「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

In the pattern forming method, when a thermoplastic resin layer and an intermediate layer are present, a step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer is included between the transfer step and the exposure step.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a curing composition for transfer materials, which is suitable for a nanoimprint method in which selectivity of a dry etching speed with argon gas and oxygen gas is high, and which is capable of forming a fine pattern with a high throughput.例文帳に追加

アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

When the determined period comes, the EUV mask is replaced or cleaned and the replaced EUV mask or the EUV mask having been cleaned is irradiated with EUV light to transfer the pattern to resist formed on a wafer.例文帳に追加

決定された時期が到来した場合にＥＵＶマスクを交換又はクリーニングし、該交換後又はクリーニング後のＥＵＶマスクにＥＵＶ光を照射してウエハ上に形成されたレジストにパターンを転写する。 - 特許庁

This metallic film transfer film for an electronic component has such a structure that a mold releasing layer and a metallic film are made in this order on the plastic film, and the mold releasing layer has a specified pattern form.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、離型層が所定のパターン形状を有している電子部品用金属膜転写フィルム。 - 特許庁

A memory managing part 201 sets control parameters (operating pattern data) corresponding to outside trigger signals 119 in registers 202-204 by reading them from the memory 223, and transfer them to registers 205-207 at next timing.例文帳に追加

メモリ管理部２０１は、外部トリガ信号１１９に応じた制御用パラメータ（運転パターンデータ）をメモリ２２３からリードしてレジスタ２０２〜２０４へセットし、次のタイミングでこれらをレジスタ２０５〜２０７へ転送する。 - 特許庁

To obtain a thermal transfer recording medium which is provided by doing pattern printing in such a manner that ink layers with a plurality of colors and/or a plurality of patterns are mixed onto a substrate, and which can avoid a trouble in the winding of an ink ribbon.例文帳に追加

支持体上に複数色および／または複数パターンのインク層を混在してパターン印刷して設けるインクリボンの巻装時トラブルを回避できる熱転写記録媒体を得ること。 - 特許庁

To provide a thermal transfer sheet wherein a metallic luster layer pattern formed in a required shape is easily and at a low cost formed on the whole surface or at an optional position while its manufacturing method is provided.例文帳に追加

全面または任意の位置に、所望の形状にパターン形成された金属光沢層領域を簡便かつ安価に形成した熱転写シート、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A data transfer unit 21 extracts a reference clock from one of a plurality of synchronization pattern inserting data, and transfers all the data with respect to the reference clock to generate transferred data.例文帳に追加

データ乗り換え部２１は、伝送遅延差が生じている、複数の同期パターン挿入データの１つから、基準クロックを抽出し、基準クロックに対して、全データを乗り換えて、乗り換えデータを生成する。 - 特許庁

Then resist is subjected to an etch-back process on the entire surface under conditions of reducing a gap between adjacent lenses so as to transfer the resist pattern to the base lens material to form a lens array 22A having reduced gaps.例文帳に追加

この後、隣接するレンズの間隔を縮小させる条件で全面エッチバック処理を行い、レジストパターンを下地のレンズ材に転写し、ギャップを縮小したレンズアレイ２２Ａを形成する。 - 特許庁

To prevent the generation of defective products and to transfer mold a highly fine pattern or design efficiently on the outer surface of a molded article by preventing the foil dust of in-mold foil from adhering to a mold.例文帳に追加

インモールド箔の箔塵が金型に付着することを防止することで、不良品の発生を防止し、成形品の外観面に高精細な絵柄やデザインを効率よく転写成形すること。 - 特許庁

The ultraviolet curing type resin coating material on the printing paper is cured by the irradiation with the ultraviolet light from an ultraviolet light irradiation apparatus 4 to carry out the gloss finish or the gloss finish and the transfer of a pattern.例文帳に追加

印刷紙上面の紫外線硬化樹脂塗料は紫外線照射装置４から紫外線の照射を受けて硬化し印刷面に対して艶出し又は艶出しと絵柄の転写が行われる。 - 特許庁

The present invention uses an arrangement of a message transfer agent or a server along with a policy document including data of pattern recognition of semantics which can be composed for identifying a deviated message.例文帳に追加

本発明は、逸脱したメッセージを識別するための構成可能なセマンティクスのパターン認識のデータを含むポリシー文書と共に、メッセージ転送エージェントまたはサーバを適切に配置することを利用する。 - 特許庁

To prevent generation of instability in the sealant pattern width in a narrow-frame display device having overlapped sealed sections and transfer electrode sections, especially at the corners, and improve the display quality and reliability.例文帳に追加

シール部分とトランスファ電極部を重ねて配置した狭額縁タイプ表示装置での、特にコーナー部分におけるシールパターンの幅不安定の発生を防止し、表示品質、信頼性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a security film and a transfer foil, having specific design properties and security properties, including at least a surface-relief type hologram forming layer, and to provide a transparent reflection layer and a pattern layer in a part of the film or the foil.例文帳に追加

その一部に表面レリーフ型ホログラム形成層と透明反射層と絵柄層とを少なくとも具備し、特異な意匠性及びセキュリティ性を有するセキュリティフィルムおよび転写箔の提供。 - 特許庁

To provide a toner pattern forming type image forming device for predetermined processing, capable of suppressing poor cleaning of an intermediate transfer belt while suppressing decrease of image productivity.例文帳に追加

所定処理用トナーパターン形成型画像形成装置であって、画像生産性の低下を抑制しつつ中間転写ベルトのクリーニング不良発生を抑制できる画像形成装置を提供する - 特許庁

A base plate 41 is formed by heating the dies 13, 6 and the molding base material 40 and pressing the molding base material 40 by using the dies 13, 6 to transfer a flow passage pattern on the surface of the molding base material 40.例文帳に追加

型１３、６及び成形素材４０を加熱し、型１３、６を用いてプレスを行って成形素材４０の表面に流路パターンを転写することにより、ベースプレート４１を作製する。 - 特許庁

To provide a micropattern transfer method that reduces an amount of resin applied to a substrate, and furthermore, prevents non-uniformity in thickness on the obtained pattern forming layer.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布する樹脂量が少なく、しかも得られるパターン形成層に厚みむらが生じるのを防止することができる微細構造転写方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for liquid-pressure transferring which can obtain an ornament having a good appearance by realizing liquid-pressure transfer of a pattern to a substrate for decoration having an opening on a front surface as aimed at the substrate.例文帳に追加

表面に開口部を有する装飾用基体に狙い通りに模様を液圧転写できるようにして、見栄えが良好な装飾体を得ることができる液圧転写方法を提供する。 - 特許庁

By using the mask for proximity effect correction, each section of the mask for pattern transfer is subjected to correction exposure, in response to the region of the opening of the section corresponding to the mask for proximity effect correction.例文帳に追加

この近接効果補正用マスクを用いて、パターン転写用マスクの各区画に、近接効果補正用マスクの対応する各区画の開口面積に応じた光量の補正露光を行う。 - 特許庁

A transfer bias condition set when a detection pattern formed on the ETB 1 passes through the processing stations 201 to 204 is controlled based on a result by an atmospheric environment detection means.例文帳に追加

ＥＴＢ１上に形成された検知パターンが、プロセスステーション２０１〜２０４を通過する際の転写バイアス条件を、雰囲気環境検知手段の結果に基づいて制御する様に構成した。 - 特許庁

A stamper 1 is used to transfer a wiring pattern including a groove having a width of 30 μm or less to a resin on at least a front surface of the board 2.例文帳に追加

基板２の少なくとも表面にある樹脂に、溝幅が３０μｍ以下の溝を含む配線パターンを転写させるために用いるスタンパ１であり、前記配線パターンと凹凸が逆のパターンを備えている。 - 特許庁

The imprint method comprises filling an irregular pattern of an imprint mold with a resin before pressing the imprint mold onto a transfer substrate, and performing preliminary curing in the filled state.例文帳に追加

本発明のインプリント法は、インプリントモールドと転写基板を圧着する以前にインプリントモールドの凹凸パターン内に樹脂を充填し、充填した状態で予備硬化を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To avoid a decrease in fidelity in a transfer image on a wafer by correcting a mask pattern considering an influence by an oblique incidence effect for a mask for exposure to light corresponding to extremely short ultraviolet light.例文帳に追加

極短紫外光に対応する露光用マスクについて、斜め入射効果による影響を考慮したマスクパターンの補正を行えるようにして、ウエハ上転写像の忠実度低下を回避する。 - 特許庁

To provide a photomask capable of improving a shift in transfer position due to an abbreviation of a projection lens, an alignment error due to a measurement error resulting from pattern asymmetry, and a decrease in superposition inspection precision.例文帳に追加

投影レンズの収差に起因した転写位置のずれや、パターン非対称による計測誤差に起因したアライメント誤差、及び重ね合わせ検査精度の低下を改善できるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

For an amount of toner which forms an unfixed image of a lateral line pattern of a predetermined width on a paper, the toner amount of the transfer direction downstream side lower than the width center is made smaller than the toner amount of the upstream side.例文帳に追加

紙上の所定の幅の横ラインパターンの未定着画像を形成するトナーの量を幅中心よりも搬送方向した流側のトナー量を上流側のトナー量よりも少なくする。 - 特許庁

To provide a coating apparatus and a mounting device for electronic parts in which application of an adhesive or the like and mounting of electronic parts are performed with good precision and faithfully in accordance with the set-up pattern of a substrate face by correcting dislocation of the fitting position of a nozzle and a transfer nozzle etc.例文帳に追加

ノズルや移送ノズルの取り付け位置のずれ等を補正し、基板面の設定パターンに従い、精度良く忠実に接着剤等の塗布や電子部品の実装を行うこと。 - 特許庁

Various conditions such as a character length, presence/absence of the parity, an odd/even parity and a stop bit length are recognized by a bit pattern of an AT command read from a reception buffer AH by the CPU B, and they are set to a reception control section D with the transfer rate.例文帳に追加

キャラクタ長、パリティ有無や偶奇、ストップビット長の各条件は、CPUBで受信バッファAHから読み出したATコマンドのビットパターンから認識され、転送速度と共に受信制御部Dに設定される。 - 特許庁

A transfer clock synchronizing with servo information is read, a delay time by a delayer 13 is set to 0, in addition, a frequency dividing ratio of a frequency divider 17 is set to 1, and a postscript clock pattern is recorded.例文帳に追加

サーボ情報に同期した転写クロックを読み取り、遅延器１３による遅延時間を０に設定し、加えて分周器１７の分周比を１に設定して、追記クロックパターンを記録する。 - 特許庁

Since a heat source (in this case, a laser light source) required for transferring the organic emission coloring matter pattern layer 82 is not equipped, the transfer base 80 becomes less expensive by that amount since no heat source is equipped.例文帳に追加

有機発光色素パターン層８２を転写させるために必要な熱源（ここではレーザ光源）を備えていないため、熱源を備えていない分だけ転写基板８０のコストが安くなる。 - 特許庁

This mask is provided with a bridge 63 having a width narrower than the resolution of transfer exposure between two non-exposure patterns 61, 61' without opened holes, which are provided adjacent to each other separated by an exposure pattern 62 with open holes.例文帳に追加

本マスクは、孔の開いた露光パターン６２を隔てて隣り合う２つの孔の開いていない非露光パターン６１、６１′間に、転写露光の解像度より細い幅のブリッジ６３が設けられている。 - 特許庁

Each of image detection sensors 17 and 18 has a light-emitting part 19, a specular reflection light-receiving element 20, and a diffuse reflection light receiving element 21, and detects a misregistration correction pattern 24 formed on a transfer belt 5.例文帳に追加

画像検知センサ１７、１８は発光部１９と正反射光受光素子２０と拡散反射光受光素子２１を備え、転写ベルト５上に形成された位置ずれ補正パターン２４を検知する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an embossing roll little in the effect of a joint and having a fine uneven pattern on its surface, and a manufacturing method of a transfer sheet excellent in productivity and economical efficiency using the embossing roll.例文帳に追加

継ぎ目の影響が少なく、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールの製法、及び、このエンボスロールを使用した生産性、経済性に優れた転写シートの製法を提供する。 - 特許庁

A base alignment mark can be directly detected from a face of the color filter material 49 in a shorter distance from a substrate 41 in the transfer and expose of the pattern, so that detection error is reduced and thus image degradation is reduced.例文帳に追加

また、上記パターン転写露光時に下地アライメントマークを基板４１からの距離が近いカラーフィルタ材料４９の面から直接検出でき、検出誤差を小さくして画質劣化を少なくする。 - 特許庁

The original plate for transfer is provided with a projecting section having one or more projections which is formed by supplying a plate forming ink over a linear pattern provided on the substrate surface to be solidified thereon.例文帳に追加

基材表面に設けられている線状パターン上に版形成インクを供給し、固化して形成した１つ以上の突起を有する突起部を備えた転写用原版などにより課題を解決した。 - 特許庁

Thereby, the photosensitive resin can be formed uniformly in a shape regardless of the surface state of the exposure system and the unnecessary pattern transfer depending on the stage of the exposure system can be prevented.例文帳に追加

これにより、露光機の表面状態に関係なく感光性樹脂を均一なある形状に形成することができ、露光機のステージに依存する不必要なパターン転写を防止することが可能となる。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which has superior pattern transfer precision, mechanical characteristics (elasticity recovery rate) of a cured film, and hardness of a cured body, a cured body using the same and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray mask enabling transfer of a high speed and fine pattern, and to provide an X-ray aligner, an X-ray exposure method and a semiconductor device manufactured by the X-ray exposure method.例文帳に追加

高速かつ微細なパタ−ンの転写を可能とするＸ線マスク、Ｘ線露光装置、Ｘ線露光方法、およびこのＸ線露光方法で製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To increase the storage capacity and improve the data transfer speed by aligning an optical system to an optical light storage medium even if no alignment pattern is added signal light.例文帳に追加

信号光中に位置合わせ用パターンを付加しなくても、光学系と光記録媒体の位置合わせをすることができ、記録容量の増加およびデータ転送速度の向上を図ることができるようにする。 - 特許庁

To allow more accurate color shift correction considering an effect of diffused reflection light when detecting a pattern image for color matching formed on an intermediate transfer member by an optical sensor to perform color shift correction.例文帳に追加

中間転写体に形成された色合わせ用パターン画像を光センサで検出して色ずれ補正を行う際に、拡散反射光の影響を考慮した、より高精度な色ずれ補正を可能とする。 - 特許庁

A lustrous pigment 12 is kneaded with a resin base material, the material filled with the pigment 12 is molded to form a molding body 14, and a hydraulic transfer layer 16 of a predetermined pattern is executed thereon.例文帳に追加

樹脂基材に光輝性顔料１２を錬り込み、この光輝性顔料１２入り樹脂基材を成形して成形品本体１４を形成し、その上に所定模様の液圧転写層１６を施す。 - 特許庁

The ink part 13i constituting the pattern P and a holograph part 13h are present in the transfer layer 13 in a mutually adjacent state and the contrast of the characteristics from an aspect of appearance of both parts is amplified.例文帳に追加

図柄Ｐを構成するインキ部分１３ｉとホログラフ部分１３ｈとが転写層１３中に相隣接して存在することにより両部分の外観上の特徴の対比が増幅する。 - 特許庁

To make constitutable a miss-alignment detecting sensor at a low cost provided with a light emitting part and a light receiving part respectively detecting, a miss-alignment detecting pattern respectively formed on both sides of an intermediate transfer body.例文帳に追加

中間転写体の両端側にそれぞれ形成された位置ずれ検出パターンを、それぞれ検出する発光部と受光部を有する位置ずれ検出センサを低コストで構成できるようにする。 - 特許庁

To obtain a satisfactory reproducing signal from a magnetic disk medium used in a magnetic disk device provided with a reproducing head fixed to a part of a rotating arm and having a magnetization pattern formed by magnetic transfer.例文帳に追加

回動するアームの一部に固定された、再生ヘッドを備えた磁気ディスク装置において使用される、磁気転写により磁化パターンが形成される磁気ディスク媒体から良好な再生信号を得る。 - 特許庁

The target substrate is formed so as to store target pattern forming material 101 remaining on the printing roll 100 following transfer of target forming material 101 to the printing substrate 103.例文帳に追加

ターゲット基板は、印刷基板１０３にターゲットパターン形成物質１０１を塗布したことに続き、印刷ロール１００上に残っているターゲットパターン形成物質１０１を収容するようにして形成される。 - 特許庁

A pattern transfer roll 3 is arranged to the upper part of the extrusion orifice of an extrusion mold 1 of a hollow molded plate 2 and an extrusion auxiliary support roll 4 of a molding material is arranged at the lower part thereof.例文帳に追加

中空成形板２の押出成形用金型１の吐出口の上部に柄転写用ロール３を配置するとともに下部に成形材料の押出補助用のサポートロール４を配置する。 - 特許庁