「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a pattern having excellent dimensional uniformity at a low cost without decreasing the integration degree, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask and a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加

集積度を低下させることなく、かつ低コストで、寸法均一性に優れたパターンを形成できる位相シフトマスク、その位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The shift-up inhibiting request is released, when a throttle opening after the estimated shift-up, becomes smaller than a shifting throttle opening shifted down on a shift pattern, and when it is estimated that the shift-down is not requested again even after shifting-up.例文帳に追加

シフトダウン後、車速偏差ΔＶＳＰが閾値Ｃ以下になり、かつ、予測されるシフトアップ後のスロットル開度が、シフトパターン上でシフトダウンされる変速スロットル開度よりも小さく、シフトアップしても再度シフトダウンが要求されることはないと予測されるときには、前記シフトアップ禁止要求を解除する。 - 特許庁

The method of repairing a phase shift mask, comprising a substrate and a phase shift pattern formed on the substrate includes a step S42 of forming a protective film on the exposed surfaces of the phase shift mask and a step S43 of cleaning the phase shift mask.例文帳に追加

基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階Ｓ４２と、位相シフトマスクを洗浄する段階Ｓ４３と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。 - 特許庁

To provide a method for shift control in an automatic transmission for a vehicle improving driveability by separating a shift line by a change in a vehicle speed and that by a change in the amount of throttle opening for shift control, and changing speed in an optimum shift pattern according to operation conditions.例文帳に追加

車速変化によるシフトライン及びスロットル開度量変化によるシフトラインを分離して変速制御を行い、また、運行条件によって最適な変速パターンで変速を行って、運転性を向上させた車両用自動変速機の変速制御方法を提供する。 - 特許庁

A shift controlling portion SQM informs a domain controller provided for each driving component (linear solenoid valve SLN, SLU, SLT) of a transmission pattern ID indicating a switch from which shift stage to which shift stage using a driving control requiring message.例文帳に追加

各駆動部品（リニアソレノイドバルブＳＬＮ，ＳＬＵ，ＳＬＴ）毎に設けられたドメインコントローラには、変速制御部ＳＱＭから、どの変速段からどの変速段への切替であるかを示す変速パターンＩＤを駆動制御要求メッセージにて通知する。 - 特許庁

Only when the key lock part 30 and the brake lock part 40 are located at the A2 position and at the B2 position, respectively, the shift lock part 20 can be spaced from a shift pattern arrangement and moved from the P range to a R range of the shift lever 10.例文帳に追加

そして、キーロック部３０及びブレーキロック部４０がＡ２位置及びＢ２位置に位置しているときにのみ、シフトロック部２０がシフトパターン配列から離間移動してシフトレバー１０のＰレンジからＲレンジへの移動を可能としている。 - 特許庁

To effectively prevent a change lever from being shifted to a reverse range at once when the change lever is subjected to shift operation from a parking range, in a shift pattern where a P-range, an N-range and an R-range are arranged in one shift row in this order.例文帳に追加

Ｐレンジ、Ｎレンジ、およびＲレンジを１つのシフト列にこれらの順に配置されたシフトパターンにおいて、チェンジレバーをパーキングレンジからシフト操作するときチェンジレバーが一気にリバースレンジにシフトされるのを効果的に防止する。 - 特許庁

The film thickness of the ultra-thin film 2 is determined to be as thin as possible necessary to form the phase shift pattern in the quartz substrate 1 by using the ultra-thin film pattern 2P as a mask.例文帳に追加

極薄膜２の膜厚は、極薄膜パターン２Ｐをマスクにして石英基板１に位相シフトパターンを形成するために必要最小限の厚さに設定する。 - 特許庁

Further, each communication module 24 may shift the phase of the same reference hopping pattern and use it or add a specified offset to the reference hopping pattern and use it.例文帳に追加

また、各通信モジュール２４が、同一の基準ホッピングパターンの位相をずらして使用してもよく、また基準ホッピングパターンに所定のオフセットを加えて使用してもよい。 - 特許庁

In the phase adjusting process, phase shift detection patterns are successively drawn on an intermediate transfer belt 3, and the absolute position information of the pattern detected by a pattern detection sensor is recorded in a memory.例文帳に追加

位相調整行程では、位相ずれ検出パターンを中間転写ベルト３上に順次描き、パターン検知センサによりパターンの絶対位置情報をメモリに記録する。 - 特許庁

The film thickness of the ultra-thin film 2 is set to a minimum thickness necessary to form the phase shift pattern in the quartz substrate 1, by using the ultra-thin film pattern 2P as the mask.例文帳に追加

極薄膜２の膜厚は、極薄膜パターン２Ｐをマスクにして石英基板１に位相シフトパターンを形成するために必要最小限の厚さに設定する。 - 特許庁

To provide a patterning method by which retrogression of a desired pattern is suppressed at etching of an unnecessary pattern in patterning method using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたパターン形成において、不要パターンをエッチングする際に所望パターンの後退を抑制することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Further, by encoding a mark part and a track code part of the servo pattern by a phase shift system, the total sum of the magnetization quantities of the entire servo pattern is made approximately at zero.例文帳に追加

さらに、サーボパターンのマーク部及びトラックコード部を位相シフト方式によって符号化することにより、サーボパターン全体の磁化量の総和をおよそ０とする。 - 特許庁

A cosine pattern processing part 22A performs processing based on a cosine pattern with respect to an RF wave to be obtained from the RF wave oscillator 20 via a π/2 shift circuit 21.例文帳に追加

余弦パターン処理部２２Ａは、ＲＦ波発振器２０からπ／２シフト回路２１を介して得られるＲＦ波に対して余弦パターンに基づいた処理を施す。 - 特許庁

The block noise adjustment means 50 takes "1" as a pattern value in the case that a shift value resulting from multiplying the image quality control value G by a prescribed value is within a prescribed range, but takes "0" as the pattern value in the other case.例文帳に追加

ブロックノイズ調整手段５０は、画質制御値Ｇを所定倍したシフト値が所定範囲内の場合にはパターン値を「１」とし、その他の場合には「０」とする。 - 特許庁

The pattern is formed in the form of stripe by measured color, and the pattern of the measured color is arranged so that the characters embossed by the amount of the color shift with respect to the measured color are changed.例文帳に追加

測定色により縞状にパターンを形成し、測定色に対する色ずれの量によって浮き出てくる文字が変わるように、測定色のパターンを配置する。 - 特許庁

To correct an asymmetrical mislanding pattern called 'shift' and 'truncated chevron shape' to enhance white color quality of the color image receiving tube.例文帳に追加

「シフト」及び「ハの字」と呼ばれる非対称ミスランディングパターンを補正し、カラー受像管の白色品質を向上する。 - 特許庁

An error calculation part 11 obtains the sum of the square errors of the reference PR pattern register 9 and the shift register 10 for each sample.例文帳に追加

誤差演算部１１は、基準ＰＲパターンレジスタ９とシフトレジスタ１０をサンプル毎に２乗誤差の加算値を求める。 - 特許庁

Then, the phase shift between the reflected wave front and a replica of the reflected wave front is adjusted, and another interference pattern is acquired.例文帳に追加

次に、反射波面と、反射波面のレプリカとの間の位相シフトを調整し、別の干渉模様を取得する。 - 特許庁

To reduce an error caused by a speckle pattern or halation in a displacement distribution measuring method utilizing a phase shift digital holography.例文帳に追加

位相シフトデジタルホログラフィを利用した変位分布計測方法において、スペックルパターンやハレーションによる誤差を低減する。 - 特許庁

To provide an image forming device reducing the effect of a detection error when detecting a color shift detection pattern.例文帳に追加

色ずれ検出パターンを検出する際に検出誤差による影響を低減させる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reticle flaw inspection device capable of detecting the positional shift flaw of an isolated pattern, and a reticle flaw inspection method.例文帳に追加

孤立パターンの位置ずれ欠陥を検出可能なレチクル欠陥検査装置及びレチクル欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To prevent film reduction of photoresist of a halftone phase shift mask, by suppressing the light intensity on the side of a hole pattern.例文帳に追加

ホールパターン脇の光強度を抑え、ハーフトーン位相シフトマスクにおけるフォトレジストの膜減りを防止することを目的とする。 - 特許庁

An exposure process is performed together with a phase shift mask, on the photoresist layer, and it shifts the pattern of the mask onto the photoresist layer.例文帳に追加

露光工程は、フォトレジスト層上で位相シフトマスクと一緒に行われ、フォトレジスト層上にマスクのパターンを移動する。 - 特許庁

The phase shift mask 10 consists of a pattern region 1, peripheral part 2 and dummy region 3 formed in the peripheral part 2.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は、パターン領域１と、周辺部２と、周辺部２に設けられたダミー領域３とから成る。 - 特許庁

This device shifts gradually a sync-pattern position of recording data from a recording reference position and records it, and when its shift quantity reaches the prescribed quantity, the position is fixed to the prescribed shift quantity and recording is performed.例文帳に追加

記録データのシンクパターン位置を記録基準位置から徐々にシフトさせて記録し、そのシフト量が所定量以上に達したら所定シフト量に固定して記録を行う。 - 特許庁

To provide a method for printing a print pattern for detecting shift of carriage in which shift of carriage of a print material can be recognized readily, and to provide an inkjet imaging apparatus employing it.例文帳に追加

被印字材の搬送ずれを容易に認識することができる搬送ずれ検出用印字パターン印字方法およびこれを用いたインクジェット画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide technique for forming a pattern on a substrate while suppressing the position shift by enabling detection of a position shift of an underlying mark from an alignment mark formed on the substrate.例文帳に追加

下地マークと基板上に形成されたアライメントマークとの位置ずれを検出することを可能とし、位置ずれを抑えながら基板上にパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

To appropriately control a shift to a power saving mode according to a pattern of the occurrence of a motion error when performing the control for the shift to the power saving mode even in a state that the motion error has occurred.例文帳に追加

動作エラーが発生した状態でも省電力モードに移行する制御を行う場合に、動作エラーの発生傾向に応じて省電力モードへの移行を適切に制御する。 - 特許庁

To measure the shift amount of the whole transfer belt without degrading productivity during continuous printing in a technology for forming a toner pattern image for correcting color shift on the transfer belt.例文帳に追加

転写ベルト上に色ずれ補正用のトナーパターンを画像形成する技術において、連続印刷中に生産性を落とすことなく転写ベルト全体のずれ量を適切に測定する。 - 特許庁

Double exposure is performed by using a pair of photomasks 1 and 2 such as an ordinary chrome mask or a half-tone phase shift mask or the like which is not the Levenson type phase shift mask, and a pattern is transferred onto a photoresist.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクでない通常のクロムマスク又はハーフトーン位相シフトマスク等の一対のフォトマスク１，２を用いて２重露光を行い、フォトレジストにパターン転写する。 - 特許庁

The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.例文帳に追加

導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an exposure mask and an exposure method for performing pattern exposure with a high precision and a high resolution for a more versatile pattern with respect to pattern exposure using a Levenson-type phase shift mask.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いたパターン露光において、より多用なパターンについて高精度かつ高解像度でパターン露光を行うことが可能な露光マスクの作製方法および露光方法を提供する。 - 特許庁

The mask 100 for semiconductor manufacture as a binary mask such as a chromium mask or a phase shift mask has a pattern transfer area 110 and a pattern massed area 112 is included in the pattern transfer area 110.例文帳に追加

クロムマスクなどのバイナリマスク，または位相シフトマスクである半導体製造用マスク１００は，パターン転写領域１１０を有し，さらにパターン転写領域１１０にはパターン密集領域１１２が含まれている。 - 特許庁

Two signals to be output from the sine pattern processing part 22B and the cosine pattern processing part 22A are combined by a synthesis processing part 24 and a continuous wave (a phase shift continuous wave) having a prescribed phase pattern is formed.例文帳に追加

正弦パターン処理部２２Ｂと余弦パターン処理部２２Ａから出力される２つの信号が合成処理部２４において合成され、所定の位相パターンを備えた連続波（位相シフト連続波）が形成される。 - 特許庁

To perform high speed processing by efficiently using a halftone pattern for a plotting object being the same tone value, and to reduce the capacity of a halftone pattern memory by successively searching the shift value of the horizontal direction of the halftone pattern for every plotting word.例文帳に追加

同階調値の描画オブジェクトに対して効率よくハーフトンパターンを使用して高速処理を実現し、ハーフトンパターンの水平方向のシフト値を、描画ワード毎に逐次求め、ハーフトンパターンメモリの容量を小さくする。 - 特許庁

When a pattern forming part 11 decides that a power is turned on, a pattern for measuring is formed on a transfer belt 33 by reading color shift measuring pattern information from memory 5 and controlling an image forming unit 2.例文帳に追加

パターン形成部１１は電源が投入されたと判定した場合、色ずれ測定用パターン情報をメモリ５から読み出し画像形成ユニット２を制御して転写ベルト３３に測定用パターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

The kind of character pattern to be displayed in a ready-to-win pattern and the musics outputted correspondingly are differentiated depending on the reliability of whether a shift is made to a jackpot pattern later or not (f).例文帳に追加

なお、リーチ表示態様で表示されるキャラクタ図柄の種類及び対応して出力される楽曲は、後に大当たり表示態様となる（ｆ）かどうかの信頼度に従って、異なるものとなっている。 - 特許庁

When a prescribed pattern layout is selected by a lottery means, patterns of multiple pattern display means displayed on display windows 3a, 3b, 3c are moved based on the notification shift mode different from the normal shift mode, then the patterns are moved based on the normal shift mode in a lottery notification means.例文帳に追加

抽選手段により所定の図柄配列が選出されたとき、表示窓３ａ，３ｂ，３ｃに表示されている複数の図柄表示手段８ａ，８ｂ，８ｃの図柄を、通常移動形態とは異なる告知移動形態に基いて移動させた後、通常移動形態に基いて移動させる抽選告知手段を備えている。 - 特許庁

A shift level from the previously set and basically established focal point of a photolithography machine is obtained based on the measured resist pattern widths, and then exposure is performed to the wafer by correcting a shift amount from the focal point based on the obtained shift amount, and thereby the resist pattern is formed.例文帳に追加

測定された前記レジストパターン幅寸法に基づいて、前記露光装置の予め設定された基本設定焦点位置からのずれ量を求め、前記基本設定焦点位置からのずれ量に基づいて、前記基本設定焦点位置からのずれ量分を補正して前記ウエハに対して露光し、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a measurement method and measurement marks for a pattern shift amount between exposure regions, which allow a speedy and real-time measurement and improvement in the failure detection rate and yield for the pattern shift amount between the exposure regions.例文帳に追加

露光領域間におけるパターンシフト量に対して、速く且つリアルタイム的に測定でき、不良検出率及び歩留まりを向上することができる露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マークを提供する。 - 特許庁

Concerning this phased array antenna system, a sum pattern and a difference pattern can be obtained while utilizing the fact that the bore site direction (direction of tracking axis) of the sum pattern is same as that of the difference pattern even when the number of phase shifters capable of adjusting the phase shift quantity is equal to the number of element antennas.例文帳に追加

和パターンと差パターンのボアサイト方向（トラッキング軸の方向）が同じであることを利用して、移相量を調整可能な移相器の数が素子アンテナの数と同じでも和パターンと差パターンを得ることができるフェーズドアレーアンテナシステムを構成する。 - 特許庁

Exposure with a shifted position of a pattern for exposure is introduced in multiple exposure to form a level of dose for the pattern without affecting the accuracy of the position and to enable to conduct pattern size control in accordance with dose and the extent of pattern shift.例文帳に追加

多重露光において露光パターンの位置をシフトさせた露光を導入することにより位置精度に影響を与えること無くパターンの照射量水準を生成させパターン寸法制御を照射量とパターンシフト量によって制御可能となる。 - 特許庁