「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

To provide a nano-imprint apparatus and method which uniformly presses even a lengthened circular cylinder (roller), thereby enabling the accurate transfer of a fine pattern.例文帳に追加

円筒（ローラー）を長くした場合にもそれを均一に基板上に押し付けることができ、もって微細パターンの正確な転写を可能とするナノインプリント装置および方法を提供する。 - 特許庁

Thus, as the distance by the flange pin is reduced, the stamper is bonded from the outer peripheral side to the inner peripheral side to excellently transfer irregular pattern (F206).例文帳に追加

従ってフランジ付きピンによる離間距離を小さくしていけば、スタンパが外周側から内周側に向かって密着されていき、良好に凹凸パターンの転写が行われる（Ｆ２０６）。 - 特許庁

To provide a production method of excellent productivity for a micro-fine resin structure, can restrain a transfer pattern from being damaged, when transferring micro-fine structure from a resin mold by a nano-inprint method.例文帳に追加

樹脂製モールドからナノインプリント法により微細構造を転写する際に、転写パターンへの損傷を抑制し、生産性に優れた微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent unnecessary pattern transfer generated when irradiation of reflection light from the stage of an exposure system is added to necessary direct irradiation when a photosensitive resin is exposed.例文帳に追加

感光性樹脂を露光する場合、必要な直接照射の他に露光機のステージからの反射光による照射が加わった場合に生ずる不必要なパターン転写を防止する。 - 特許庁

Subsequently, the nonsensitized part 13b of the photoresist 13 is removed through development and cleaning, and the layer 12 to be machined is etched using the pattern transfer part 13a of the photoresist 13 as a mask.例文帳に追加

次に、フォトレジスト１３の非感光部１３ｂを現像及び洗浄により除去し、フォトレジスト１３のパタン転写部１３ａをマスクとして加工対象層１２をエッチングする。 - 特許庁

The recording layer 35 is formed with a phase change material and a pattern for transfer is formed by combining a plurality of mutually different phase changed conditions in the recording layer 35.例文帳に追加

記録層３５は相変化材料によって形成され、記録層３５内で複数の互いに異なる相変化状態を組み合わせることによって転写用のパターンが形成される。 - 特許庁

To prevent a printing layer of a stereoscopic pattern in which a metal powder pigment included in ink or coating material is magnetically oriented for exhibiting stereoscopic effect in a transfer film, from being damaged by an activator.例文帳に追加

転写フィルムにおいてインキや塗料に含まれる金属粉顔料が磁気的に配向されてなる立体模様の印刷層を、活性剤により損傷を受けないようにする。 - 特許庁

An inkjet printer 16 directly sprays ink particles 24 onto a liquid surface 22 of liquid 21 stored in a transfer tank 15 from above to draw the printed pattern layer 13.例文帳に追加

転写槽１５内に貯留された液体２１の液面２２に対し、その上方からインクジェットプリンタ１６によりインク粒子２４を直接吹き付けて印刷模様層１３を描画する。 - 特許庁

A belt-like image patch pattern whose width in the conveying direction becomes equal to a distance difference (Mmax1-Mmin1) between the detected positions in the conveying direction is formed on the intermediate transfer body.例文帳に追加

その検知された搬送方向位置の距離差（Ｍｍａｘ１−Ｍｍｉｎ１）に対して搬送方向の幅が等しくなるような帯状画像パッチパターンを中間転写体上に形成する。 - 特許庁

To relatively easily obtain a predetermined fine and high integration transfer pattern with high accuracy by increasing a focus margin in photolithography and significantly reducing influences of process fluctuation on dimensional variation.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにおけるフォーカスマージンを大きくし、プロセス揺らぎの寸法変動への影響を大幅に緩和して、比較的容易に精度良く所期の微細且つ高集積の転写パターンを得る。 - 特許庁

To provide an aligner capable of highly accurately evaluating the displacement of the center axis of the reflected light of an uneven pattern on a transfer substrate without lowering the processing efficiency of the entire microfabrication processing.例文帳に追加

微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、転写基板の凹凸パターンの反射光の中心軸のずれ量を高精度に評価可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To suppress a decrease of repeated utilization frequency of a pattern formation body to be used for a magnetic transfer, in the case where a protective layer of a magnetic recording medium is manufactured by a CVD method, etc.例文帳に追加

磁気記録媒体の保護層をＣＶＤ法等で作製する場合において、磁気転写に用いられるパターン形成体の繰り返し使用回数が減少するのを抑制する。 - 特許庁

According to necessity, a release layer 11 may be formed on the face for forming the transfer layer 2 of the base material sheet 1 or a pictorial pattern layer 22, an adhesive layer 23 and the like may be formed on the protecting layer 21.例文帳に追加

必要に応じて、基材シート１の転写層２形成面に離型層１１を設けたり、保護層２１上に絵柄層２２、接着層２３等を設けたりしてもよい。 - 特許庁

To provide a photomask which allows formation of a transfer pattern in a great number of objects to be processed and is excellent from viewpoints of workability and cost, and to provide an exposure apparatus using the photomask.例文帳に追加

多数の被処理体に対し転写パターンを形成することができ、作業性の面及びコストの面で優れたフォトマスク及びこのフォトマスクを用いた露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor-manufacturing method for obtaining a selection region at the beginning of design without losing the similarity of a design value even in the transfer of a fined mask pattern.例文帳に追加

微細化されたマスクパターンの転写においても、設計値との相似性を損なうことなく、設計当初の選択領域が得られる半導体製造方法を提供すること。 - 特許庁

The transfer layer 13 constituting the pattern P is constituted of the metal membrane part 13h on the surface protective layer 12 and the ink part 13i superposed on the metal membrane part 13h.例文帳に追加

図柄Ｐを構成する転写層１３を表面保護層１２上の金属薄膜部分１３ｈと該金属薄膜部分１３ｈに重ね合わせたインキ部分１３ｉとで構成する。 - 特許庁

Moreover, a relative position to the transfer pattern to be imprinted is pinpointed, and formed in one surface of the mask membrane, so that an alignment mark composed of a recess shallower than the thickness of a mask membrane may be formed.例文帳に追加

さらに、被転写パターンとの相対位置が特定され、前記マスクメンブレンの一方の面に形成され、マスクメンブレンの厚さよりも浅い凹部で構成されたアライメントマークが形成されている。 - 特許庁

To provide a vacuum system used for an immersion exposure device capable of performing pattern transfer with high precision in exposure treatment in which liquid is filled between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間を液体を満たして露光処理する場合において、精度良くパターン転写できる液浸露光装置に使用される真空システムを提供する。 - 特許庁

A template 3 premanufactured to have unevenness with high accuracy by the lithography employing an electron beam is pressed onto a resist film 2 coated on a substrate to transfer a resist pattern.例文帳に追加

基板上に塗布したレジスト膜２に、予め電子ビームを用いたリソグラフィー技術により高い精度の凹凸を持つように製作された型板３を押し付けて、レジストパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory in which transfer can be performed without drop of the potential of high voltage in a word line and the pattern area of a row decoder circuit can be reduced.例文帳に追加

ワード線に高電圧を電位降下なく転送することができ、且つロウデコーダ回路のパターン面積を削減できる半導体記憶装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can eliminate effect of a pattern of transfer remaining toner on an image, eliminates the need for a storage container for collected toner, and does not need to be strictly hermetic.例文帳に追加

転写残トナーのパターンによる画像への影響を排除できるとともに，回収トナーの貯蔵容器が不要で，密閉性も厳密でなくて済む画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus of manufacturing a semiconductor device which can surely transfer a thin silicon wafer and form an organic film having small variation in a pattern dimension within a surface.例文帳に追加

薄いシリコンウエハを確実に搬送し、パターン寸法の面内バラツキが小さな有機膜をシリコンウエハ上に形成できる半導体装置の製造方法および製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method capable of uniforming the film thickness of a curing resin layer and enhancing the transfer accuracy and positioning accuracy of a signal pattern in manufacturing of a multilayer optical recording medium.例文帳に追加

多層構成の光記録媒体の製造において、硬化性樹脂層の膜厚が均一化でき、信号パターンの転写精度および位置合わせ精度を向上できる方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate and includes an electromagnetic actuator to actuate a part of the lithographic apparatus in a linear direction or in a rotational direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように配置構成され、リソグラフィ装置の一部を直線方向または回転方向に起動する電磁アクチュエータを含む。 - 特許庁

To provide a photomask capable of suppressing deformation of a pattern formed by exposure transfer with dipole illumination light and reduction in the exposure margin, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ダイポール照明光による露光転写で形成されるパターンの変形および露光マージンの低下を抑制できるフォトマスク及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

During synchronous movement of a mask and an article while illuminating the mask R with an exposure light IL, a main controller 20 alters transfer conditions of a pattern depending on the positional information of the mask.例文帳に追加

露光光ＩＬによりマスクＲが照明され、マスクと物体とが同期移動される最中に、主制御装置２０がマスクの位置情報に応じてパターンの転写条件を変更する。 - 特許庁

A switching circuit device 105 selects corresponding input ports and output ports for their times on the basis of the transfer pattern and outputs signals inputted from the input ports to the output ports.例文帳に追加

スイッチ回路装置１０５は、転送パタンに基づいて該当する入力ポートと出力ポートを回数分選択し、入力ポートから入力された信号を出力ポートに出力する。 - 特許庁

To provide a charged-particle beam aligner which prevents an organic dirt foreign matter, which causes a reduction in the pattern transfer characteristics of the aligner in parallel with a reduction of the exposure operation of the aligner, from being solidified in the aligner.例文帳に追加

露光動作に並行してパターン転写特性低下の原因となる有機汚れ異物の装置内への固化の防止動作が行われる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

As a result, a protected pattern free from defect can be formed by transferring the transfer layer 70 on an acceptor plate by using the donor film 80.例文帳に追加

結果的に、ドナーフィルム８０を用いてアクセプタ基板上に転写層７０を転写させて有機膜パターンを形成することにおいて不良パターンがない養護なパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a transfer medium and a method of manufacturing a wiring board capable of miniaturizing a conductor circuit pattern formed on the wiring board without complicating steps.例文帳に追加

工程の複雑化を招くことなく、配線板に形成される導体回路パターンの微細化を可能にする転写媒体、配線板の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The operational status of the die, the finger and the product shape are simulated by the pattern information (stroke of each shaft, slide stroke, etc.), of a transfer device and a press, and the status of interference is checked thereby.例文帳に追加

トランスファ装置やプレス機械のパターン情報（各軸のストローク、スライドストローク等）より、金型，フィンガ及び製品形状の動作状況をシュミレーションして干渉状況をチェックする。 - 特許庁

With an object W being moved along the movement surface by driving a stage WST using a driver 11, an exposure beam irradiates the object W to transfer a specified pattern onto the object W.例文帳に追加

駆動装置１１を用いてステージＷＳＴを駆動することにより物体Ｗを移動面に沿って移動させつつ、露光ビームを照射して所定のパターンの転写を行う。 - 特許庁

According to necessity, a release layer 11 may be formed on the face for forming the transfer layer 2 of the base material sheet 1 or a pattern layer 22, an adhesive layer 23 or the like may be formed on the protecting layer 21.例文帳に追加

必要に応じて、基材シート１の転写層２形成面に離型層１１を設けたり、保護層２１上に絵柄層２２、接着層２３等を設けたりしてもよい。 - 特許庁

To provide a film type photodegradable transfer material capable of preventing reflection caused by a substrate, when exposed, to provide easily an objective pattern shape, and capable of enhancing a resolution and a filament tightening force.例文帳に追加

露光の際、基板による反射を防止し、目的のパターン形状に具現しやすく、解像度及び細線密着力を向上させるフィルム型光分解性転写材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of accurately controlling thickness when a fine structural body is formed by pattern transfer and of manufacturing a high-quality device with a high yield and at a low cost.例文帳に追加

型転写により微細構造体成形する際に、厚みを精度良く管理することができ、高品質のデバイスを歩留まり良く、低コストで製造できる方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes a step of floating a transfer film 16 made by printing a plurality of the patterns 13 on a water soluble film substrate 15 on a water surface W and spraying an adhesive on a top surface of the pattern 13.例文帳に追加

水溶性フィルム基体１５に複数の模様１３を印刷してなる転写フィルム１６を水面Ｗに浮かべて模様１３の上面に接着剤を噴霧する。 - 特許庁

To enable a tower pattern for adjusting an image forming process to be recovered on an image carrier without separating an intermediate transfer body from the image carrier.例文帳に追加

像担持体から中間転写体を離間させずに作像プロセス調整用のトナーパターンを像担持体上で回収できる画像形成装置及び作像プロセス調整方法を提供する。 - 特許庁

The X-ray mask is used to transfer a pattern onto a resist by X-ray lithography, and includes an X-ray transmissive portion and an X-ray absorption body held by the X-ray transmissive portion.例文帳に追加

本発明のＸ線マスクは、Ｘ線リソグラフィにおいてレジストにパターンを転写するマスクであり、Ｘ線透過部と、Ｘ線透過部により保持されるＸ線吸収体とを備える。 - 特許庁

The pattern-forming apparatus comprises an intermediate transfer body 12 on the surface of which an electrical charge is formed by a charging device 28.例文帳に追加

帯電装置２８により表面に電荷を形成した中間転写体１２の表面には、保護粒子塗布装置１７が保護粒子１５を均一な保護粒子層１５Ａとして形成する。 - 特許庁

Moreover, an optical means 501 which gives a light irradiation strength different from a transferring region may be provided in the non-transfer region outside the transferring region of the pattern in an optical curing resin.例文帳に追加

また、光硬化樹脂におけるパターンの転写領域外の非転写領域に、該転写領域とは異なる光照射強度を与える光学手段５０１を有してもよい。 - 特許庁

A printer control unit detects a pattern for detecting spot array inclination on an intermediate transfer belt and acquires inclination information of an optical spot array relative to the main direction (step S307).例文帳に追加

プリンタ制御装置は、中間転写ベルト上のスポット列傾き検出用パターンを検出し、主方向に対する光スポット列の傾き情報を取得する（ステップＳ３０７）。 - 特許庁

When a different substrate needs to be transferred to a handling chamber while a pattern that does not require high drawing precision is drawn, the transfer process is performed concurrently with the drawing process continued.例文帳に追加

高い描画精度が必要とされないパターンの描画中に処理室への他の基板の搬送が必要となった場合、描画処理を続けた状態で搬送処理を並行して行う。 - 特許庁

To achieve highly precise transfer by improving the transferring property when a fine pattern is transfered to the surface of film sheets by an engraving roll whose surface is finely engraved.例文帳に追加

表面に微細な彫刻を施した彫刻ロールによるフィルムシート類表面に対する微細模様の転写形成に際し、転写性を良好にして高精度で精密転写させる。 - 特許庁

The reduction of a pattern damage and an improvement in a transfer speed is made to coexist because the peel force efficiently works successively from a periphery to a center as the peeling progresses.例文帳に追加

また、剥離が進行するにつれて剥離力は周囲から中心へと順次効率よく働いていくため、パターン破損の減少と転写スピードの向上の両立を図る事が出来る。 - 特許庁