「pattern shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The shift register 145 stores the lighting pattern for one pixel from the conversion circuit 144 one by one and outputs it to the laser drive circuit 141 one by one.例文帳に追加

シフトレジスタ145は、変換回路144からの１画素分の点灯パターンを順次格納しレーザ駆動回路141に順次出力する。 - 特許庁

The force sense pattern is changed as required in accordance with operation directions of the shift lever, thereby improving operability and reducing fatigue.例文帳に追加

シフトレバーの操作方向に応じて力覚パターンを適宜変更することで、操作性の向上や疲労の低減等が図られる。 - 特許庁

The scan switcher 2 sets the phase shift data to phase shifters 21-2n and sets an antenna transmission pattern of the desired coverage.例文帳に追加

走査切換器２は移相器２１〜２ｎに移相データを設定し、所望する覆域の空中線送信パターンを設定する。 - 特許庁

When the aim shift region R overlaps the stripe pattern L2, the travelling speed of the head is set to be relatively high.例文帳に追加

照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部の移動速度が相対的に高く設定される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of precisely detecting a toner pattern for detecting color shift in a main scanning direction in a short time period.例文帳に追加

主走査方向の色ずれ検出用トナーパターンを高精度に、かつ、短時間で検出できる画像形成装置を得る。 - 特許庁

As a result, even switching the shift pattern torque difference is minimum so as to reduce the sense of incongruity felt by a driver.例文帳に追加

その結果、変速パターンが切換えられた場合であってもトルク差が最小となり、運転者に与える違和感が軽減される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus improved in detection accuracy for a shift of a toner pattern in a main scanning direction.例文帳に追加

トナーパターンの主走査方向のずれ量の検知精度を向上させることができる画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

Also, when the rotation of all the rotary reels is stopped by the stop control means and it is determined by the effective line pattern determination means that the shift pattern combination is displayed on the effective line, the slot machine shifts to one special game on the basis of the effective line on which the shift pattern combination is displayed.例文帳に追加

また、スロットマシンは、停止制御手段によりすべての回転リールの回転が停止され、且つ有効ラインに移行図柄組み合わせを表示していると有効ライン図柄判定手段により判定された場合に、移行図柄組み合わせの表示された有効ラインに基づき一の特殊遊技に移行させる。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting irregularity of a periodic pattern that accurately images and detects the irregularity caused by dimension shift and position shift of several nm order in the periodic pattern, especially in an inspecting object such as a photo-mask for a CCD/CMOS imager where the directivity of the cell pitch or pattern varies.例文帳に追加

周期性のあるパターン、特にＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージャー用フォトマスクのようにセルピッチやパターンの方向性が多岐にわたるような被検査体に対し、数ｎｍオーダーの寸法ズレや位置ズレによって生じるムラを高精度に撮像、検出可能な周期性パターンのムラ検査装置、および方法を提供する。 - 特許庁

Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate.例文帳に追加

即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 - 特許庁

The drill machine 14 forms a via hole according to the via hole information 26 and the exposure device 18 compares the formed via hole with the via hole information 26 to compute the position shift quantity of the via hole and processes the pattern information 28 according to the position shift quantity to correct the pattern information, thereby exposing the substrate to the pattern.例文帳に追加

ドリルマシン１４はビアホール情報２６に基づいてビアホールを形成し、露光装置１８は、形成されたビアホールとビアホール情報２６とを比較してビアホールの位置ずれ量を演算し、この位置ずれ量に基づいてパターン情報２８を演算処理することにより、パターン情報を補正し、基板上に露光する。 - 特許庁

In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.例文帳に追加

半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The technology comprises a shift amount detecting function 22a of detecting a pattern position from a picked up image and determining the shift amount from a previously provided reference, a coordinate linear correcting function 22b of correcting the shift obtained from the detected shift amount, and a measurement control function 22c of controlling a series of procedures from imaging to measurement.例文帳に追加

撮像された画像からパターン位置を検出して、予め与えられた基準対するずれ量を求めるずれ量検出機能２２ａと、検出されたずれ量から得られたずれを補正する座標線形補正機能２２ｂと、撮像から測定までの一連の手順を制御する測定制御機能２２ｃとを構築する。 - 特許庁

When performing symbol collation between the pattern and a text, a retrieval efficiency calculation part 21 calculates retrieval efficiency that is a ratio of an expectation of a shift amount that is a total sum obtained by multiplying a possible shift amount in shift operation when failing in the symbol collation by probability that the shift amount occurs, and a symbol collation frequency.例文帳に追加

検索効率計算部２１は、パターンとテキストの記号照合を行う際に、記号照合が失敗したときのシフト操作のとりうる値であるシフト量に、シフト量が生じるための確率をかけた総和であるシフト量の期待値と、記号照合回数と、の比である検索効率を計算する。 - 特許庁

Thus, a CD shift amount is changed separately in the memory area (2) wherein the pattern becomes fine (2A≥B) and the peripheral circuit area (1) wherein the pattern is coarse (2A<B).例文帳に追加

これによって、パターンが密（２Ａ≧Ｂ）になっているメモリ部領域（２）とパターンが疎（２Ａ＜Ｂ）になっている周辺回路部領域（１）とでＣＤシフト量が別々に変更される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which the shift of a patch pattern detection position is detected, and image density is detected without forming the image of a patch pattern which leads to increase of downtime.例文帳に追加

ダウンタイム増大につながるパッチパターンを作像することなしで、パッチパターン検知位置のずれを検知し、画像濃度を検知することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When the result of the display in the special pattern variation c is the jackpot, after the end of the jackpot game, the jackpot is won as the result of the display in the special pattern variation A and the shift is made to the jackpot game.例文帳に追加

そして、特図変動ｃの表示結果が大当りであれば、その大当り遊技を終了したあと、特図変動Ａの表示結果と大当りとし、大当り遊技に移行する。 - 特許庁

To provide a manual transmission for an MT vehicle which adopts an H-pattern as a shift pattern and narrows a whole moving range of a fork shaft in the axial direction.例文帳に追加

シフトパターンとしてＨパターンが採用されるＭＴ車用の手動変速機であって、フォークシャフトの軸方向における全移動範囲をより狭くできるものを提供すること。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

By paying attention to influential factors, such as the focus, exposure, the shape of a mask pattern, the instrumental error (aberration etc.) between aligners, etc., upon the dimension of a transferred pattern, the pattern dependency of the response of exposing conditions, such as the best focus shift etc., is evaluated.例文帳に追加

フォーカス、露光量、マスクパターン形状および露光装置機差（収差他）等のような転写されるパターンの寸法への影響要因を考慮して、ベストフォーカスシフト等、露光条件の応答のパターン依存性を評価する。 - 特許庁

In the screen printing method, a second mark, which detects the printing shift between the first printing pattern formed on the body to be printed and the second printing pattern possessed by the printing plate, is printed on the body to be printed simultaneously when the second printing pattern is printed.例文帳に追加

被印刷体に形成される第１の印刷パターンと、印刷版が有する第２の印刷パターンの印刷ずれを検出するための第２のマークを、第２の印刷パターンを印刷すると同時に被印刷体に印刷する。 - 特許庁

When a gear change from the neutral to the first speed gear or the reverse gear is achieved, a first shift pattern for supplying the controlled pressure from the control valves to the friction engagement elements and a second shift pattern for supplying the line pressure are set in sequence to achieve the gear change.例文帳に追加

ニュートラルから１速及び後進の変速段を達成する際に、同変速段を達成するための摩擦係合要素にコントロールバルブからの制御圧を供給する第１のシフトパターンと、同ライン圧を供給する第２のシフトパターンとが順次、設定される。 - 特許庁

The phase shift mask 10 is used for a isolated pattern 161 composed of patterns in which the distance between adjacent patterns W1 is 400 nm or more, while the phase shift mask 12 is used for a crowded pattern 162 in which the distance between adjacent patterns W2 is under 400 nm.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は隣接パターン間距離Ｗ１が４００ｎｍ以上のパターンからなる孤立パターン１６１用とし、位相シフトマスク１２は隣接パターン間距離Ｗ２が４００ｎｍ未満のパターンからなる密集パターン１６２用としている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, having a light shielding film in which a semitransparent phase shift film pattern can be formed, without being influenced by the dimensional accuracy of the light-shielding film pattern and proper dimensional accuracy can be obtained.例文帳に追加

遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法において、半透明位相シフト膜パターンが、遮光膜パターンの寸法精度の影響を受けずに形成ができ、寸法精度が良好であるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To record a test pattern with which a color shift can be visually detected highly accurately in a process of correcting the color shift caused by a difference in output characteristic of recording heads of a recording apparatus.例文帳に追加

記録装置における記録ヘッド個々の出力特性の違いに起因した色ずれを補正する処理において、目視による色ずれ検出を高精度に行うことが可能なテストパターンを記録する。 - 特許庁

When detecting the 2T pattern, the 2T detection section 92 recognized that a phase lock time comes and closes a switch 93 to supply a shift output from a shift register 91 to a sign discrimination section 94 and a delay section 95.例文帳に追加

２Ｔパターンを検出すると位相引き込み時であるとして、スイッチ９３をオンにし、シフトレジスタ９１からのシフト出力を符号判定部９４および遅延部９５に供給する。 - 特許庁

To allow more accurate color shift correction considering an effect of diffused reflection light when detecting a pattern image for color matching formed on an intermediate transfer member by an optical sensor to perform color shift correction.例文帳に追加

中間転写体に形成された色合わせ用パターン画像を光センサで検出して色ずれ補正を行う際に、拡散反射光の影響を考慮した、より高精度な色ずれ補正を可能とする。 - 特許庁

While a select operation of a shift lever SL (operation in left-right direction of vehicle) is performed on a shift pattern, the electric motor transmission mechanism M2 switches the electric motor speed reduction ratio in conjunction with the select operation.例文帳に追加

電動機変速機構Ｍ２は、シフトパターン上においてシフトレバーＳＬのセレクト操作（車両の左右方向の操作）を行っている間に、そのセレクト操作に連動して電動機減速比を切り換える。 - 特許庁

The laser beam flux is partitioned by the phase shift part 20 to shift the phase in a superposing manner on the slit 40, and uniform machining without any interference pattern is performed by suppressing the interference of the unified laser beam flux.例文帳に追加

位相シフト部２０で光束を分割して位相をシフトさせ、スリット４０上で重ね合わせて均一化した光束の干渉を抑えて干渉パターンのない均一な加工を行うことができる。 - 特許庁

The light intensity value near the gate edge of the gate pattern is calculated and the dimension shift quantity of the gate line width by a proximity effect is calculated in accordance with the light intensity value in a dimension shift quantity calculating section 605.例文帳に追加

ゲートパタンのゲートエッジ近傍における光強度値を計算し、寸法シフト量計算部６０５で光強度値に基づいて近接効果によるゲート線幅の寸法シフト量を計算する。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for obtaining desired flatness of the mask blank even when a thin film has a film stress, and preventing reduction in positional accuracy of a mask pattern as well as pattern shift and pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

In an exposure device, a plurality of different masks (OPC mask or phase shift mask) corresponding to the pattern P1 are prepared, and a reticle is selected as capable of imprinting a device pattern accurately based on a measurement inspecting result of reticle pattern or measurement inspecting result of wafer pattern.例文帳に追加

露光装置では、パターンＰ１に相当する複数の異なるマスク（ＯＰＣマスク又は位相シフトマスク）が用意されており、レチクルのパターンの測定検査結果やウエハのパターンの測定検査結果などに応じて、デバイスパターンを精度良く転写することが可能なレチクルを選択する。 - 特許庁

Then, pattern width of the first and second narrow portions 4b and 4d is adjusted to shift a resonance frequency of sprious resonance into a desired value.例文帳に追加

そして、第１幅狭部４ｂ，４ｄのパターン幅を調整することで、スプリアス共振の共振周波数を所望の値にシフトさせる。 - 特許庁

A keycode of the accompaniment pattern is converted in the pitch based on the shift data read from note conversion table memory and the fundamental note of the detected chord.例文帳に追加

伴奏パターンのキーコードを、ノート変換テーブルメモリから読み出したシフトデータと検出和音の根音に基づいて音高変換する。 - 特許庁

To provide a mask blank suited for manufacturing substrate digging type phase shift masks, including a light-shielding film pattern of a tantalum-based material.例文帳に追加

タンタル系材料の遮光膜パターンを有する基板掘り込みタイプの位相シフトマスクを作製するのに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To adapt the shift pattern to travelling environment while improving the estimating accuracy of the travelling environment without increasing an operation load.例文帳に追加

演算負荷を増大させることなく走行環境の推定精度を向上させつつ、走行環境と変速パターンを適合させる。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a dummy pattern 22 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にダミーパターン２２を形成する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed thereto, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a device pattern 21 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にデバイスパターン２１を形成する。 - 特許庁

A printed pattern having no shift of dot is selected and its delivery timing is inputted from a delivery timing input section 38.例文帳に追加

印字されたパターン中からドットのずれの無いものを選び出してその吐出タイミングを吐出タイミング入力部３８から入力する。 - 特許庁

To easily inspect the shift of the area between the respective patterns of an object to be inspected having a cyclic pattern subjected to deltaic arrangement.例文帳に追加

デルタ配列された周期性パターンを有する検査対象物の各パターン間の面積のズレを容易に検査できるようにする。 - 特許庁

The phase difference abnormality and transmittance difference abnormality are detected, base on the relation to correct the device pattern of the Levenson phase shift mask 4.例文帳に追加

そして、この関係に基づいて、位相差異常及び透過率差異常を検出し、レベンソン位相シフトマスク４のデバイスパターンを補正する。 - 特許庁

The shift pattern corresponding to travelling environment is stored, while the travelling environment is estimated corresponding to the travelling condition of a vehicle.例文帳に追加

走行環境に応じた変速パターンが記憶されている一方、車両の走行状態に応じて走行環境が推定される。 - 特許庁