「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a thermal transfer recording magnetic coupon paper which enables discernsment of a forged coupon by development of a pattern which is clearly different from an original print in a copied object, even when a gravure multi-color print made on a thermal transfer image receiving layer is copied using a color duplicator with high fidelity.例文帳に追加

熱転写受像層上に成されたグラビア多色印刷を忠実度の高いカラー複写機で複写しても、複写品が明確に元印刷と異なるパターンとなって、偽造物であることが判る熱転写記録型磁気券紙を提供する。 - 特許庁

Further, the position offset used for transfer the pattern in a second region (RPA2) with its central position different from the first region is calculated, using an information of each central position and the transfer error of the first region and the second region.例文帳に追加

さらに、マスク上の第１領域とは中心位置が異なる第２領域（ＲＰＡ２）内のパターンを基板上に転写する際の位置補正値を、第１領域と第２領域の各中心位置の情報と転写誤差の情報とを用いて算出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a three-dimensional device, by which a desired three-dimensional figure can be formed in a thick film resist with high accuracy by deriving a transfer function of an exposure system by use of a test reticle and designing a mask pattern using the transfer function as a feedback.例文帳に追加

テストレチクルを用いて露光システムの伝達関数を導出し、この伝達関数をマスクパターンの設計にフィードバックさせて、厚膜レジストに所望する三次元形状を精度よく形成することが可能な三次元デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

At the receiving of the reading request of a predetermined logical address(LBA) from a diskless PC 1002, a data transfer control part 1008 of a cache device 1004 inquires for the storage location of access pattern information to an IP name server device 1017, and acquires access pattern information.例文帳に追加

キャッシュ装置１００４のデータ転送制御１００８部は、ディスクレスＰＣ１００２から、既定の論理アドレス（ＬＢＡ）の読出要求を受け取ると、ＩＰネームサーバ装置１０１７にアクセスパタン情報の格納場所を照会して、アクセスパタン情報を取得する。 - 特許庁

The image density of a toner pattern more easily causing the transfer dust than a toner pattern for process control is detected by a P sensor 50, and bias applied to a discharging blade 40 when a result of detection is within a predetermined image density range is set as a proper value.例文帳に追加

プロセスコントロール用のトナーパターンよりも転写チリを起こし易いトナーパターンの画像濃度をＰセンサ５０によって検知し、その検知結果が所定の画像濃度範囲内に入った際の除電ブレード４０に印加したバイアスを適正値として設定する。 - 特許庁

To provide a printer using a DC brushless motor, in particular, a printer that prevents toner from adhering to a transfer belt in a stripe pattern, and thereby not causing image failure in a band pattern, as well as a drive control method of the printer.例文帳に追加

本発明はＤＣブラシレスモータを使用する印刷装置に関し、特に転写ベルトへのスジ状のトナーの付着を防止し、用紙にバンド状の画像障害を生じさせることのない印刷装置、及び印刷装置の駆動制御方法を提供するものである。 - 特許庁

The partition 621 coordinated with reference to the management information 71 with the use of the identification information of the drawing pattern to be drawn is specified, and the drawing data are outputted to an optical head 41 at a fast transfer rate to quickly draw the drawing pattern.例文帳に追加

描画対象の描画パターンの識別情報を用いて管理情報７１を参照することにより対応するパーティション６２１が特定され、描画データが光学ヘッド４１に高速な転送レートにて出力され、描画パターンが高速に描画される。 - 特許庁

To eliminate the problem that in a method for printing to add a forgery preventing pattern by halftone dots having different area ratios, since the forgery preventing pattern is synthesized with print data in a host computer and transferred to a printer, the load in the host computer is increased, so that the data transfer volume is increased.例文帳に追加

面積比率の異なる網点による偽造防止パターンを付加する印刷方法においては、ホストコンピュータにおいて印字データに偽造防止パターンを合成してプリンタへ転送するため、ホストコンピュータでの負荷が増え、データ転送量が増大してしまう。 - 特許庁

In the exposure apparatus to transfer a circuit pattern formed on a reticle onto a substrate such as a wafer, an antireflection film is applied to the effective region for the exposure rays on the opposite face of the reticle to the face where at least a reticle device pattern is formed.例文帳に追加

レチクル上に形成された回路パターンをウエハなどの基板上に転写する露光装置において、少なくともレチクルデバイスパターンが形成してある面の反対側の面の露光光線有効領域に反射防止膜を施したことを特徴とする露光方法。 - 特許庁

The method for marking a lens includes: a patterning process for forming a layout pattern having machining information of the lens 1 on an ink receiving board 41 with a planar surface; and a transfer process for transferring the layout pattern formed by the patterning process to the surface of the lens 1.例文帳に追加

表面が平面状のインク受板４１にレンズ１の加工情報を有するレイアウトパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程で形成された前記レイアウトパターンを前記レンズ１の表面に転写する転写工程と、を有するレンズのマーキング方法。 - 特許庁

When there is nondefect in the first and second transfers 150a, 150b, a specified pattern is displayed on the liquid crystal panel, however, when there is defect in the first or second transfer 150a or 150b, a pattern different from that in the normal state is displayed.例文帳に追加

第１及び第２のトランスファー１５０ａ，１５０ｂに欠陥がないときには液晶パネルに特定のパターンが表示されるが、第１のトランスファー１５０ａ又は第２のトランスファー１５０ｂに欠陥がある場合は、正常時と異なるパターンが表示される。 - 特許庁

An arbitrary design pattern is copied on the surface side of a fabric 1 by a copying machine 2 using a toner, a transparent transfer foil 7 is piled on a fabric 1A after copy processing and the foil is transferred by a hot-stamping method by using the toner of copied design pattern as a binder.例文帳に追加

布帛１の表面側に、トナーを使用する複写機２で任意の意匠模様を複写し、この複写加工後の布帛１Ａに透明転写箔７を重ね合わせ、複写意匠模様のトナーをバインダーとして、ホットスタンピング法により箔を転写する。 - 特許庁

This stencil mask is provided with: a support formed with an opening; an etching stopper layer pattern-formed on the support; and a thin film formed with a transfer penetration pattern on the etching stopper layer wherein the surface or the whole surface of the support part and the thin film is oxidized.例文帳に追加

開口部が形成された支持部と、支持部上にパターン形成されたエッチングストッパ層と、エッチングストッパ層上に転写貫通パターンが形成された薄膜層と、を備え、支持部及び薄膜層の表面もしくは全面が酸化されたことを特徴とするステンシルマスク。 - 特許庁

In a color image forming apparatus, reflected light from the intermediate transfer member on which the pattern image for color matching among images of respective colors is formed is received by the optical sensor, and a formation position of the pattern image is read on the basis of a maximum peak of an output signal of the optical sensor.例文帳に追加

カラー画像形成装置は、各色の画像の色合わせを行うためのパターン画像が形成された中間転写体からの反射光を光センサで受光し、光センサの出力信号の最大ピークに基づいて、パターン画像の形成位置を読み取る。 - 特許庁

Further, when a change in internal temperature of the apparatus is detected by a detection sensor, an image stabilizing operation is performed by forming a reference pattern image on a photoreceptor drum, transferring the reference pattern image to the intermediate transfer body, determining an image forming performance, and then, adjusting an image forming condition.例文帳に追加

また、検知センサによって装置内温度の変化が検知されると、感光体ドラム上に基準パターン像を形成し、これを中間転写体に転写して像形成性能を判断して画像形成条件を調整する画像安定化動作が行われる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加

また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁

To provide a selecting method of an exposing method in which selection of an exposing technique corresponding to a real chip layout design is realized and required gate line width control is attained, when the exposing method is selected to perform pattern transfer for a mask pattern by the selected exposing method.例文帳に追加

露光方法を選択し、選択した露光方法によりマスクパターンのパターン転写を行う際、実チップレイアウト設計に対応した露光技術の選択を可能にし、要求されるゲート線幅制御を達成できる、露光方法の選択方法を提供する。 - 特許庁

In a device for carrying out pattern transfer by pressing a mold 101 having a formed pattern to the liquid or viscous matter 401 containing a stress luminescent material arranged on a substrate 104, the mold-release starting point is created by an actuator 102 provided in the device.例文帳に追加

パターンが形成されたモールド１０１を基板１０４上に配置された応力発光材料を含有した液体もしくは粘性体４０１に押しつけることでパターン転写を行う装置において内部に有したアクチュエータ１０２で離型開始点を作る。 - 特許庁

To provide a heating transfer sheet that transfers and forms a metallic luster pattern and a hologram pattern without causing cracks or destruction of a metal thin film layer when transferred to a decorated base material having a curved surface small in radius of curvature.例文帳に追加

曲率半径の小さい曲面を有する被装飾基材に転写した際、金属薄膜層の割れや破壊が発生するという問題を起こすことなく、金属光沢模様、ホログラム模様を転写形成することのできる加熱転写シートを提供する。 - 特許庁

Since the peeling angle 39 is changed when the transfer sheet 15 performs suction, unevenness occurs intrinsically but the pattern is not drawn in the region 37 not drawn with the region 37 and therefore the effect of the unevenness does not appear in the pattern.例文帳に追加

剥離角度変化領域３５より外側は、転写シート１５を吸着する際に剥離角度３９が変化しているため、本来はムラが発生するが、絵柄非描画領域３７には絵柄が描画されていないため、絵柄にはムラの影響が現れない。 - 特許庁

To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.例文帳に追加

透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To have the center of a wafer coincide with the center of a mask pattern in with proper precision by a manufacture of a semiconductor sensor, having a transfer step where the mask pattern is transferred by exposing the semiconductor wafer via the mask, without relating to the kind of exposing apparatus.例文帳に追加

マスクを介して半導体ウェハ上を露光することにより該マスクのパターンを転写する転写工程を有する半導体センサの製造方法において、露光機の種類に関係なく、ウェハの中心とマスクパターンの中心とを精度良く合致させる。 - 特許庁

In the method for manufacturing pattern member, a plurality of transfer sheets 32 formed by coating the respective surfaces of a plurality of belt-like flexible bases with different kinds of materials P are used to form the respective kinds of different materials P on the substrate B in pattern shapes.例文帳に追加

複数枚の帯状可撓性支持体それぞれの表面に各種類の異なる材料Ｐが塗布形成されている複数枚の転写シート３２を用いて、基板Ｂ上に各種類の異なる材料Ｐをパターン状に形成するパターン部材の製造方法。 - 特許庁

To provide a transfer device which can irradiate ultraviolet curing resin with an ultraviolet ray having uniform intensity and can photograph a die and a substrate even if the ultraviolet curing resin is irradiated with the ultraviolet ray in a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed in the die on the ultraviolet curing resin.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを基材に設けられている紫外線硬化樹脂に転写するための転写装置において、均一な強度の紫外線を紫外線硬化樹脂に照射可能であると共に、紫外線硬化樹脂に紫外線を照射しているときであっても、型と基材とを撮影可能な転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank substrate and a method for manufacturing a mask blank, which are capable of recycling a mask blank substrate by, if a transfer mask is unavailable because of the existence of a defect or the like, removing traces of a transfer pattern remaining on a principal surface of the mask blank substrate which has been used in the transfer mask.例文帳に追加

転写用マスクに欠陥が存在するなどのために使用が不可能な場合、転写用マスクに使用されていたマスクブランク用基板の主表面に残る転写パターンの痕跡を除去することにより、マスクブランク用基板の再生を可能にする、マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data transfer device and a data transfer method for, when a signal column whose pattern is the same as that of a control signal column for showing the end position of a packet exists in data to be transferred, suppressing the decrease of a transfer processing speed as much as possible when converting the signal column into another signal column.例文帳に追加

転送の対象となるデータにパケットの終了位置を表すための制御信号列と同じパターンの信号列が存在する場合にはその信号列を他の信号列に変換する処理を行う場合に、転送処理速度の低下をできるだけ抑えることが可能なデータ転送装置およびデータ転送方法を得ること。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal transfer sheet, in which a specified pattern can be formed easily at a fine pitch, a metal transfer sheet produced by the producing method, and wiring circuit board in which currently requested fine pitch can be dealt with, using the metal transfer sheet, and high density wiring can be realized.例文帳に追加

所定のパターンをファインピッチで容易に形成することのできる金属転写シートの製造方法、および、その製造方法によって得られる金属転写シート、さらには、その金属転写シートが用いられ、近年要求されているファインピッチ化に対応することができ、高密度配線を図ることのできる配線回路基板を提供すること。 - 特許庁

Contact detection units 101-1 to 101-M are attached to an information transfer device 100 in a predetermined arrangement pattern to detect direct/indirect contact.例文帳に追加

接触検知部１０１−１〜１０１−Ｍは、直接的／間接的な接触を検知する為に、予め定められた配置パターンでもって情報伝達デバイス１００に取り付けられている。 - 特許庁

Thus, the uniformity of the line width in the scanning direction of a pattern transfer image transferred to each section area can be improved as a result of the scanning exposure to each section region on the substrate W.例文帳に追加

このため、基板上の各区画領域に対する走査露光の結果、各区画領域に転写されるパターン転写像の走査方向における線幅均一性が向上する。 - 特許庁

A transfer sheet 61 has a structure including two layers of a metal base material 62 and a dissolved metal layer 64 and the conductor pattern 55 is formed by electroplating on the dissolved metal layer 64.例文帳に追加

転写シート６１を金属ベース材６２と被溶解金属層６４の２層を含む構造とし、導体パターン５５を被溶解金属層６４の上に電気めっき法によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic circuit substrate in which in increasing the density of the ceramic circuit substrate, a high density pattern by a thick film intaglio transfer method is formed as an inner packaging conductor.例文帳に追加

セラミック回路基板の高密度化において、厚膜凹版転写法による高密度パターンを内装導体としたセラミック回路基板の製造方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

Pattern transfer is performed using a combination of an ultraviolet-curable resin having a surface tension of 31 to 39 mN/m and a stamper having a critical surface tension of 31 mN/m or less.例文帳に追加

表面張力は３１ないし３９ｍＮ／ｍの紫外線硬化型樹脂と、臨界表面張力が３１ｍＮ／ｍ以下のスタンパとを組み合わせて使用し、パターン転写を行う。 - 特許庁

A uniform leakage magnetic field is obtained regardless of positions from the magnetic domain pattern and the stable transfer of the information to the reproducing layer is made possible regardless of the continuous recording information.例文帳に追加

かかる磁区パターンからは、位置にかかわらず均一の漏洩磁界が得られ、連続記録情報であっても再生層に安定して情報を転写させることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a member for transfer which does not cause the disappearance and peeling of wiring due to the internal stress of a plated metal and the infiltration of plating into the boundary between a mask pattern and a conductive substrate.例文帳に追加

金属めっきの内部応力による配線の消失、剥離、およびマスクパターンと導電性基板の間へのめっきの染込みが生じない転写用部材の製法の提供。 - 特許庁

A mask 10 is characterized in that T≤H holds if the thickness of the absorber 16, which is the absorbing film 16a formed into a desired transfer pattern, is T and the depth of the recess 17 is H.例文帳に追加

マスク１０は、吸収膜１６ａを所望の転写パターンに形成してなる吸収体１６の厚さをＴ、凹部１７深さをＨとすると、Ｔ≦Ｈであることを特徴とする。 - 特許庁

Since the core layer can be formed by transfer from the master substrate by pouring the core material into the recessed part for optical waveguide pattern and by hardening it, efficient manufacture of optical waveguides becomes possible.例文帳に追加

光導波路パターン用の凹部にコア材を注入し硬化することで、コア層をマスター基板からの転写で形成することができ、光導波路の効率よい製造が可能となる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus detects the flaw on an intermediate transfer belt, and determines whether or not an adjustment pattern for performing registration correction is formed in a state where it is overlapped on the detected flaw.例文帳に追加

本画像形成装置は、中間転写ベルトの傷を検知し、レジストレーション補正を行うための調整パターンが検知した傷に重なった状態で形成されるか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a method and device for processing a substrate wherein a transfer which is an index of an evenness of film-thickness of a resist liquid and fluctuation of line thickness in circuit pattern is prevented.例文帳に追加

レジスト液の膜厚の不均一および回路パターンの線幅の変動の指標である転写を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The transfer paper is used for so called a line drawing for coloring constituted by coating a water soluble paste 2 throughout the top face of a board 1 and further printing a pattern 3 with a flammable ink.例文帳に追加

いわゆる塗り絵として使用する転写紙であって、台紙１の上面全体に水溶性の糊２をコーティングし、さらに可燃性インクで図柄３を印刷して、構成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the photomask blank includes forming a thin film for forming a transfer pattern on a light-transmissive substrate to prepare a thin-film coated substrate and then pressing the thin-film coated substrate.例文帳に追加

透光性基板上に、転写パターンを形成するための薄膜を成膜して薄膜付き基板を作製し、次いで該薄膜付き基板を加圧処理するフォトマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

To provide the structure of an optical waveguide substrate having cores in a fine pattern which hardly cause decrease in transfer accuracy during forming the cores due to thermal expansion and a method of manufacturing the optical waveguide substrate.例文帳に追加

コア成形時に熱膨張に起因する転写精度の低下を生じることのない、微細パターンのコアを有する光導波路基板の構成及び製造方法を提供する。 - 特許庁

Such a failure is prevented that the position of the registration pattern for inspection is erroneously detected, irrespective of dust and dirt on the intermediate transfer belt 5, consequently, the image position is accurately and stably corrected.例文帳に追加

中間転写ベルト５上に傷や埃などがあっても、検査用レジストパターンの位置を誤って検出することはなくなるので、正確な画像位置補正が安定的にできる。 - 特許庁

In a pattern process, the design 3, in which a design board surface of the game board 22 is formed on the dried fixing layer 2, is formed in a layered manner by transfer or inkjet multicolor printing.例文帳に追加

図柄工程で乾燥した定着層２の上に遊技盤２２の意匠盤面を形成する意匠図３を転写やインクジェットによる多色刷り印刷で層状に形成する。 - 特許庁