「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

The nanowire 3 is adhered on the pattern shape area 6 by orienting the nanowire 3 dispersed on the surface of the solution 2 and taking up the transfer substrate 5 from the solution 2.例文帳に追加

溶液２の表面に分散されたナノワイヤ３を表面内で配向させ、転写基材５を溶液２中から引き上げることでパターン状領域６にナノワイヤ３を付着させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is developable with water and having high pattern forming accuracy, and to provide a transfer sheet using the same, a plasma display panel and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

水現像が可能で、パターンの形成精度が高い感光性組成物を提供し、またそれを用いた転写シートおよびプラズマディスプレイパネルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The dot pattern transfer using the metal molds 71, 72, 71m, 72m is repeated several times making transferred patterns adjoining one another each time in the feed direction (X axial direction) of the transparent film 21.例文帳に追加

金型７１・７２・７１ｍ・７２ｍを用いたドットパターンの転写は、各回の転写パターンが透明フィルム２１の送り方向（Ｘ軸方向）で隣接するようにして、複数回行われる。 - 特許庁

To accurately transfer a mask-side pattern to a work by exposure, to prevent a mask with sticking dust etc., from deforming under its own weight, and further to make the installation space of a device small.例文帳に追加

マスク側のパターンをワークに正確に露光転写できると共に、マスクに塵等が付着したりマスクが自重で変形するのを防止でき、更に、装置の設置スペースを小さくする。 - 特許庁

To duplicate a plurality of molds in each of which a minute structure is formed accurately in a nano-imprint method of a pattern transfer technique for forming a structure having a minute shape.例文帳に追加

微細な形状の構造体を形成するためのパターン転写技術であるナノインプリント法において、高精度に微細構造が形成されたモールドを複数個複製すること。 - 特許庁

The difference between the recessed parts 38a and the protruded parts 38b is smaller than the wavelength of visible light and the center C of the concentric pattern is set at a position different from the center O of the optical transfer surface 24a.例文帳に追加

そして、この凹３８ａと凸３８ｂの差は可視光の波長よりも小さく、しかも同心状模様の中心Ｃが、光学転写面２４ａの中心Ｏと異なる位置にある。 - 特許庁

To provide a cloth material for a mark enabling a desired color, pattern and figure to be formed on a cloth to be a marking cloth by a transfer paper printed with a sublimable dye.例文帳に追加

昇華性染料による印刷を施した転写紙を以て、マーク地となる布地に所望の着色、模様、図形を形成することができるマーク用生地材料を提供する。 - 特許庁

In addition, the formation of the tracking pattern p is effective not only in a secondary transfer system in fixing, but also in all fixing systems which are low in resolution and perform selective heating.例文帳に追加

またそれだけでなく、このような追跡パターンｐの形成は、定着上二次転写方式だけでなく、解像度の低い選択的な加熱を行う定着方式全般に有効である。 - 特許庁

To provide a liquid immersion exposure system which exposes a substrate with proper pattern transfer accuracy, when exposure treatment is conducted between a projection lens system and the substrate with a liquid filled up.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で露光処理を行う際、良好なパターン転写精度で基板を露光できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, a pattern image for preventing filming is arranged at the angles of both ends in the carrying direction of the transfer paper, and toner positioned at both ends of the developing roller is consumed and moved.例文帳に追加

このため、転写紙の搬送方向に対して両端部の角にフィルミング防止用のパターン画像を配して、現像ローラの両端部に位置しているトナーを消費し、移動する。 - 特許庁

A heat transfer pattern 22a is formed from a contact part of a metal screw for supporting a printed circuit board 22 in a casing 21, to the periphery of a temperature detection element 23 mounted on the printed circuit board 22.例文帳に追加

プリント基板２２を筐体２１内に支持する金属ネジの接触部から、プリント基板２２上に実装された温度検出素子２３の近傍まで伝熱パターン２２ａを形成した。 - 特許庁

The transfer part includes a hologram forming layer, a reflecting layer and the information accepting layer in this sequence from the substrate side, and the reflecting layer includes a reflective pattern layer and a visible light transmitting reflective layer.例文帳に追加

転写部は、基材側から、ホログラム形成層、反射層および情報受容層をこの順に有し、かつ、反射層は反射性パターン層および可視光透過性反射層を含む。 - 特許庁

The focus monitor method uses modified illumination to transfer the pattern of a photo mask 5 for phase shift focus monitor to a photo resist 21b on a semiconductor substrate 21a.例文帳に追加

本発明のフォーカスモニタ方法は、位相シフトフォーカスモニタ用フォトマスク５のパターンを、変形照明を用いて半導体基板２１ａ上のフォトレジスト２１ｂに転写することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a radio wave receiver whose antenna resolution is improved by utilizing a transfer function in an azimuth frequency region resulting from applying Fourier transformation to an antenna pattern with respect to an azimuth angle.例文帳に追加

アンテナパターンを方位角に関してフーリエ変換した方位角周波数領域の伝達関数を利用して、アンテナ分解能を向上させるようにした電波受信装置を提供する。 - 特許庁

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE例文帳に追加

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element, which can improve a light utilization efficiency for a laser beam when forming an organic film layer pattern with a laser transfer.例文帳に追加

レーザー転写法により有機膜層パターンを形成する際に，レーザービームの光利用効率を向上させることができる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern for preventing filming is formed at both ends other than an image forming area outputting a toner image on transfer paper, and the toner retained on the developing roller is moved.例文帳に追加

転写紙上におけるトナー像を出力する画像形成領域以外の両端部にフィルミングを防止するパターンを形成させて、現像ローラ上に滞留したトナーを移動させる。 - 特許庁

A main control MC synchronizes the rotation of the reticle R with the movement of the wafer stage WST, and controls the transfer of the pattern formed on the reticle R onto the wafer W at the same time.例文帳に追加

主制御系ＭＣは、レチクルＲの回転とウェハステージＷＳＴの移動との同期をとりながら、レチクルＲに形成されたパターンをウェハＷ上に転写する制御を行う。 - 特許庁

To provide a mask for a charged particle beam exposure system, in which deformation of a circuit pattern can be limited to a range without problems related to transfer accuracy, even when inside tensile stress is applied to a mask.例文帳に追加

マスクに内部引っ張り応力を与えても、回路パターンの変形が、転写精度上問題のない範囲に収まるような荷電粒子線露光装置用マスクを提供する。 - 特許庁

To suitably print a printing pattern on a printing surface of a base plate from a transfer surface of a film.例文帳に追加

本発明は印刷方法とそれを用いた印刷装置に関するものであって、フィルムの転写面から基板の印刷面に印刷パターンを適切に印刷することを目的とするものである。 - 特許庁

To create an accurate image pattern for obtaining, from texture drawn on a surface of a real solid object, the identical texture through transfer to a solid object having the same shape feature.例文帳に追加

実際の立体物の表面に描かれたテクスチャから同じ形状特徴を有する立体物への転写によって同じテクスチャを得るための、正確な画像パターンを作成すること。 - 特許庁

A minute pattern resin film 22 is formed on one main surface of a key top body 36 by using a minute pattern forming resin film 20 having properties such that it retains liquid state at ordinary temperature and is cured with light to form a minute pattern (e.g., line width and line interval of 0.1 mm or less) by transfer or others followed by curing by UV irradiation.例文帳に追加

常温下で液状を保持し光を受けて硬化する性質の微細模様形成用樹脂膜２０を用い転写その他により微細模様（線幅及び線間例えば０．１ｍｍ以下）を形成し、ＵＶ光照射により硬化させた微細模様樹脂膜２２を、キートップ本体３６の一方の主表面に形成する。 - 特許庁

The lithography simulation method includes steps of: applying defocus processing to an image formation condition of lithography simulation by referring to a table with a relationship between the dimension of a mask pattern of a simulation object and a defocus amount specified therein; and calculating the dimension of a transfer pattern corresponding to the mask pattern using the image formation condition with the defocus processing applied thereto.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの結像条件に対して、シミュレーション対象のマスクパターンの寸法とデフォーカス量との関係が規定されたテーブルを参照してデフォーカス処理を施す工程と、前記デフォーカス処理が施された結像条件を用いて前記マスクパターンに対応する転写パターンの寸法を算出する工程と、を備えたリソグラフィシミュレーション方法である。 - 特許庁

The circumferential length L of a secondary transfer roller 119, the repeating interval P of a drum clearance-correcting pattern 412 to be repeatedly drawn, a maximum value p_max of sub-scanning directional width of lines included in the pattern and a minimum value g_min of sub-scanning directional clearance of adjacent lines in the pattern satisfy the relation of p_max≤|P-L|≤g_min.例文帳に追加

２次転写ローラ１１９の周長Ｌと、繰り返し描画されるドラム間隔補正用パターン４１２の繰り返し間隔Ｐと、パターンに含まれる線の副走査方向の幅の最大値ｐ_ｍａｘと、パターンにおいて隣接する線の副走査方向の間隔の最小値ｇ_ｍｉｎとが、ｐ_ｍａｘ≦｜Ｐ−Ｌ｜≦ｇ_ｍｉｎの関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern data conversion method and a pattern data conversion device for, in the case of extracting an outline from an SEM image and converting the contour into polygon coordinate data such as GDSII (General Data Stream), reducing the number of coordinate points configuring the contour as much as possible, and at the same time, suppressing the fluctuation of a pattern shape so as to be an extent that transfer simulation is not affected.例文帳に追加

ＳＥＭ画像から輪郭線を抽出してＧＤＳＩＩなどのポリゴン座標データに変換する際に、輪郭を構成する座標点数をなるべく少なくすると同時に、パターン形状の変動を転写シミュレーションに影響がない程度に抑えるパターンデータ変換方法及びパターンデータ変換装置を提供する。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S82), determines a sound control command corresponding to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a sound control command (S84), outputs the sound control command (S86), and outputs a transfer signal (S88).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ８２）、変動パターンと音声制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられている音声制御コマンドを決定し（Ｓ８４）、その音声制御コマンドを出力し（Ｓ８６）、転送信号を出力する（Ｓ８８）。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S92), determines a lamp control command corresponded to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a lamp control command (S94), outputs the lamp control command (S96), and outputs a transfer signal (S98).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ９２）、変動パターンとランプ制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられているランプ制御コマンドを決定し（Ｓ９４）、そのランプ制御コマンドを出力し（Ｓ９６）、転送信号を出力する（Ｓ９８）。 - 特許庁

To provide a film forming composition for nanoimprint, a photosensitive resist and a nanostructure excellent in etching durability to oxygen gas, preventing a transfer pattern from peeling, solving a problem about a retention time on a substrate and having excellent transferring property, to provide a pattern forming method using the composition or the like, and to provide a program to carry out the pattern forming method.例文帳に追加

酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。 - 特許庁

The template has a transfer surface provided with a concave-convex pattern, and is used for forming a shape reflecting the concave-convex pattern on a surface of a resin that is formed by filling a concave part of the concave-convex pattern with a photocurable resin liquid before being cured by light, and curing the photocurable resin liquid by light.例文帳に追加

実施形態によれば、凹凸パターンが設けられた転写面を有し、前記凹凸パターンの凹部に、光によって硬化する前の状態の光硬化性樹脂液を充填し、前記光によって前記光硬化性樹脂液を硬化させて形成される樹脂の表面に前記凹凸パターンを反映した形状を形成するためのテンプレートが提供される。 - 特許庁

In the mold 1 for nanoimprinting which has a pattern p1 for transfer made of a nano order uneven structure and transfers the pattern p1 by pushing it to a resin material to be transferred, a fluorinated silicon oxide film 3 is formed on a substrate 2 for the mold, and the pattern p1 is formed on the film 3.例文帳に追加

ナノオーダの凹凸構造からなる転写用パターンｐ１を有し、樹脂からなる被転写材料に押し当てて転写用パターンｐ１を転写するためのナノインプリント用金型１において、金型用基板２上にフッ素化Ｓｉ酸化膜３が形成され、そのフッ素化Ｓｉ酸化膜３に転写用パターンｐ１が形成されたものである。 - 特許庁

The apparatus is equipped with an illumination lamp 42 irradiating the the intermediate transfer belt 11 formed with the predetermined toner pattern with light; an optical path (b) guiding reflected light from the predetermined toner pattern to the light receiving sensor 35 of the image reader 30; and a control part 60 controlling an image forming condition based on the density of the toner pattern detected by the image reader 30.例文帳に追加

所定のトナーパターンを形成された中間転写ベルト１１上に光を照射する照明ランプ４２と、所定のトナーパターンからの反射光を画像読取り装置３０の受光センサ３５に導く光路ｂと、画像読取り装置３０で検出したトナーパターンの濃度に基づいて画像形成条件を制御する制御部６０とを備えている。 - 特許庁

In this method for controlling traffic utilizing the encoding of a wave absorber marking tape, traffic control is performed by producing a wave absorbing pattern by means of a wave absorber formed by laminating one or more wave absorbing layers and heat transfer converting layers upon another and causing the drivers of the vehicles to read the pattern after the pattern is encoded and to act on a reaction mechanisms.例文帳に追加

１層以上の電波吸収層と熱伝達変換層を積層してなる電波吸収体により、電波吸収パターンを作製し、それを符号化して読み取らせ、反応機構に作動することで交通制御を行う事を特徴とする電波吸収体マーキング・テープの符号化を利用した交通制御方法。 - 特許庁

The reflective type optical sensor includes: 801 light emitting parts (E1 to E801); 801 light receiving parts, each receiving a luminous flux reflected on a transfer belt 2040 or a toner pattern; a lens array LEDA condensing a luminous flux emitted from each light emitting part and guiding the luminous flux reflected on the transfer belt 2040 or the toner pattern to each light receiving part so as to collect light; and a processor.例文帳に追加

８０１個の発光部（Ｅ１〜Ｅ８０１）、転写ベルト２０４０又はトナーパターンで反射された光束を受光する８０１個の受光部、各発光部から射出された光束を集光するとともに転写ベルト２０４０又はトナーパターンで反射された光束を集光的に各受光部に導くレンズアレイＬＥＤＡ及び処理装置を有している。 - 特許庁

The stencil mask blank is provided with a supporting substrate 13 composed of a single crystal silicon wafer, an active layer 11 for preparing a transfer pattern, an intermediate insulation layer formed between the supporting substrate and the active layer, and an amorphous silicon layer 111 formed at the other side of the supporting substrate while an opening unit corresponding to the transfer pattern is prepared in the amorphous silicon layer, the supporting substrate, and the intermediate insulation layer.例文帳に追加

単結晶シリコンウェハからなる支持基板と、転写パターンを設けるための活性層と、前記支持基板と活性層の間に形成された中間絶縁層と、前記支持基板のもう一方側に設けたアモルファスシリコン層とを有し、前記転写パターンに対応する開口部を、前記アモルファスシリコン層と、前記支持基板と、前記中間絶縁層に設けたこと。 - 特許庁

A hydraulic transfer film 7 containing a polyester polyol as a main component is superposed on the sheet A so as to bring the film 7 into close contact with the pattern 5, pressed and heated to pre-transfer the patterns 4, 5 to the film 7, and then the film 1 is separated from the film 7 to form the masked pattern 6 on the film 7.例文帳に追加

ポリエステルポリオールを主成分とする水圧転写用フィルム７を、印刷パターン５に密着するようにプレ転写シートＡに重ね、押圧しかつ加熱してマスキングパターン４と印刷パターン５を水圧転写用フィルム７にプレ転写させ、その後プラスチック製フィルム１を水圧転写用フィルム７から離れさせることにより、水圧転写用フィルム７にマスキングされた印刷パターン６を形成する． - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

To provide: a new conductive paste for intaglio offset printing, which can form an electrode pattern having a sufficient thickness and which excels in three-dimensional shape accuracy and conductivity on a surface of a substrate by increasing a transfer rate in a first transfer process out of an electrode pattern forming processes using an intaglio offset printing method; and a method of manufacturing an electrode substrate using it.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程のうち、１回目の転写工程での転写率を高めて、基板の表面に、十分な厚みを有し、三次元の形状精度と導電性に優れた電極パターンを形成することができる、新規な凹版オフセット印刷用導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fine pattern molded resin product constituted so as to eliminate irregularity which occurs when a transfer-molded resin base material is suddenly cooled to be demolded and separated from a molding recessed plate before demolded from the molding recessed plate after a fine pattern is transfer-molded on the surface of a molding resin base material by the molding recessed plate.例文帳に追加

成型用樹脂基材の表面に成型用凹版にて微細パターンを転写成型後に、その転写成型された樹脂基材を成型用凹版から離型する前にて、その転写成型された樹脂基材を急激に冷却し、成型用凹版から離型、離版させる時に生じるムラを無くす微細パターン成型樹脂製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, the density of the developer image attached to the non subject region in formation of the test pattern is detected, the ghost occurrence level and a transfer bias level in which no ghost phenomenon occurs based on the density level of the developer in the non subject region of the test pattern are estimated and the transfer bias level for image formation according to the estimate is set.例文帳に追加

そして、テストパターンの形成の際に非対象領域に付着した現像剤像の濃度を濃度検出センサ７１によって検知し、ゴースト発生レベルと、テストパターンにおける非対象領域の現像剤像の濃度レベルとに基づいてゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルを推測し、その推測に応じた画像形成用の転写バイアスレベルを設定する。 - 特許庁

The recorder controls the sorter so that the sheet unit present between the maintenance pattern and the cutter position may be discharged to the discharge part different from other sheet units when the poor transfer of continuous sheet is detected at the upstream side from a position where the cutter is provided and when the maintenance pattern examined immediately before poor transfer is detected is present at the downstream side from the cutter.例文帳に追加

記録装置は、カッタが設けられた位置よりも上流側で連続シートの搬送不良が検知され、かつ搬送不良が検知された時点で直前に検査された保守パターンがカッタよりも下流側に存在したときに、該保守パターンとカッタの位置との間に存在するシート単位を、他のシート単位とは異なる排出部に排出するようにソータ部を制御する。 - 特許庁

The integrated circuit patterns are transferred to pattern transfer regions 12a to 12e of the product mask Md 4 by reduction stepping processing using plural sheets of the IP masks and thereafter the connection between the patterns of the pattern transfer regions 12a to 12e adjacent to each other is performed by the light shielding patterns 2j consisting of organic films formed by exposure processing using energy beams.例文帳に追加

複数枚のＩＰマスクを用いた縮小投影露光処理によって製品マスクＭｄ４のパターン転写領域１２ａ〜１２ｅに集積回路パターンを転写した後、互いに隣接するパターン転写領域１２ａ〜１２ｅのパターン間の接続をエネルギービームを用いた露光処理によって形成された有機膜からなる遮光パターン２ｊで行うようにする。 - 特許庁

In the transfer sheet, on the base sheet of which, a peel ply and the transfer sheet including a pattern layer are provided through a releasing layer, the peel ply is made of a resin including an olefin-based resin and the releasing layer is made of a rein including an epoxy resin or/and melamine resin.例文帳に追加

剥離層、絵柄層を含む転写層が離型層を介して基体シート上に設けられた転写シートであって、剥離層がオレフィン系樹脂を含む樹脂で形成され、離型層がエポキシ樹脂または／およびメラミン樹脂を含む樹脂で形成された転写シート。 - 特許庁

A hot-rolled steel rod is sent to a laying head 10 along a transfer path P, the rod is formed into a series of continuous rings R in the laying head 10, these rings R are placed on the conveyer 14 in an overlapped pattern and transferred to a reforming station along the transfer path P.例文帳に追加

熱間圧延されたスチールロッドを搬送パスＰに沿ってレーイングヘッド１０に送り、レーイングヘッド１０においてロッドを連続する一連のリングＲに形成し、それらリングＲをコンベア１４上に重なりパタンに載置し、搬送パスＰに沿ってリフォームステーションまで搬送する。 - 特許庁

When press-fitting the mold 3 to a transfer object substrate 1, position coordinates of an alignment mark 8 arranged on the mold 3, are measured by an alignment mark detector 12, and a strain quantity of a transfer pattern area on the mold 3 is calculated by performing a recursive analysis from a displacement quantity of the alignment mark 8 in press-fitting.例文帳に追加

被転写基板１にモールド３を圧着させる際に、モールド３上に設けたアラインメントマーク８の位置座標をアラインメントマーク検出器１２により測定し、圧着時のアラインメントマーク８変位量から回帰解析を行いモールド３上の転写パターン領域の歪み量を算出する。 - 特許庁

(1) This is a manufacturing method of a flexible optical disk to be irradiated with light intermittently in a process in which a concavo-convex minute pattern of a stamper is transferred to a transfer layer which includes a photocurable resin in manufacturing the flexible optical disk which has at least a film substrate, a transfer layer and a recording layer.例文帳に追加

（１）少なくとも、フィルム基板と転写層と記録層を有するフレキシブル光ディスクを作製するに当り、スタンパの凹凸微細パターンを光硬化性樹脂からなる転写層に転写する工程において、断続的に光を照射するフレキシブル光ディスク作製方法。 - 特許庁