「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes a step for forming at least one non-critical feature on a mask by utilizing one of a low transmittance phase shift mask (pattern) and a non-phase shift mask (pattern) and a step for forming at least one critical feature on the mask by utilizing a high transmittance phase shift mask (pattern).例文帳に追加

この方法は、低透過率位相シフト・マスク（パターン）と非位相シフト・マスク（パターン）の一方を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルでないフィーチャを形成するステップと、高透過率位相シフト・マスク（パターン）を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルなフィーチャを形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide an image plotting device capable of fast performing plotting processing by using a small-scale circuit in the case of repeatedly plotting a pattern image after enlarging the pattern image and applying shift processing to the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を拡大してシフト処理を行った上でくり返して描画する際に、小規模な回路を用いて高速に描画処理が可能な画像描画装置を提供する。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

A second adjusting value is determined out of a plurality of candidates selected in the vicinity of the first adjusting value using a second positional shift inspection pattern different from the first positional shift inspection pattern.例文帳に追加

また、第１の位置ずれ検査用パターンとは異なる第２の位置ずれ検査用パターンを使用して、第１の調整値近傍において選択された複数の第２の調整候補値の中から第２の調整値を定める。 - 特許庁

According to the pitch of the pattern, a correction quantity is calculated by using the rule base to correct data for pattern inspection and then data for phase shift mask correspondence inspection.例文帳に追加

次いで、パターンのピッチに基づいて、ルールベースから補正量を算出してパターン検査用データを補正して、位相シフトマスク対応検査用データを作成する。 - 特許庁

To provide a color image forming device which can form an excellent pattern without repeating pattern generation processing for position shift detection.例文帳に追加

位置ずれ検出用パターン作成処理を複数回繰り返すことなく、良好なパターンを作成することを可能にしたカラー画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The sign discrimination section 94 discriminates whether or not the shift output when the 2T detection section 92 detects the 2T pattern satisfies a prescribed sign pattern.例文帳に追加

符号判定部９４は、２Ｔ検出部９２が２Ｔを検出したときのシフト出力が所定の符号パターンを満たしているか否かを判定する。 - 特許庁

A wiring pattern for delivering a CCD shift control signal and a wiring pattern for delivering a video signal are arranged on one and same flexible printed wiring board 121.例文帳に追加

同一のフレキシブルプリント配線基板１２１上にＣＣＤ移動制御信号と映像信号をそれぞれ伝達するための配線パターンを配設する。 - 特許庁

Shift of the head is calculated based on the distance from the detected position of each pattern element to the detected position of the pattern element of a reference head.例文帳に追加

各パターン要素が検出された位置から基準ヘッドのパターン要素が検出された位置までの距離に基づいてヘッドのずれ量を算出する。 - 特許庁

To set arbitrary sensitivity by reducing the influence of a position shift of an inspection pattern on a pattern inspecting device, the contraction of a base material, etc.例文帳に追加

パターン検査装置において検査パターンの位置ずれや基材の収縮等による影響を少なくし、任意の感度を設定できるようにすること。 - 特許庁

To provide a pattern matching method which prevents a matching score from decreasing due to a pixel shift in pattern matching and reaches the maximum score fast.例文帳に追加

パターンマッチング時の画素ずれによるマッチングスコアーの低下を防止すると共に、最高値スコアーまで高速に到達するパターンマッチング方法を提供する。 - 特許庁

In this pattern forming method, a circuit pattern 14 is formed on a resist film on a substrate 141 with an exposing process using phase shift masks 10, 12.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、位相シフトマスク１０，１２を用いた露光により、基板１４１上のレジスト膜に回路パターン１４を形成するものである。 - 特許庁

The resolution of the pattern can be enhanced and ≤0.25μm resist pattern can be resolved and ≤0.25μm track width can be formed by using the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いることにより、パタ−ンの解像度の向上が図れ、0.25μｍ以下のレジストパタ−ンを解像でき、0.25μｍ以下のトラック幅が形成可能となる。 - 特許庁

To prevent the impairment of design due to a shift between a floor pan body pattern and a drain hole cover pattern when the patterns have directionality and regularity.例文帳に追加

模様に方向性や規則性がある場合に、床パン本体の模様と排水口カバーの模様とがずれてデザイン性が損なわれることのないようにする。 - 特許庁

Further, the image forming apparatus includes a determination part for comparing the first dot pattern data and the second dot pattern data to determine a shift amount of the formation positions.例文帳に追加

また、本画像形成装置は、第１のドットパターンデータと第２のドットパターンデータとを比較して、形成位置のズレ量を決定する決定部を含む。 - 特許庁

When the shift number-of-times value reaches the number of times immediately before a threshold, the sub control means 35 judges whether or not a variation pattern is the pattern of a big winning.例文帳に追加

サブ制御手段３５は、閾値の直前の回数に移行回数値が到達した場合に、変動パターンが大当りのパターンであるか否かを判定する。 - 特許庁

Since the pattern size control is effective to a fine pattern and both dose and the extent of shift are used as size control parameters, exposure with sufficient tolerance is enabled.例文帳に追加

微細なパターンに有効でかつ寸法制御パラメータとして照射量とシフト量の両方でできるので裕度のある露光が可能である。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which suppresses decrease in the intensity of the main peak or generation of a side peak and makes pattern transfer with high accuracy possible while relaxing the dimensional limitation as an auxiliary pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask.例文帳に追加

補助パターンとしての寸法的な制限を緩和しつつ、メインピークの強度低下やサイドピークの発生を抑制して、より高い精度でのパターン転写を可能とする位相シフトマスクおよび該位相シフトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス及びその製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いたレジストパターン形成方法、並びに半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

A cross-correlation detection section 28 applies cross-correlation between the mixed pulse pattern stored in the shift register 24 and a reference pulse pattern in a pulse pattern bank 25, and a pulse pattern decoder 29 reads the ID and the transmission data of the wireless tag 10.例文帳に追加

相互相関部２８は、シフトレジスタ２４に記憶された混合パルスパターンとパルスパターンバンク２５内の参照パルスパターンとの間で相互相関を行ない、パルスパターンデコーダ２９により無線タグ１０のＩＤおよび送信データを読み取る。 - 特許庁

A processed layer pattern 4 is formed using an alternating phase shift mask, then ion implantation of an impurity is selectively carried out in the unnecessary pattern 4b to increase an etching rate of the unnecessary pattern 4b, after which the unnecessary pattern 4b is etched away.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いて被加工層パターン４を形成した後、不要パターン４ｂに選択的に不純物をイオン注入して不要パターン４ｂのエッチングレートを上げた後に、不要パターン４ｂをエッチングにより除去する。 - 特許庁

A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加

減光体としての機能を有する薄膜パターン２ａと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン３ａとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ１１上のレジスト膜１２にパターンを転写する。 - 特許庁

In a step S2, etching time corresponding to an etching shift amount for obtaining expected sizes of the sparse pattern and dense pattern using the exposure amount determined by the first correlation is determined using second correlation, pre-obtained, between etching times of the space pattern and dense pattern and the etching shift amount.例文帳に追加

ステップＳ２では、予め取得された、疎パターン及び密パターンにおけるエッチング時間とエッチングシフト量との第２の相関関係を用いて、第１の相関関係により決定された露光量による疎パターン及び密パターンをそれぞれ所期の寸法とするためのエッチングシフト量に対応したエッチング時間を決定する。 - 特許庁

A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.例文帳に追加

そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a phase shift mask which has a binary pattern region and a plurality of phase shift pattern regions on one mask and also has superior size precision and positioning precision and high quality using photolithography of ≤65 nm in half pitch on a wafer, and the phase shift mask obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

ウェハ上のハーフピッチ６５ｎｍ以下のフォトリソグラフィにおいて、１枚のマスク上にバイナリパターン領域と、複数の位相シフトパターン領域とを有し、寸法精度、位置合わせ精度に優れた高品質の位相シフトマスクの製造方法とその製造方法による位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To simultaneously provide a color image forming apparatus which performs correction processing for a color shift with print processing by forming a color shift correction pattern between sheets of recording paper, the color image forming apparatus forming the color shift correction pattern that is sized to be between sheets of paper irrelevantly to the distance between the sheets of paper during the print processing.例文帳に追加

記録紙間に色ずれ補正パターンを形成することで印刷処理と同時に色ずれ補正処理を行うカラー画像形成装置において、印刷処理時の紙間距離の長短によらず、紙間に収まるような色ずれ補正パターンを形成するカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An image forming apparatus of the present invention transfers, on an endless belt for forming an image, a pattern image of each color for color shift detection, and corrects, corresponding to a color shift amount of each of the pattern images detected by a register detection sensor, the color shift occurred when forming an image on a recording material by each image forming part.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、画像を形成するための無端状ベルト上に色ずれ検出用の各色のパターン画像を転写して、これをレジ検出センサで検出した色ずれ量に応じて、各画像形成部から記録材に画像を形成する際の色ずれを補正する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask by which a fine and highly precise exposure pattern is formed, to provide a method for manufacturing a flat panel display, and to provide the phase shift mask.例文帳に追加

微細かつ高精度な露光パターンを形成することが可能な位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスクを提供する - 特許庁

To provide a means which enables detection of a color-shift detection pattern regardless of the presence or absence of a flaw of the surface of a belt to provide a high-quality color image having no color shift.例文帳に追加

ベルト表面の傷の有無にかかわらず色ずれ検出パターンの検出が可能な手段を提供し、色ずれのない高画質なカラー画像を得ることを目的とする。 - 特許庁

The color image forming apparatus performs light intensity adjustment when there is the abnormality in detection of the color shift detection pattern image (S23: YES) when a color shift amount is set.例文帳に追加

カラー画像形成装置は、色ずれ量を設定する際に、色ずれ検出パターン画像の検出に異常がある場合（Ｓ２３：ＹＥＳ）には、光量調整を行う。 - 特許庁

To prevent racing of an engine while reducing shift shock by selecting a shift pattern to a lower step according to an engaging state of a friction engaging element of a higher step.例文帳に追加

高速段の摩擦係合要素の係合状況に応じて低速段への変速パターンを選択することで、変速ショックを低減しつつエンジンの吹け上がりを防止する。 - 特許庁

Color shift can be reduced through the reduction of measurement errors by printing by using a separate interpolation parameter when a pattern is printed for measuring a color shift amount.例文帳に追加

色ずれ量を測定するためのパターンの印字時には別の補間パラメータを使用して印字することで、この測定誤差を軽減し、色ずれを軽減させることができる。 - 特許庁

When the shift range of the automatic transmission 60 is changed over from a P-range to a R-range, greater force is required for the changeover of the shift range than in another selecting pattern.例文帳に追加

自動変速機６０のシフトレンジがＰレンジからＲレンジへ切り換えられるとき、他の切換パターンと比較して、シフトレンジの切り換えに大きな力を必要とする。 - 特許庁

This halftone phase shift mask consists of a halftone phase shift mask structure having resist deposited on the halftone films of wafer alignment mark parts and the light shielding belt parts existing on the outside of pattern forming regions.例文帳に追加

ウェハ合わせマーク部のハーフトーン膜上とパターン形成領域の外側にある遮光帯部にレジストが被着されたハーフトーン位相シフトマスク構造とする。 - 特許庁

Specifically, a CSI 60 includes three shift registers 81, 82 and 83, so as to generate and output control signals with waveforms corresponding to the pattern data in the shift registers.例文帳に追加

具体的には、ＣＳＩ６０は、３つのシフトレジスタ８１，８２，８３を有し、これらシフトレジスタ内のパターンデータに応じた波形のコントロール信号を生成し出力する。 - 特許庁

Shift vectors are generated using the blood vessel patterns X and a comparison blood vessel pattern Y of a specific person, and the blood vessel patterns X are shifted using the shift vectors.例文帳に追加

その後、血管パターンＸと特定の人物の比較血管パターンＹとを用いてシフトベクトルが生成され、血管パターンＸがシフトベクトルを用いてシフトされる。 - 特許庁

Then a sensor 15 detects the color shift correction pattern on the secondary transfer belt 18 and corrects color shifts.例文帳に追加

そして、二次転写ベルト１８上の色ずれ補正パターンをセンサ１５により検出して色ずれを補正する。 - 特許庁

To prevent the pattern shift of sewing by effectively preventing the slack of a workpiece at a sewing position.例文帳に追加

縫い位置の被縫製物に弛みが生じることを効果的に防止して、縫製の柄ずれを防止できるようにする。 - 特許庁

The prohibited operation is restricted by generating the sense of incongruity different from the ordinary pattern in the shift lever.例文帳に追加

かかる禁止されている操作に対しては、通常パターンとは異なる違和感をシフトレバーに生じさせて規制する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for improving the accuracy of a fine structure in a semiconductor device having a concentric pattern.例文帳に追加

同心形状を有する半導体装置の微細構造の精度を高める位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

When the temperature is determined to have reached the predetermined value, formation of a pattern for color shift correction is instructed (a step S12).例文帳に追加

温度が所定値となったと判断した場合には、色ずれ補正用パターンの形成を指示する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

For this reason, the positional shift or distortion of a printed pattern or the like does not occur and the insert molding using the polycarbonate having a high melting temperature can be easily performed.例文帳に追加

これにより、溶融温度が高いポリカーボネートを用いるインサート成形を容易に実施できる。 - 特許庁

A position shift detecting means can be realized at a low cost by forming a simple pattern on the same substrate.例文帳に追加

その位置ずれ検知手段として同一基板上に簡単なパターンを形成することで安価に実現できる。 - 特許庁

A phase shift value collection section 23 collects a phase shift value of intermediate symbol data for each reference pattern every time a symbol data sequence outputted from a demodulation processing section 21 receiving a signal S to be measured is coincident with the reference pattern preset by a pattern setting section 22.例文帳に追加

位相推移値収集部２３は、被測定信号Ｓを受けた復調処理部２１から出力されるシンボルデータ列が、パターン設定部２２によって予め設定された参照パターンに一致する毎に、その中間シンボルデータの位相推移値を参照パターン毎に収集する。 - 特許庁