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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern-systemの意味・解説 > pattern-systemに関連した英語例文

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pattern-systemの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3674



例文

PRINTING BLOCK PATTERN FOR INK DISCHARGE STATE JUDGMENT, INK DISCHARGE STATE JUDGING SYSTEM, PRINTING APPARATUS, AND INK DISCHARGE STATE JUDGMENT METHOD例文帳に追加

インク吐出状態判定用印刷ブロックパターン、インク吐出状態判定システム、印刷装置及びインク吐出状態判定方法 - 特許庁

To make errors in the exposure of a substrate small, when the pattern of a mask is transferred to the substrate by a scanning exposure system.例文帳に追加

走査露光方式でマスクのパターンを基板上に転写する場合に、その基板に対する露光量の誤差を小さくする。 - 特許庁

A mask pattern to be transferred onto a substrate through the projection optical system of a projection exposure apparatus is provided on an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク上には、投影露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられている。 - 特許庁

In one encoding system, a resource allocation bit pattern is transmitted to all users together with a resource ID for each user.例文帳に追加

一のエンコード方式においては、リソース割当ビットパターンは、各ユーザに対するリソースIDとともに、すべてのユーザに伝送される。 - 特許庁

例文

To provide a pattern feature generating system for simultaneously achieving the maximization of an inter-class distribution and the minimization of the in-class distribution.例文帳に追加

クラス間分散の最大化とクラス内分散の最小化を同時に実現するパターン特徴生成システムを提供する。 - 特許庁


例文

To improve a positioning accuracy by suppressing a vibration in a projection optical system and to contribute to the improvement in a pattern projecting accuracy.例文帳に追加

投影光学系に発生する振動を抑制して位置決め精度の向上、およびパターン投影精度の向上に寄与する。 - 特許庁

This enables to form a small light distribution pattern P1b extended along the horizontal cutoff line CL1 in a simple optical system.例文帳に追加

これにより、簡単な光学系で、水平カットオフラインCL1に沿って延びる小配光パターンP1bを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a thin film pattern forming system securing high reflexivity, high adhesiveness and thermal stability of a reflective film.例文帳に追加

本発明は、反射膜の高反射性、高接着性及び熱安定性を確保可能な薄膜パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint system which transfers a pattern with high shape precision onto a substrate by optimizing the application amount of an imprint material.例文帳に追加

インプリント材の塗布量を最適化し、基板上に転写されるパターンの形状精度が高いインプリントシステムを提供する。 - 特許庁

例文

Based on the current system pattern, a control knowledge selection means 260 retrieves the knowledge base 220, and acquires control knowledge.例文帳に追加

制御知識選択手段260は、該現在の系統パターンを基に、知識ベース220を検索して制御知識を取得する。 - 特許庁

例文

The charged-particle beam lithography apparatus images a pattern on a substrate with the projected charged-particle beam through a projection system.例文帳に追加

本発明は、荷電粒子線を用いて投影系を介して基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置である。 - 特許庁

This system uses a prize having attributes such as a shape, a color, a pattern, and the type of accessories selectable according to taste of an applicant.例文帳に追加

形状、色、柄、アクセサリの種類といった属性を申込者の好みに応じて選択(カスタマイズ)可能な景品を用いる。 - 特許庁

LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION SYSTEM, LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTING METHOD, AND LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION PROGRAM例文帳に追加

光強度分布シミュレーションシステム、光強度分布シミュレーション方法、マスクパターン補正方法、及び光強度分布シミュレーションプログラム - 特許庁

At least one spectral energy conditioning pattern can be applied to a conditioning reaction system.例文帳に追加

本発明の第2の側面では、少なくとも1つのスペクトラムエネルギーコンディショニングパターンをコンディショニングする反応系に適用することができる。 - 特許庁

MOVING BODY DRIVING METHOD AND MOVING BODY DRIVING SYSTEM, PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE AND DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光及び装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The pattern images of a mask are formed by projection aligning on a photosensitive substrate by using a projection optical system having plural projection optical modules.例文帳に追加

複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVO-CONVEX PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

The system identifies the lost pulses by using a pattern recognition technology on the signature of the motor control pulse rate.例文帳に追加

本発明はモータ制御パルスレートのシグネーチャに対するパターン認識技術を使用することにより、見失ったパルスを識別する。 - 特許庁

To provide technology provided with a method and a system for inspecting a defect in a circuit pattern on semiconductor materials.例文帳に追加

本発明は、半導体材料上の回路パターン中の欠陥を検査する、方法とシステムとを含む技術を提供する。 - 特許庁

To use copper powder as the filler of electrically conductive ink suitable for forming a hyperfine wiring pattern in an ink jet system.例文帳に追加

インクジェット方式で超微細配線パターンを形成するのに好適な導電インクのフイラーとして,銅粉を使用できるようにする。 - 特許庁

Here, when performing exposure with the photomask 2 for forming a finer pattern, double pole illumination is used as an illumination system.例文帳に追加

ここで、より微細なパターンを形成するためのフォトマスク2で露光する際に、2重極照明を照明系として用いる。 - 特許庁

A whiteboard data generating apparatus 14 outputs image data denoting a pattern drawn on the whiteboard to a conference system terminal 3_1.例文帳に追加

ホワイトボードデータ生成装置14が、ホワイトボードに描かれたパターンを示すイメージデータを会議システム端末装置3_1に出力する。 - 特許庁

Thereafter, the emitter contact layer 7 and the emitter layer 6 are removed sequentially by ICP system dry etching using the resist pattern 9 as a mask.例文帳に追加

その後、レジストパターン9をマスクとして、ICP方式ドライエッチングにより、エミッタコンタクト層7とエミッタ層6とを順次除去する。 - 特許庁

The computer system outputs the operation conformation sound pattern which the user selected only when the user correctly inputs the password.例文帳に追加

ユーザからパスワードが正しく入力される場合のみ、コンピュータシステムは、ユーザが選んだ操作確認音のパターンを出力する。 - 特許庁

To provide an image processing system in which unevenness correction processing can be performed with a predetermined color as an object without using a test pattern.例文帳に追加

テストパターンを使わずに、所定の色を対象としてむら補正処理を行うことができる画像処理システムを提供する。 - 特許庁

The system further comprises an interferometer configured to generate an interference pattern between the local pulse and the remote pulse.例文帳に追加

システムは、さらに、ローカルパルスと上記遠隔パルスとの間に干渉パターンを生成するように構成された干渉計を含む。 - 特許庁

To provide a system and a method of performing micro-deposition of small droplets of fluid material for forming a characteristic pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上に特徴パターンを形成するた流体材料の小滴をマイクロデポジションするシステムおよび方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for vein pattern image correction that can implement a high authentication accuracy and contactless vein authentication system.例文帳に追加

認証精度が高く、非接触型の静脈認証システムを可能にする、静脈パターンの画像補正方法を提供する。 - 特許庁

In a second aspect, at lest one spectral energy conditioning pattern can be applied to a conditioning crystallization reaction system.例文帳に追加

第二の様態では、少なくとも1つのスペクトル・エネルギー・コンディショニング・パタンをコンディショニング結晶化反応系に印加することができる。 - 特許庁

To provide a plasma damage evaluating pattern and wafer by an STI system which can stably be supplied in the future at a low cost.例文帳に追加

低コスト化で将来に亘る安定供給が可能なSTI方式によるプラズマダメージ評価パターン及びウェハを提供する。 - 特許庁

Non uniformities in one or both of a field and pupil of an illumination system can also be measured and used to alter the pattern data.例文帳に追加

照明系の視野及び瞳の一方または双方での不均一性も測定されてパターンデータの変更に使用されてもよい。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method for providing high drawing qualities while preventing fluctuation in air on the optical path of an optical system in a light irradiation part.例文帳に追加

光照射部において光学系の光路上に空気の揺らぎが発生することを防止し、高い描画品質を得ることができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

Further, another embodiment is possible in which a test pattern is formed on an intermediate transcript in a transfer system; the test pattern is read; and the speed variation data of the intermediate transcript is determined from the reading result for storing.例文帳に追加

また、転写方式において中間転写体にテストパターンを形成し、該テストパターンを読み取り、その読取結果から中間転写体の速度変動データを求め、記憶しておく態様も可能である。 - 特許庁

The stopping step stops data processing of this database control system 1 on the basis of the SQL determined that the sending-out pattern is different from the sending-out pattern of the registered SQL in the SQL determining step.例文帳に追加

停止ステップでは、SQL判定ステップにおいて、登録されたSQLの送出パターンと、送出パターンが相違すると判定されたSQLに基づくデータベース管理システム1のデータ処理を停止する。 - 特許庁

A first measurement system 51 is used to observe a pattern RAM formed on a mask R, and correspondingly stores the position information of the pattern RAM with identification information for identifying the mask R.例文帳に追加

第1計測系51を用いて、マスクR上に形成されたパターンRAMを観察し、パターンRAMの位置情報をマスクRを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity from occurring on line width of a pattern line by irregularity of thickness of a conductor formed on a substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

基板上に形成する導体の厚さのばらつきによりパターン線の線幅にばらつきが生じるのを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method for processing voice recognizing pattern matching without increasing the capacity and processing amount of a memory for storing cumulative distances, and also to provide a voice recognition system, and a program.例文帳に追加

累積距離を格納するメモリの容量・処理量を増大させることなく音声認識のパターンマッチング処理を可能とするパターンマッチング方法及び音声認識システム並びにプログラムの提供。 - 特許庁

To provide the inspection system of an electronic device for inspecting the presence of a connection failure of a circuit pattern such as a semiconductor package, by measuring the return loss of the circuit pattern by an incidence signal from a resonator.例文帳に追加

共振器からの入射信号による回路パターンのリターンロスを測定して、半導体パッケージなどの回路パターンの接続不良有無を検査する電子デバイスの検査装置を提供する。 - 特許庁

A mask pattern formed in a photo mask is processed in a simulation of measuring the depth of focus of a pattern imprinted to a sensitization material by varying coma aberration and spherical aberration of a projection system of an exposing device.例文帳に追加

フォトマスクに形成されたマスクパターンについて、露光装置の投影系のコマ収差と球面収差とを変化させて、感光材に転写されたパターンの焦点深度を測定するシミュレーション行う。 - 特許庁

The main control part switches a change object pattern with a switching system, and if the type information is data for expectation value change, changes the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.例文帳に追加

主制御部は切り替え方式で変更対象パターンを切り替え、種別情報が期待値変更用データの場合、該変更対象パターンが示す検査値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁

This driving support system for a vehicle includes a detection device 101, a driving pattern information generation part 102, a driving pattern arrangement part 103, a driving skill information generation part 104, and a support part 105.例文帳に追加

車両用運転支援システムは、検出装置101、運転パターン情報生成部102、運転パターン配置部103、運転技量情報生成部104および支援部105を備えている。 - 特許庁

Based on the graphic information of characters, pictures or the like input from an input section 15, a system controller 14 forms a graphic writing pattern and specifies a sector in which the graphic writing pattern is formed.例文帳に追加

入力部15より入力された文字や絵等の図形情報からシステムコントローラ14は図形書き込みパターンを形成するとともに図形書き込みパターンが形成されるセクタを特定する。 - 特許庁

A mask 3 is irradiated by an illuminating optical system, and electron rays passing through the pattern are image-formed on a wafer by lens 1 and 2, and a pattern on the mask 3 is reduced and transferred on the wafer 4.例文帳に追加

照明光学系によりマスク3が照射され、その上のパターンを通過した電子線が2つのレンズ1、2により、ウェハ上に結像され、マスク3上のパターンをウェハ4上に縮小転写する。 - 特許庁

The system 1 for inspecting the pattern of a semiconductor substrate 9 comprises an optical head section 11 for acquiring the two-dimensional image of the pattern of the semiconductor substrate 9, and a computer 13 performing processing.例文帳に追加

半導体の基板9のパターンを検査する検査装置1において、基板9のパターンの2次元画像を取得する光学ヘッド部11、および、演算処理を行うコンピュータ13を設ける。 - 特許庁

The mask writing system comprises a data processing function part for generating pattern data by taking in the data described by those functions, and a writing function part for writing on the mask in accordance with the pattern data.例文帳に追加

そのような関数で記述されたデータを取り込んでパターンデータを生成するデータ処理機能部と、パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有するマスク描画装置。 - 特許庁

To provide a forgery preventing medium, with which the authenticity of random pattern forming materials can be discriminated simultaneously with random pattern reading and to provide a method and system for discriminating its authenticity.例文帳に追加

ランダムパターン形成材料の材料の真偽判定を、ランダムパターン読み取りと同時に行うことが可能である偽造防止媒体およびその真偽判定方法、並びに真偽判定システムを提供する。 - 特許庁

The antenna system disclosed herein also forms magnetic field polarization existing only on a plane of the ferrite core on which a conductor pattern is printed by directly printing the conductor pattern onto the ferrite core.例文帳に追加

また、この発明に係るアンテナ装置では、フェライトコアに直接導体パターンをプリントすることにより、当該導体パターンがプリントされたフェライトコアの平面のみの磁界偏波を形成することもできる。 - 特許庁

To conquer the limit of time shortening in servo pattern recording by a head recording system and to conquer the limit of recording density in servo pattern recording by transfer recording technology or pre-embossed technology at the same time.例文帳に追加

ヘッド記録方式によるサーボパターン記録での時間短縮の限界を克服すると同時に、転写記録技術やプリエンボスト技術によるサーボパターン記録での記録密度の限界を克服する。 - 特許庁

A reticle pattern RP is projected on a sensor pattern SP through a projection optical system 1 by illumination light IL from an optical source 2 to form a projection image.例文帳に追加

光源2からの照明光ILによってレチクルパターンRPが投影光学系1を介してセンサパターンSP上に投影された投影像の光量を、照明条件毎の焦点位置を計測する。 - 特許庁

例文

Then, the shape or the outline of the front wheel in the image is collated with a pattern of the front wheel previously stored in a system (S4) and a steering angle is calculated based on the pattern collation result (S5).例文帳に追加

そして、画像中の前輪の形状或いは輪郭と予めシステム内に記憶されている前輪のパターンとを照合し(S4)、パターン照合結果に基づいて操舵角を算出する(S5)。 - 特許庁




  
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