「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The shift unit 306, after the execution unit 305 has carried out the prior suggestion performance and variation of the specific symbol for the specific variation pattern is finished, shifts a performance mode, according to the shift suggestion performance carried out during variation of the specific symbol for the specific variation pattern.例文帳に追加

移行部３０６は、実行部３０５によって事前示唆演出がおこなわれ、特定の変動パターンに対する特別図柄の変動が終了した後に、当該特定の変動パターンに対する特別図柄の変動中におこなわれた移行示唆演出に応じて、演出モードを移行する。 - 特許庁

Cycle shift parts 5 are each provided in signal paths in which an expected value pattern S2 is inputted to each of a timing generating device 3 and a logic comparing circuit 2 from a timing generating part 1, and the expected value pattern is shifted by the same number of cycles according to the cycle displacements of a DUT at each cycle shift part 5.例文帳に追加

タイミング発生部１からタイミング発生器３と論理比較回路２とそれぞれ期待値パターンＳ２を入力する信号経路上に、それぞれサイクルシフト部５を設け、各サイクルシフト部５において、ＤＵＴ４のサイクルずれに合わせて、期待値パターンを同一サイクル数ずつシフトさせる。 - 特許庁

The optical filter for the display apparatus includes a background layer which is stratified, a color shift reducing pattern which is formed on the background layer with predetermined thickness and a light reflecting patch which is formed behind the color shift reducing pattern and reflects light backward.例文帳に追加

ディスプレイ装置用光学フィルターであって、層をなすバックグラウンド層と、上記バックグラウンド層に所定の厚さにて形成されるカラーシフト低減パターンと、上記カラーシフト低減パターンの後方に形成され、光を後方に反射する光反射パッチと、を含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

Recording dot pitch p in the main scanning direction is equalized to the recording dot pitch q in the sub-scanning direction, a shift dot pattern where the position of dots 35 is shifted by p/2 in the main scanning direction is generated between adjacent lines 31 in the sub-scanning direction, and print out is effected based on that shift dot pattern.例文帳に追加

主走査方向の記録ドットピッチｐと副走査方向の記録ドットピッチｑとを等しく定め、副走査方向で隣接するライン３１間ではドット３５の位置を主走査方向にｐ／２だけずらしたシフトドットパターンを生成し、そのシフトドットパターンに基づいて印字出力する。 - 特許庁

Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.例文帳に追加

さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a pattern of a rectangular shape and ensures low edge roughness of a line pattern in the production of a semiconductor device and ensures a small dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The alignment coordinate is used to perform alignment of a detection image and the design information for correction of a shift amount and comparison is made with the pattern of a coordinate expected to have the same pattern, thereby performing pattern comparison by image detection for one die.例文帳に追加

位置合わせ座標で検出画像と設計情報の位置合わせを行いずれ量を補正し、同一なパターンが期待できる座標のパターンと比較することにより、１ダイのみの画像検出であってもパターン比較を行うことができる。 - 特許庁

The number of steps of the phase difference correction pattern can be suppressed by providing the phase difference correction pattern and a phase shift layer, so the imprint mold where the uneven pattern with the plurality of steps is formed can be manufactured more suitably.例文帳に追加

本発明では、位相差補正パターンと、位相変位層と、を備えることにより、位相差補正パターンの段数を抑制することが出来るため、より好適に複数の段差を備えた凹凸パターンが形成されたインプリントモールドを製造することが出来る。 - 特許庁

In the opening formation step, an opening which exposes the pattern 111 for measuring shift in position and a second pattern 102 are formed in a second layer 103, which is stacked so as to be higher than the first layer.例文帳に追加

開口部形成工程では、前記第１層よりも上層に積層した第２層１０３に前記位置ズレ計測用のパターン１１１を露出させる開口部と第２パターン１０２とを形成する。 - 特許庁

When a phase shift mask pattern formed by dry-etching a transparent substrate is inspected, a state wherein an etched surface is made porous is measured to detect an incomplete shifter pattern part.例文帳に追加

透明基板をドライエッチングによって形成した位相シフトマスクパターンのパターン検査において、エッチング表面が多孔質化された状態を計測することによって不完全なシフターパターン部を検出する。 - 特許庁

A shift pattern ID indicating the speeds between which a shift is made is transmitted in the form of a drive control request message from a shift control section SQM to a domain controller (for control of normal and special speeds) provided for each driving component part (linear solenoid valves SLN, SLU and SLT).例文帳に追加

各駆動部品（リニアソレノイドバルブＳＬＮ，ＳＬＵ，ＳＬＴ）毎に設けられたドメインコントローラ（通常変速制御用および特殊変速制御用）には、変速制御部ＳＱＭから、どの変速段からどの変速段への切替であるかを示す変速パターンＩＤを駆動制御要求メッセージにて通知する。 - 特許庁

The shift valves 22, 23, 24 respectively have switch circuits 22h, 23j, 24i for transmitting the line pressure to all of the shift valves to supply the line pressure to the specific control valve SL5, only when all of the on-off solenoid valves is in a shift pattern of the energization state (2-6 transmission modes).例文帳に追加

各シフトバルブ（２２〜２４）は、オンオフソレノイドバルブ（２２〜２４）の全てが通電状態のシフトパターン（２−６変速モード）のときにのみ、ライン圧がシフトバルブの全てに通じて特定のコントロールバルブ（ＳＬ５）に供給されるようにするための切換回路（２２ｈ、２３ｊ、２４ｉ）を有する。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

When a shift pattern belonging to a plurality of areas crossing the shift positions SP6, SP10 corresponding to the selected positions are detected during an OFF period of the contact signals SMJ, the device detects the failure of the contacts for position.例文帳に追加

接点信号ＳＭＪのオフ期間に、選択ポジションに対応するシフトポジションＳＰ６，ＳＰ１０を跨いだ複数の領域に属するシフトパターンが検出された場合には、ポジション用接点の故障を検知する。 - 特許庁

The manual mode includes: a first manual mode in which the shift position of the shift position 3 is set in the first forward position; and a second manual mode having a control pattern different from that of the first manual mode in the second forward position.例文帳に追加

マニュアルモードは、シフト装置３のシフト位置を第１前進位置にした状態での第１マニュアルモードと、第２前進位置にした状態での、第１マニュアルモードと制御パターンが異なる第２マニュアルモードと、を含んでなる。 - 特許庁

When a mode change-over switch is turned on, a shift pattern is switched from a normal mode attaching importance to economy, to a power mode attaching importance to accelerating performance.例文帳に追加

モード切換スイッチをＯＮすると、変速パターンが経済性を重視したノーマルモードから加速性を重視したパワーモードに切換えられる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can properly stabilize image density and properly controls the density of a pattern image to be used for color shift correction.例文帳に追加

画像濃度の安定化制御を適切に行えると共に、色ずれ補正に用いるパターン画像の濃度を適切に制御できるようにする。 - 特許庁

The phase change amount of phase shifters 4_1 to 4_m is set by phase shift change data etc. in advance so that a desired antenna directivity pattern may be acquired.例文帳に追加

移相器４_1〜４_mの位相変化量は、所望のアンテナ指向性パターンとなるように予め移相変化データなどによって設定される。 - 特許庁

To easily adjust an optical system for obtaining a desired interference pattern when a tilt type phase shift holography system is used.例文帳に追加

チルト式位相シフトホログラフィ法を用いた場合に、所望の干渉パターンを得るための光学系の調整を容易に行いえるようにすること。 - 特許庁

When the shutter 83 is opened, a pattern for the advance notice of the game state possible in the subsequent shift is displayed.例文帳に追加

回動式表示装置８はシャッター８３を備え、シャッター８３が開かれると、次に移行する遊技状態を予告する図柄が表示されている。 - 特許庁

A frequency offset estimation part 105 calculates frequency shift between the known symbols from phase difference between the known symbols from which the transmission pattern is removed.例文帳に追加

周波数オフセット推定部１０５は、送信パターンが除去された既知シンボル間の位相差から既知シンボル間の周波数ずれを算出する。 - 特許庁

In another way of patterning, the stage 5 is periodically moved to shift the irradiation position and the fine pattern is formed on the surface of the substrate by laser beam machining.例文帳に追加

また、ステージ５の周期的移動により照射位置を変え、レーザ加工により基板表面に微細形状を形成することもできる。 - 特許庁

The toner pattern image is detected by an optical sensor 61, and the image adjustment that color shift, or the like, is corrected is performed on the basis of a result of detection.例文帳に追加

該トナーパターン像は光センサ６１にて検出され、その検出結果に基づいて色ずれなどを補正する画像調整が実行される。 - 特許庁

The force sense control part generates, on the shift lever, a feeling of moderation or the like corresponding to strength according to the force sense pattern selected by the selection means.例文帳に追加

力覚制御部は、選択手段で選択された力覚パターンに従った強さに相当する節度感等をシフトレバーに生じさせる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that forms an excellent color shift detection pattern without the occurrence of wave formation.例文帳に追加

掃き寄せなどが発生していない良好な色ずれ検出パターンを形成することができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask capable of giving suitable light transmission to a halftone film according to the size of a pattern.例文帳に追加

パターンの寸法に応じて適切な光透過率をハーフトーン膜に対して与えることが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of performing dot position shift processing without pattern matching, making an image data obtain high resolution.例文帳に追加

画像データを高解像度化しつつ、パターンマッチングを行うことなくドット位置寄せ処理を行うことができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a shift pattern control method for improving the operation of an engine brake during deceleration and improving the responsiveness during re-acceleration.例文帳に追加

減速時にはエンジンブレーキがよく作動するようにし、再加速時に応答性が良くなるようにする変速パターン制御方法を提供する。 - 特許庁

Flip-flops FF(1,1)-FF(m,n) shift a test pattern SIN at a timing given by branch clocks CLK1-CLKm at the scan diagnosis mode time.例文帳に追加

フリップフロップＦＦ（１，１）〜ＦＦ（ｍ，ｎ）は、スキャン診断モード時に、テストパターンＳＩＮを分岐クロックＣＬＫ１〜ＣＬＫｍが与えるタイミングでシフトさせる。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask capable of giving suitable light transmissivity to a halftone film according to the size of a pattern.例文帳に追加

パターンの寸法に応じて適切な光透過率をハーフトーン膜に対して与えることが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask on which a fine photomask pattern is formed with high accuracy, and to provide a mask blank for producing the above mask.例文帳に追加

微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたハーフトーン型位相シフトマスクおよびこれを作製するためのマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

The method includes photolithographically imaging a phase-shift mask pattern onto a photoresist layer of a substrate to form therein a periodic array of photoresist features.例文帳に追加

基板のフォトレジスト層に位相シフトマスクパターンをフォトリソグラフィによりイメージングして、フォトレジスト造形物の周期的配列を形成することを備える。 - 特許庁

The pattern transfer mask 10 is manufactured by correction including shift in the X and Y directions, rotation around the Z axis, and magnification in the X and Y directions and/or orthogonality of a circuit pattern P so that the circuit pattern P overlaps on the all defects DF in the mask blank as an intermediate material before forming the pattern.例文帳に追加

パターン転写用マスク１０は、パターン形成前の中間材であるマスクブランクスの全ての欠陥ＤＦに回路パターンＰが重なるように、回路パターンＰのＸＹ方向へのシフト、Ｚ軸回りの回転、及び、ＸＹ方向の倍率及び／又は直交を含む補正を行って作製されている。 - 特許庁

In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping.例文帳に追加

位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。 - 特許庁

When the probability state shift decision means decides the shift to the second probability state, a probability state shifting means performs the shift from the first probability state to the second probability state on condition that a special display form is stop-displayed at a pattern display means, and the reporting means starts reporting when the special display form is stop-displayed at the pattern display means.例文帳に追加

確率状態移行決定手段が第２確率状態への移行を決定した場合には、確率状態移行手段は、特別の表示態様が図柄表示手段に停止表示されたことを条件に第１確率状態から第２確率状態へ移行させ、報知手段は、特別の表示態様が図柄表示手段に停止表示されたときに報知を開始する。 - 特許庁

A light shielding pattern 31a is formed on a translucent phase shift pattern 21a in an effective region 20 on a transparent substrate 11, while a light shielding zone 31b is formed in the peripheral part 30 and a second resist pattern 42a is formed on the light shielding zone 31b in the peripheral part 30.例文帳に追加

透明基板１１上の有効領域２０内に半透明位相シフトパターン２１ａ上に遮光パターン３１ａを、外周部３０に遮光帯３１ｂを形成し、外周部３０の遮光帯３１ｂ上に第２レジストパターン４２ａを形成する。 - 特許庁

When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness.例文帳に追加

そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。 - 特許庁

The execution unit 305, if the pattern determination unit 304 determines the specific variation pattern, carries out a prior suggestion performance for suggesting execution of a shift suggestion performance before the start of variation of a special symbol for the specific variation pattern.例文帳に追加

実行部３０５は、パターン判定部３０４によって特定の変動パターンであると判定された場合、当該特定の変動パターンに対する特別図柄の変動が開始されるより前に、移行示唆演出の実行を示唆する事前示唆演出をおこなう。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a rectangular pattern in the production of a semiconductor device and ensures low edge roughness of a line pattern and a small dimensional shift in the transfer of a pattern to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物をを提供すること。 - 特許庁

When a request giving signal is made to be '1' by a request signal fetch circuit 22, the synchronizing pattern is once only detected from the upper 4 bits of a 9 bits shift register circuit 23 by a synchronizing pattern detecting circuit 24 to transmit the synchronizing pattern detecting signal to a decode frame producing circuit 25.例文帳に追加

リクエスト信号取り込み回路２２が、リクエスト通知信号を’１’にしたとき、同期パターン検出回路２４が９ビットシフトレジスタ回路２３の上位４ビットから同期パターンを１度だけ検出し、同期パターン検出信号をデコードフレーム生成回路２５に送る。 - 特許庁

When comparing a 1st pattern formed of a combination of three continuous sync codes with a 2nd pattern formed of a combination in which an arrangement of sync codes is shifted from this 1st pattern by one piece, if a frame shift occurs, two (a plurality of) pieces of the sync codes are varied.例文帳に追加

連続する３個の同期コードの組み合わせからなる第１パターンと、この第１パターンから同期コードコードの配置を１個ずらせた組み合わせからなる第２パターンとを比べた場合に、フレームシフトが起きたら、２個（複数）の同期コードを変化させる。 - 特許庁

Furthermore, the shift quantity is preferably selected to half a period (p) of the repetitive pattern in the before- processing image S (0.5×p) as a maximum value.例文帳に追加

また、シフト量の大きさは、処理前画像Ｓにおける繰り返しパターンの周期の大きさｐの半分の大きさ（０．５×ｐ）を最大値とすることが好ましい。 - 特許庁

The slider 49 and conductor pattern member 48 detect a shift in the rotational position of the rear-group cam cylinder 13 which is driven through the idling area.例文帳に追加

摺動子４９及び導体パターン部材４８は、空転域を介して駆動が伝達される後群用カム筒１３の回転位置ずれを検出する。 - 特許庁

To provide a refection type shift multiplex recording and reproducing apparatus which can record a good interference pattern without reducing recording speed for a recording layer.例文帳に追加

記録層への記録速度を低下させることなく、良好な干渉パターンを記録することのできる反射型シフト多重記録再生装置を提供する。 - 特許庁