has the extremely small elongation of a nylon film caused by tension or heat in such a manner that the shift or distortion of a printed pattern becomes extremely small even if, in particularly, a complicated printed pattern is applied and a product such as a bag is processed, in the polyamide-based multilayer film having both pinhole resistance generated by bending and pinhole resistance generated by repeated contact.例文帳に追加

屈曲による耐ピンホール性及び繰り返し接触による耐ピンホール性の両方を兼ね備えたポリアミド系多層フィルムにおいて、特に、複雑な印刷柄を施し、袋のような製品を加工しても、その印刷柄のズレや歪みが非常に小さくなるようにすべく、テンションや熱によるナイロンフィルムの伸びの非常に小さいポリアミド系多層フィルムを提供する。 - 特許庁

In the printer having an ejection head for forming dots on a printing body by ejecting ink drops and printing a pattern having a plurality of subpatterns for correcting the shift of dot forming position in the going stroke and the returning stroke of main scanning onto the printing body using the ejection head, the shift is corrected based on two or more of the plurality of subpatterns having a peak in the density.例文帳に追加

インク滴を吐出して被印刷体にドットを形成するための吐出ヘッドを有し、主走査の往路におけるドット形成位置と復路におけるドット形成位置とのズレを補正するための、複数のサブパターンを有する補正用パターンを前記吐出ヘッドにより被印刷体に印刷する印刷装置において、前記複数のサブパターンのうち、濃度においてピークを有する二つ以上のサブパターンに基づいて、前記ズレを補正する。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

The image processing method in the image display comprises a step of shifting pictures by a pattern at a pixel shift frequency characterized in the said frequency is changed for a group of at least one picture depending on a motion degree of the group.例文帳に追加

画像表示器における画像処理の方法であって、あるピクセル移動周波数で、あるパターンによって画像を移動させるステップを有し、前記ピクセル移動周波数は、少なくとも一つの画像を有するグループのために、前記グループの動きの度合いに依存して変化させる。 - 特許庁

The photo mask 5 for phase shift focus monitor has first and second light transmission parts 5c and 5d adjacent to each other across a light shielding pattern 5b between them and is so constituted that a phase difference other than 180° may be given for respective exposure light transmitted through the first and second light transmission parts 5c and 5d.例文帳に追加

この位相シフトフォーカスモニタ用フォトマスク５は、遮光パターン５ｂを挟んで隣り合う第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを有し、かつ第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを透過した各露光光に１８０°以外の位相差が生じるように構成されている。 - 特許庁

To provide: a resin film which compatibly achieves both prevention against a position shift of a conductor pattern during sticking and securing of adhesive strength of a resin film during lamination of layers and with which a multilayer circuit board is easily manufactured at low cost; the multilayer circuit board using the same; and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

貼り合わせ時の導体パターンの位置ずれ防止と多層化時の樹脂フィルムの接着性確保を両立させることができ、多層回路基板を容易で安価に製造することのできる樹脂フィルムおよびそれを用いた多層回路基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

A controller 100 partially adds or deletes the pixel piece to/from one pixel in a prescribed scanning period through the use of a shift register 45 while aiming to change the period of a PWM signal as a luminous pattern signal outputted from a PWM signal generation circuit 41.例文帳に追加

コントローラ１００は、ＰＷＭ信号生成回路４１から出力される発光パターン信号であるＰＷＭ信号の周期を変更することを意図して、シフトレジスタ４５を用い、１画素に対して画素片の追加もしくは削除を所定の走査期間において部分的に行う。 - 特許庁

When a start determination unit determines shift to a specific game status or determines a specific variation display pattern, specific presentation is executed, before satisfaction of a condition for starting the variation display of identification information to be satisfied.例文帳に追加

始動判定手段によって特定遊技状態に移行させると判定された場合または特定の可変表示パターンとなると判定された場合に、当該判定対象となった識別情報の可変表示の開始条件が成立する以前に、特定演出を実行可能である。 - 特許庁

When a control command from a main control board 101 is received, a presentation control board 102 and an image control board 105, etc. display the presentation in a first pattern for the shift to a first game state based on the control command in a liquid crystal display device 13.例文帳に追加

主制御基板１０１からの制御コマンドを受信すると、演出制御基板１０２及び画像制御基板１０５等は当該制御コマンドに基づく第１の遊技状態に移行するための第１のパターンによる演出を液晶表示装置１３に表示させる。 - 特許庁

The buffer memories 74A, 74B, 74C consisting of shift registers have memory capacities dependent on the mutual distance interval of the partial projection areas, and shifts the projection positions of division pattern images from each other by adjusting the time it takes from the input to the output of the raster data.例文帳に追加

シフトレジスタで構成されるバッファメモリ７４Ａ、７４Ｂ、７４Ｃは、部分投影エリアの相互距離間隔に応じてそれぞれメモリ容量が相違し、ラスタデータの入力から出力するまでにかかる時間を調整することによって、分割パターン像の投影位置を等距離間隔で互いにずらす。 - 特許庁

When an internal electrode layer 15 is arranged such that the secondary internal electrode 15 is provided for every other layer and included only in the same profile pattern, minute positional shift of the secondary internal electrodes 15 can be prevented between respective layers.例文帳に追加

このため内部電極層において、二次側内部電極１５を１層おきに設置する構成として、同一の形状パターンにのみ二次側電極１５が含まれる構成とすれば、各層間での二次側内部電極１５の相互の微小な位置ずれを防止することができる。 - 特許庁

On the surface side of the transfer electrode of a vertical shift register composed of polysilicon constituting a vertical transfer electrode group, a wiring pattern 50 having a metallic or metal silicide auxiliary wiring and an extra wiring of lower resistance than polysilicon is formed.例文帳に追加

垂直転送電極群を構成している多結晶シリコンからなる垂直シフトレジスタの転送電極の表面側には、多結晶シリコンよりも低抵抗である金属または金属シリサイド製の補助配線及び付加配線を有する配線パターン５０が形成されている。 - 特許庁

After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.例文帳に追加

基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁

On the other hand, when the shift to none of the jackpot game state is judged, the pachinko game machine selects the specific performance pattern at a prescribed selection probability under the low probability game state but does not select it under the high probability game state.例文帳に追加

一方、パチンコ遊技機は、大当り遊技状態に移行しないと判定された場合において、低確率遊技状態であるときには、特定の演出パターンを所定の選択確率で選択し、高確率遊技状態であるときには、特定の演出パターンを選択しない。 - 特許庁

To realize a method and an equipment for measuring plate shift of all plates at the same position on an image output medium while avoiding measurement error due to mismatch between the direction of an evaluation pattern and the input direction thereof and decreasing the number of required measuring points.例文帳に追加

画像出力媒体上の同一位置において全ての版に関し版ずれを測定することができ、評価用パターンの方向とその入力方向との不一致による測定誤差を回避することができ、さらに必要な測定点数が少ない版ずれ測定方法及び装置を実現する。 - 特許庁

Next, the sounding data is generated based on the selected arpeggio pattern data and sound pitch of the touching key tone (3a), a note number included in the generated sound data is shifted by only read-out octave shift amount, and the sounding data including the note number after being shifted is registered with a sounding data list (1b and 3b).例文帳に追加

次に、選択されたアルペジオパターンデータおよび押鍵音の音高に基づいて発音データが生成され（３ａ）、該生成された発音データに含まれるノートナンバが、読み出されたオクターブシフト量だけシフトされ、シフト後のノートナンバを含む発音データが発音データリストに登録される（１ｂ，３ｂ）。 - 特許庁

To provide a method for forming a resin film with a metal pattern which is useful to prevent a position shift and a handling failure that are liable to result in a process of applying a cover ray and a reinforcement film in preparing a flexible printed wiring board.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板作製時にカバーレイや補強フイルムをつける工程において生じやすい位置ずれやハンドリング不良を回避し、かつ生産効率をあげるのに有用な金属パターン付き樹脂フイルムの製造方法およびそれを用いたフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This safety monitoring device is provided with a microwave Doppler sensor, so that it can calculate the body motion count and respiratory rate of a subject by using a microwave Doppler shift signal output by the microwave Doppler sensor, and then it can monitor the safety of the subject based upon a safety indicator pattern which is a combination of these two factors.例文帳に追加

本発明の安否監視装置は、マイクロ波ドップラセンサを備えており、マイクロ波ドップラセンサが出力するマイクロ波ドップラシフト信号を用いて体動数と呼吸数とを算出し、これら２つの上方の組み合わせである安否パターンから被検者の安否を監視する。 - 特許庁

When permitting transition to the travelling environment, the after-processing means determines the permission of the transition in the case that the new travelling environment continues for a predetermined time or the vehicle is in a predetermined travelling condition, e.g. Then, the shift pattern is changed corresponding to the estimated new travelling environment.例文帳に追加

後処理手段によって走行環境の移行が許可されたとき、例えば新たな走行環境が所定時間継続したときや車両が所定の走行状態のときに移行許可の判定が行われ、推定された新たな走行環境に応じた変速パターンに変更される。 - 特許庁

The several watched characteristic points DP selected out of several watched characteristic points CP constituting the contour OL of the paper pattern by an operator are translated in horizontal or vertical direction depending on the shift of a translation tool R by operating the translation tool on the display.例文帳に追加

平行移動ツールＲを画面上で操作することにより、型紙の輪郭線ＯＬを構成する複数の特徴点ＣＰの中からオペレータが選択した複数の注目特徴点ＤＰを平行移動ツールＲの移動量に応じて、水平又は垂直方向に平行移動させる。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two-layer resist system.例文帳に追加

高感度であり、０．２μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A short run shift command generating device outputs a constant acceleration terminal timing signal to the time series speed pattern generating device when a remaining travel distance to the predetermined stop position of the car becomes less than a car stoppable distance before the car speed becomes the constant speed.例文帳に追加

そして、ショートラン移行指令発生装置は、かご速度が一定速度になる前に、かごの停止予定位置までの走行残存距離がかごの停止可能距離以下になったときに、時系列速度パターン発生装置に一定加速終了タイミング信号を出力する。 - 特許庁

The design step preferably comprises a step for determining a scaling factor function for relating the critical dimensions and the shaft of a pattern composition member with the necessary critical dimensions of the circuit composition member, while taking account of the fact that the scaling factor function is a function of the shift.例文帳に追加

好適には、設計ステップは、スケーリング係数関数が、またシフトの関数であることを考慮に入れながら、パターン構成部材の臨界寸法とシフトを回路構成部材の必要な臨界寸法へ関連づける、スケーリング係数関数を決定するステップを含むことが好ましい。 - 特許庁

A storage 41 of the servo driver 4 of the servo motor 32 stores a predetermined operation pattern beforehand for indexing, and sequentially reads out shift data from the storage 41 and drives the actuator 3 to index the index table 2, when receiving an operation start command from the host controller 5.例文帳に追加

サーボモータ３２のサーボドライバ４の記憶部４１には、割り出し用の定まった動作パターンが予め記憶保持され、上位のコントローラ５から動作開始指令が入力されると、記憶部４１から順次に移動量データを読み出してアクチュエータ３を駆動してインデックステーブル２の割り出し動作を行う。 - 特許庁

An I-CH signal 74 and Q-CH signal 75 as demodulated reception signals with respect to a selected frequency candidate are input to the respective shift register rows 200 and 201 which in turn individually compute correlation values A1 to A4 and correlation values B1 to B4 with respect to a reference pattern.例文帳に追加

選択された周波数候補に対して、復調された受信信号のＩ−ＣＨ信号７４とＱ−ＣＨ信号７５とをそれぞれのシフトレジスタ列２００、２０１に入力し、参照パターンとの相関値Ａ１〜Ａ４および相関値Ｂ１〜Ｂ４を部分列単位で個別に計算する。 - 特許庁

This drum type game machine displays the shift amount 801 of the position of a target pattern and a valid line on which the patterns of a role should be arranged at the time of a reel stopping operation and the technique level 802 of the spot pushing of the player at a variable display device 609 immediately, after a small role is missed.例文帳に追加

回胴式遊技機は、小役の取りこぼしが発生した直後に、リール停止操作時における狙った図柄の位置と役の図柄を揃えるべき有効ラインとの偏移量８０１、および遊技者の目押しの技術レベル８０２を、可変表示装置６０９に表示する。 - 特許庁

The controller 8a controls discharge of droplets from the nozzles in such a way as to shift the timing of discharging droplets among the nozzles located closely when the application pattern is such that droplets are discharged simultaneously from nozzles located closely among the nozzles.例文帳に追加

制御部８ａは、前述の塗布パターンが複数のノズルの中で近接して位置するノズルから液滴を同時に吐出させる塗布パターンであったとき、当該近接して位置するノズル同士において液滴の吐出タイミングをずらすようにノズルからの液滴の吐出を制御する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask with steps, a photomask which is greatly improved in size precision of an auxiliary pattern by coating even a substrate, obtained by forming a shifter-dug step part on a transparent substrate by etching, with photosensitive resin so that the surface is smooth and the film thickness is uniform, or a photomask with a Levenson type phase shift.例文帳に追加

段差を持つフォトマスクや、透明基板にエッチングによってシフター掘り込みの段差部を形成した基板にも、表面平滑で、且つ膜厚を均一に感光性樹脂を塗布し、補助パターンの寸法精度を格段に向上させるようにしたフォトマスク、又はレベンソン型の位相シフトのフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

A geometrical shift at the time of overlapping the images of the rectangular pattern 50 viewed when moving the eyeglass lenses 10 by a first horizontal angle to right and left with a head in a range without moving a sight line from the geometrical center 55 so that the geometrical centers 55 of the images coincide with each other, is obtained as shake indices IDd and IDs.例文帳に追加

視線が幾何学的中心５５から動かない範囲で頭部とともに眼鏡用レンズ１０を第１の水平角度だけ左右に動かしたときに見える矩形模様５０の画像を幾何学的中心５５が一致するように重ね合わせた際の幾何学的なずれをゆれ指標ＩＤｄおよびＩＤｓとして求める。 - 特許庁

To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加

加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The shutter 83 is kept closed prior to the shift to the first advantageous state which offers the improved probability of earning the specified result of display and is opened to make the display contents of a rotary member display a pattern showing the first advantageous state.例文帳に追加

回動式表示装置８はシャッター８３を備え、シャッター８３は、特定の表示結果とする確率を向上させた状態である第１の有利状態に移行する際、この移行の前に、シャッター８３が閉じられた状態で、回動部材の表示内容が第１の有利状態を示す図柄を表示し、シャッター８３が開けられる。 - 特許庁

The inspection device includes a position correction part for generating a characteristic point from a pattern mutually connecting the elements to be inspected on the image of the material for correcting a shift in position of the image of the material based on displacement from a reference position of the characteristic point, and an inspection part for inspecting the image of the material whose position has been corrected.例文帳に追加

この検査装置は、被検査体画像において検査対象要素を相互に接続するパターンから特徴点を生成し、特徴点の基準位置からの変位に基づいて被検査体画像の位置ずれを補正する位置補正部と、位置が補正された被検査体画像を検査する検査部と、を備える。 - 特許庁

To provide a pattern print transparent sheet which is a member for providing a coordinate detection means which can be applied to a data input system of a direct handwriting type on the screen of a display device, and allows weight reduction, mass production, and cost reduction, and facilitates making a large area, and suppresses the shift of the reflected wavelength of invisible rays.例文帳に追加

ディスプレイ装置の画面に直接手書きするタイプのデータ入力システムに適用できる、座標検知手段を提供する部材であって、軽量で、量産可能で、価格が安く、大面積化が容易で、しかも非可視光線の反射波長のシフトが抑制できるパターン印刷透明シートを提供する。 - 特許庁