「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure device which can form a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lenticular lens sheet by which the boundary of a light shielding pattern is prevented from getting irregular in a method for forming a light shielding pattern layer in a self-alignment system.例文帳に追加

セルフアライメント方式の遮光パターン層の形成方法において、遮光パターンの境界がムラになるのを防止できるレンチキュラーレンズシートの製造方法等を提供すること。 - 特許庁

To provide a characteristic pattern extraction system which can extract efficiently characteristic pattern fulfilling conditions concerning amount of characteristic that does not fulfill reverse-monotony.例文帳に追加

逆単調性を満たさない特徴量に関する条件を充足する特徴的パターンを効率的に抽出することの可能な特徴的パターン抽出装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition with which a resist pattern excellent in adhesion to a substrate is formed and which is suited for the manufacture of a system LCD (liquid crystal display), and provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

基板に対する密着性の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can form a desired device pattern on a substrate by removing unnecessary liquid, when exposing the substrate by projecting the pattern on the substrate via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a furnace for making a resin-made pattern into a lost-foam pattern as a pure state, even in the case of being a complicated shape or even in the case a projected part or a thin sheet part etc., exists, and a casting system using this furnace.例文帳に追加

複雑な形状であろうと、突起部や薄板部等があろうと、無垢なまま樹脂製模型を消失模型にする炉およびそれを用いた鋳造システムにする。 - 特許庁

To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp system capable of suppressing formation of a dark part in the light distribution pattern even in the case one light distribution pattern is formed by aligning a plurality of irradiation regions.例文帳に追加

照射領域を複数並べて一つの配光パターンを形成する場合でも配光パターン上の暗部の形成を抑制できるような車両用前照灯システムを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of forming a desired device pattern on a substrate, by removing unnecessary liquid during pattern projection and exposure on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

This sound model standard pattern generating device can generate a proper sound standard pattern as to an SPS symbol system even when the data whose speech waveform is labeled with an SPS series are not available.例文帳に追加

この音響モデル標準パターン作成装置により、音声波形にSPS系列がラベル付けされたデータがなくても、SPS記号系について適切な音響標準パターンが作成可能となる。 - 特許庁

To accurately detect a focus, to highly accurately measure and inspect even when the line width of a pattern on a semiconductor and the pitch of the pattern become equal to or below the wavelength of an optical system.例文帳に追加

半導体のパターンの線幅、ピッチが光学系の波長以下になった場合であっても、正しいフォーカス検出を行い、高精度の計測及び検査技術を行うこと。 - 特許庁

To shorten a down time generated when performing control preventing back copying of a test pattern occurring in a system reading a positioning test pattern on an intermediate transfer body.例文帳に追加

位置合わせ用等のテストパターンを中間転写体上で読取る方式において起きるテストパターンの裏写りを防止する制御を行う際に生じるダウンタイムを短縮化する。 - 特許庁

In order to match an inputted observation pattern and a standard pattern in a database, a system for judging similarity through the used of an exponential function having the difference between the waveforms of both patterns as a vehicle is used.例文帳に追加

入力された観測パターンとデータベースにある標準パターンとのマッチングに、両パターンの波形間の差を変数とした指数関数を用いて類似度を判断する方式を使用する。 - 特許庁

Then the 2nd pattern data are sent from the CAD system to an electron beam drawing device and a specific area of resist applied onto the reticle is irradiated with an electron beam according to the 2nd pattern data.例文帳に追加

次に、その第二パターンデータをＣＡＤシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に照射する。 - 特許庁

A first antenna pattern 11 and a second antenna pattern 12 of a balanced antenna are formed to board faces 3, 4 of a circuit board 2 made of a dielectric material in the planar antenna system 1.例文帳に追加

平面アンテナ装置１は、誘電体からなる回路基板２の基板面３、４に平衡型アンテナの第１アンテナパターン１１および第２アンテナパターン１２が形成されている。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can remove unnecessary liquid when exposing a substrate by projecting a pattern onto a substrate through a projection optical system and liquid, and to form a desired device pattern on the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

As a result, an image different between the direction of the pattern caused by the streak-like flaw formed on the glass substrate W and the direction of the streak-like pattern caused by the optical system is obtained.例文帳に追加

その結果、ガラス基板Ｗ上に発生するスジ状の欠陥に起因する模様の方向と、光学系に起因するスジ状の模様の方向とが異なる画像が得られる。 - 特許庁

To provide a pattern forming device or the like of an ink jet system realizing the simplification of an adjusting mechanism and a control mechanism and the accurate and efficient formation of a pattern.例文帳に追加

調整機構及び制御機構を簡素化すると共にパターン形成を高精度かつ効率的に行うことを可能とするインクジェット方式のパターン形成装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern recognition system and a pattern recognition method for achieving the recognition of an object in an upper category and a specific object in a lower category by a simple configuration.例文帳に追加

上位カテゴリにおける物体の認識と下位カテゴリにおける特定物体の認識を、簡易な構成で実現することができるパターン認識システム及びパターン認識方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern information producing system capable of producing pattern information to reduce the labor for the correction in the case of processing cloth, etc., and provide a program and an information storage medium therefor.例文帳に追加

布地等を加工する際の補正処理の手間を軽減することが可能なパターン情報を生成するパターン情報生成システム、プログラムおよび情報記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a code pattern recording medium and a code pattern reading system that make it possible stable reading of optically readable codes recorded rewritably on the surface of a recording medium.例文帳に追加

記録媒体の表面に書換え可能に記録される光学読取りコードに対し、安定的に読取り可能となるようなコードパターン記録媒体、およびコードパターン読取りシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an identification processing system capable of easily identifying a variety of application forms by turning a part of a dot pattern printed on the application form or the like to an unique dot pattern.例文帳に追加

申込書等に印刷されるドットパターンのうち、一部を一意なドットパターンとすることにより、容易に各種申込書を識別することができる識別処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for verifying pattern layouts, which can extract exactly all working parasite P-channel MOS transistors that become the causes of channel leak nonconformities from the pattern layouts.例文帳に追加

チャネルリーク不具合の原因となる動作する寄生ＰチャネルＭＯＳトランジスタトランジスタを漏れなく的確に抽出できるパターンレイアウト検証装置および検証方法を得る。 - 特許庁

The 2nd CD yarns are interwoven with the MD yarns along one of the two widthwise edges of the fabric between the system of 1st CD yarns and the seaming loops in a 2nd weave pattern which may be different from the 1st weave pattern.例文帳に追加

第二ＣＤ糸は、第一ＣＤ糸システムと第一織パターンと異なってもよい第二織パターンの継合ループ間の布の両横端の一方に沿いＭＤ糸と織合わさる。 - 特許庁

To provide a pattern display system for a game machine capable of reliably reporting whether the game machine is set to a normal game state or a specific game state to a player with a pattern display device.例文帳に追加

遊技機が通常遊技状態か特定遊技状態かを、図柄表示装置を使用して遊技者に確実に報知可能な遊技機用図柄表示方式を提供すること。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate by removing an unnecessary liquid when projecting and exposing a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

A service transfer test system 1 stores information related to a transfer pattern of the service transfer into a transfer pattern storage 11, and also stores a medium for the above service transfer into a medium storage 12.例文帳に追加

サービス移動試験システム１は、サービス移動の移動パターンに関する情報を移動パターン蓄積部１１に蓄積すると共に、上記サービス移動のメディアをメディア格納部１２に格納する。 - 特許庁

To achieve stable working and realize reduction of working irregularity on a manufacturing process by ensuring area ratio and peripheral length of a dummy pattern of a wiring system and arranging a dummy pattern of a contact hole.例文帳に追加

配線系のダミーパターンの面積率や周辺長を確保し、また、コンタクトホールのダミーパターンを設け、製造プロセス上での安定加工の達成と加工ばらつきの低減を実現する。 - 特許庁

To provide a system for evaluating the hole pattern shape especially suitable for matching the center of a displayed region of a sample image correctly with the center of a hole pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。 - 特許庁

In a lithographic operation, generally various adjustment/ correction operations are performed for the EB lithographic system 5, and then the EB lithographic data (pattern) stored in the pattern memory 8 are drawn.例文帳に追加

描画に際しては、一般的には、ＥＢ描画装置５の各種の調整・較正作業を実施した後に、パターンメモリ８に格納されているＥＢ描画データ（パターン）を描画する。 - 特許庁

To provide a method and system for electron beam lithography, by which a photomask can be fabricated with the same accuracy as that of the conventional methods by preventing an increase the writing time of a pattern with an OPC pattern.例文帳に追加

ＯＰＣ付パタンでの描画時間の増加を防ぎ、従来の方法と同等な精度でフォトマスクを作製可能な電子ビーム描画方法および描画装置を実現する。 - 特許庁

The invention also includes a method for determining a failure pattern of a sensor, and a method for incorporating into an electrochemical sensor system, the ability to recognize the failure pattern and initiate remedial action.例文帳に追加

本発明はまた、センサーの不良パターンを決定するための方法、および不良パターンを認識し、そして補修動作を開始する能力を電気化学センサーシステムに組み込む方法を含む。 - 特許庁

To provide a wireless communications system where a service provider measures the radiation pattern of a base station antenna and automatically re-adjusts the radiation pattern by taking non-uniformity of an RF characteristic into account.例文帳に追加

ワイヤレス通信システムのサービスプロバイダが、ＲＦ特性の不均一性を考慮に入れて、基地局アンテナの放射パターンを測定し自動的に再調整することを可能にする。 - 特許庁

The second optical system 40 includes an optical unit 42 to form a cut-off line for the low-beam pattern, and optical units 44, 46, 48 to form a horizontal pattern for the same.例文帳に追加

第２の光学系４０を構成する光学ユニット４２にはすれ違いビームパターンのカットオフラインを形成し、光学ユニット４４，４６，４８はすれ違いビームパターンの水平パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a charged particle system capable of comparing easily an actual pattern with an ideal pattern by utilizing CAD data not only two-dimensionally but also three-dimensionally.例文帳に追加

ＣＡＤデータを２次元的にだけでなく、３次元的にも利用して実際のパターンと理想パターンとの比較を容易にすることのできる荷電粒子システムを提供するものである。 - 特許庁

To provide fingerprint image collating method and device which do not need the definition of a unique coordinate system to a fingerprint pattern and a fingertip fixing guide, correspond to the entire fingerprint pattern and are rich with convenience and simple.例文帳に追加

指紋紋様への一意な座標系の定義や指先固定ガイドを不要とし、指紋紋様全てに対応し、利便性に富む簡易な指紋画像照合方法、装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a navigation system that enables to change the shape and color of a pattern, or a the character sequence, as to a display item such as the desired pattern and character sequence selected by a user to be displayed.例文帳に追加

ユーザーが選択して表示される所望の図形や文字列などの表示項目に関して、図形の形や色又は文字列の変更を可能とするナビゲーションシステムを得る。 - 特許庁

In a communication system 100 based on an OSI reference model, a pattern-body generating circuit 122 for a communication device 120 generates and outputs the main body of a jitter-test pattern for the jitter test.例文帳に追加

ＯＳＩ参照モデルに基づく通信システム１００において、送信装置１２０のパターン本体生成回路１２２は、ジッタテスト用のジッタテストパターンの本体を生成して出力する。 - 特許庁

To provide an exposure device that forms a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

A memory controller 7 is arranged between a system bus 5 and the image memory 3, and an addressing pattern corresponding to filter processing is preliminarily registered in a pattern register part 21 in the memory controller 7.例文帳に追加

システムバス５と画像メモリ３の間にメモリコントローラ７を配置し、メモリコントローラ７内のパターン登録部２１にあらかじめフィルタ処理に応じたアドレシングのパターンを登録しておく。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate and exposing the substrate by removing an unnecessary liquid when projecting a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

And a second measurement system 52 (52X, 52Y), which has a measurement visual field that is narrower than that of the first measurement system 51, is used to observe the pattern RAM by a measurement magnification that is higher than that of the first measurement system 51.例文帳に追加

また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。 - 特許庁

A magnifying optical system comprising an objective optical system 22, a mirror 24, and an imaging optical system 26 focuses a magnified image of a pattern formed on a base plate 40 on a solid imaging element 30.例文帳に追加

対物光学系２２、ミラー２４および撮像光学系２６で構成される拡大光学系により、基板４０上に形成されるパターンの拡大像が固体撮像素子３０上に結像される。 - 特許庁

A mask alignment mark of a reflector mask is formed on the opposite side from a circuit pattern-formed side of the mask, and an alignment detection system is installed on the opposite side of the illumination optical system and the projection optical system with respect to the mask.例文帳に追加

反射型マスクのマスクアライメントマークを回路パターン面の反対面側に形成し、アライメント検出系をマスクに対して照明光学系、投影光学系の反対側に設置する。 - 特許庁

A pattern generating portion 120 generates a digital signal that includes a data signal modulated by a carrier modulation system and a pilot signal modulated by a pilot modulation system different from the carrier modulation system.例文帳に追加

パターン生成部１２０は、キャリア変調方式で変調されたデータ信号と、キャリア変調方式と異なるパイロット変調方式で変調されたパイロット信号を含むデジタル信号を生成する。 - 特許庁