「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereafter, an SF_6/He gas system is used to remove a TiN protective film 204 to expose a part of an Al wiring pad pattern 203.例文帳に追加

その後、ＳＦ_６／Ｈｅのガス系を利用し、ＴｉＮ保護膜２０４を除去し、Ａｌ配線パッドパターン２０３の部分を露出させる。 - 特許庁

To provide a system and a method for automatic retrieval and extraction of patterns similar to a predetermined pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、所定のパターンと類似のパターンの自動的な検索と取り出しのためのシステムと方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an improved system for patterning of a lapping surface capable of efficiently forming a pattern on the lapping surface with no turbulence.例文帳に追加

ラップ仕上面に乱れの無いパターンを効率的に形成することができる、改善されたラップ仕上面のパターン付けシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle travel control system and a vehicle travel control method by which accuracy for reproducing a travel pattern of a vehicle is raised.例文帳に追加

車両の走行パターンを再現する精度が向上する車両走行制御システム、車両走行制御方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a system and a program for automatic pattern matching to offer high-quality patterned products at low cost through automating cutting operation along with avoiding unnecessarily using patterned fabric.例文帳に追加

柄物生地の無駄な使用を避けると共に、裁断の自動化を図り、低コストで高品質な柄物製品を提供する。 - 特許庁

A train traveling presumption part 12 prepares a traveling pattern of the train based on the operation schedule and record of an operation management system 40.例文帳に追加

列車走行推定部１２は運行管理システム４０の運行計画及び実績を基に列車の走行パターンを作成する。 - 特許庁

The exposure system EX fills a space between the projection lens system PL and the substrate P up with the liquid 50, and the substrate P is exposed by the projection lens system PL, by projecting an image of the pattern on the substrate P via the liquid 50.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。 - 特許庁

To provide a wireless base station capable of enhancing the accuracy of directive pattern formation in the case of communication between a terminal station employing the individual UW (Unique Word) system and a terminal station employing the common UW system by using the space multiplex system.例文帳に追加

本発明は、個別ＵＷ方式の端末局と共通ＵＷ方式の端末局と空間多重方式を用いて通信する場合の指向性パターンの形成精度を向上する無線基地局を提供する。 - 特許庁

The equipment comprises a pattern forming array 104, a first irradiating system 124 giving a first beam with respect to the array 104, a second irradiating system 360 giving a second beam from different direction, a projecting system 108, and a detector 342.例文帳に追加

パターン形成アレー１０４と、そのアレー１０４に対して第一ビームを与える第一照射系１２４と、異なる方向から第二ビームを与える第二照射系３６０と、投影系１０８と、検出器３４２とを含む。 - 特許庁

To provide an optimization method of a cogeneration system and a facility proposing system for easily selecting equipment to constitute the system and an operation pattern of the equipment, and easily corresponding even to an equipment change.例文帳に追加

システムを構成する機器およびその機器の運転パターンを容易に選択することができ，設備変更に対しても容易に対応することができるコジェネレーションシステムの最適化方法および設備提案システムを提供すること。 - 特許庁

In this charged particle beam exposure system, a reticle 1 on which a pattern is formed is illuminated with a charged particle beam, the charged partical beam which passes the reticle and is patterned is made to form an image on a sensitive substrate, and a pattern is transferred.例文帳に追加

本荷電粒子ビーム露光装置は、パターンを形成したレチクル１を荷電ビームで照明し、レチクルを通過してパターン化された荷電ビームを感応基板上に結像させてパターンを転写する装置である。 - 特許庁

The intermediate part switches the change object pattern with the switching system, and if the data type shows the data for expectation value change, changes the expectation value which corresponds to the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.例文帳に追加

中間部は変更対象パターンを切り替え方式で切り替え、データ種別が期待値変更用データを示す場合、変更対象パターンが示す検査値と一致する期待値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁

To provide an imaging system for always providing optimum quality of a finger vein pattern, in imaging of the finger vein pattern by using transmitted light, even if there is difference in external environment, without being affected by the difference.例文帳に追加

透過光による指静脈パターンの撮像において、外部環境の違いがあっても、それに影響されることなく、常に最適な静脈パターンの品質が得られる撮像方式を提供することにある。 - 特許庁

To provide a frame pattern detection circuit which can detect a frame pattern even in a system to which a synchronizing signal is inputted only once and with circuit scale of which can be reduced, even if the number of parallel developments becomes large.例文帳に追加

同期信号が１回しか入力されないシステムにおいてもフレームパタン検出が行え、パラレル展開数が多くなった場合でも回路規模を小さくすることが可能なフレームパタン検出回路を提供する。 - 特許庁

To provide a display pattern re-fluctuation system for a game machine arousing the interest of a player by improving the monotonousness of the re- fluctuation action of the game machine having the re-fluctuation function of the display patterns of a pattern display device.例文帳に追加

図柄表示装置の表示図柄の再変動機能を有する遊技機の再変動動作の単調さを改善し、遊技者の関心を惹きつける遊技機の表示図柄再変動方式を提供すること。 - 特許庁

To provide a distribution system for cloth for kimono having a pattern, distributing the cloth for the kimono made into the kimono having the pattern without a consumption-based commercial transaction to facilitate stock management.例文帳に追加

模様物の和服に仕立てられる和服用反物を、消費仕入れ方式の商取引によらないで流通させ、在庫管理を容易に行えるようにした模様物の和服用反物の流通システムの提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming device of a intermediate transfer body system using a droplet discharging unit which enables no transfer of a needless liquid acceptable particle layer from an intermediate transfer body to a transfer target.例文帳に追加

液滴吐出装置を用いた中間体転写方式のパターン形成方法及びパターン形成装置において、不必要な液体受容性粒子層を中間転写体から被転写体に転写させない。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer inspecting system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in the semiconductor wafer and the distribution pattern in a defective semiconductor chip in a short time, and to provide an inspecting method.例文帳に追加

半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を高精度且つ短時間に行うことが可能な半導体ウエハの検査システムと検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an embroidery sewing system capable of easily doing embroidery in a processed fabric to be sewen with a desired pattern without necessity to allow the user of a sewing device to edit a complicated pattern and to set an embroidery condition.例文帳に追加

縫製装置のユーザが煩雑な模様の編集や刺繍条件の設定を行う必要がなく、容易に所望の模様を縫製対象である加工布に刺繍することができる刺繍縫製システムを提供する。 - 特許庁

Therefore, a deterioration of pattern fidelity in the transferred image of a pattern formed on a photosensitive object W can be made negligibly small, so that the exposure system can be improved in resolution.例文帳に追加

従って、感光物体Ｗ上に形成されるパターンの転写像におけるパターン忠実度の劣化を無視できる程度に抑えることが可能となり、露光装置の解像度の向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

The system comprises a filter memory 30 for a browser 80, which memorizes a filter for representing data to modify specifications for executing the program included in the contents and a pattern, and a filter pattern comparator 31, which checks whether or not the program to be executed matches with a condition described in the data.例文帳に追加

ブラウザ８０のフィルタ記憶部３０は、コンテンツに含まれるプログラムにおける記述パターンおよびプログラムに対する実行内容の変更指定を表現した情報であるフィルタを記憶する。 - 特許庁

To provide a game machine and a game system renewing a rendition pattern on an occasion when the game information of a game stepwisely renewing the rendition pattern is stored in an external portable terminal.例文帳に追加

段階的に演出パターンが更新される遊技において、その遊技情報を外部の携帯端末に記憶させることを契機として演出パターンが更新される遊技機及び遊技システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method, a program and an apparatus for pattern detection, and an imaging apparatus, capable of securely detecting a specific pattern from an image imaged by an optical system.例文帳に追加

本発明は、光学系で撮影した画像から特定パターンをより確実に検出することのできるパターン検出方法、パターン検出プログラム、パターン検出装置、及び撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

For example, the pseudo medium tone processing system providing the largest number of screen lines is selected among those used for generating a screen pattern image whose density is within a prescribed permissible density range among a plurality of the screen pattern images.例文帳に追加

例えば，複数のスクリーンパターン像のうち，その濃度がそれぞれ所定の許容濃度範囲内にあるものの生成に用いられた擬似中間調処理方式の中で最もスクリーン線数の大きいものを選択する。 - 特許庁

To obtain a wiring pattern preparation system for identifying connection points of a component pin with a name that can be intuitively grasped and also facilitating a preparation operation at the time of preparing a wiring pattern based on component arrangement data.例文帳に追加

部品配置データに基づく配線パターンを作成するに際し、部品ピン等の結線ポイントを直感的に把握できる名前で識別するとともに、作成操作を容易にした配線パターン作成システムを得ること。 - 特許庁

To contribute to the improvement of semiconductor product quality by obtaining a pattern of high dimensional uniformity for an arbitrary pattern, without being affected by an aberration distribution which originates from an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に起因する収差分布の影響を受けることなく、任意のパターンに対して寸法均一性の高いパターンを得ることを可能とし、半導体製品の品質向上に寄与することを目的とする。 - 特許庁

To provide an imaging system for always providing an optimum quality of a vein pattern, in imaging a vein pattern of a finger using transmitted light, without being affected by a difference, if any, in an external environment.例文帳に追加

透過光による指静脈パターンの撮像において、外部環境の違いがあっても、それに影響されることなく、常に最適な静脈パターンの品質が得られる撮像方式を提供することにある。 - 特許庁

The drive assist system sets a kinetic model of a vehicle, a rule for a passing point of the vehicle at a corner, and a rule for how to use a friction circle representing a time-series change pattern of a vehicle acceleration (acceleration change pattern).例文帳に追加

走行支援装置は、車両の運動モデルと、コーナーにおける車両の通過点のルールと、車両の加速度の時系列的な変化パターン（加速度変化パターン）を表す摩擦円の使い方のルールとを設定する。 - 特許庁

To provide a device which vividly illuminates and displays drawings disposed in close contact with a rear surface of a light guide plate, freely selectively without a striped pattern, a narrow line pattern, or the like by a light source on a side face in a front light system.例文帳に追加

フロントライト方式で、側面の光源からその導光板でこの背面に密着配設された図画を選択自由に縞模様、細線模様等なしで鮮明に照明表示する装置を提供する。 - 特許庁

SYSTEM FOR STORAGE OF PATTERN OCCURRING IN SITUATION REPRESENTATIONS FOR CONTEXT REPRESENTATION IN APPLICATION, AND METHOD FOR STORAGE OF PATTERN OCCURRING IN SITUATION REPRESENTATIONS FOR CONTEXT REPRESENTATION IN APPLICATION例文帳に追加

アプリケーション内でのコンテキスト表現のために、状況表現の中で発生しているパターンを記憶するシステム、およびアプリケーション内でのコンテキスト表現のために、状況表現の中で発生しているパターンを記憶する方法 - 特許庁

The authentication system detects the selection pattern corresponding to the character symbol string, and judges that it is a proper user when detecting the selection pattern related to a user ID among the plurality of detected selection patterns.例文帳に追加

認証システムは、文字記号列に対応する選択パターンを検出し、検出された複数の選択パターンのうち、ユーザIDに関連づけられている選択パターンを検出した場合に、正当なユーザであると判定する。 - 特許庁

The line width of the image of the line pattern 41 is measured at a plurality of positions in the lengthwise direction of the image of the central line pattern 41 and the optical characteristic of the optical system to be analyzed is obtained on the basis of a result of the measurement.例文帳に追加

中央のラインパターン４１の像の長手方向の複数の位置において、それぞれラインパターン４１の像の線幅を計測し、その計測結果に基づいてその被検光学系の光学特性を求める。 - 特許庁

The subsequent stage part switches the change object pattern with the switching system, and if the data type shows the data for expectation value change, changes the expectation value which corresponds to the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.例文帳に追加

後段部は変更対象パターンを切り替え方式で切り替え、データ種別が期待値変更用データを示す場合、変更対象パターンが示す検査値と一致する期待値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁

To provide a picture pattern display system for game machine capable of reducing or effectively utilizing the memory capacity of a ROM on a picture pattern control board required for images to be displayed during a great winning on a game machine.例文帳に追加

遊技機の大当り中に表示される画像が必要とする図柄制御基板のＲＯＭのメモリ容量を低減するまたは有効活用することが可能な遊技機用図柄表示方式を提供すること。 - 特許庁

As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.例文帳に追加

光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁

This monitoring camera system 11, having one or more turning axis is provided with a storage means that stores an operating pattern for maintenance and inspection and a control means that controls an operation in a maintenance inspection mode according to this operating pattern.例文帳に追加

１軸以上の旋回軸を持つ監視カメラ装置11において、保守点検用の動作パターンを記憶する記憶手段と、この動作パターンに従って保守点検モードの動作を制御する制御手段とを設けている。 - 特許庁

To provide a CAD/CAM system for an electronic circuit board capable of converting pattern information for design of the electronic circuit board exactly and efficiently into pattern information for production used in actual production.例文帳に追加

電子回路基板の設計用の図形情報を、実際の製造に使用する製造用図形情報に適正かつ効率的に変換することができる電子回路基板用ＣＡＤ／ＣＡＭシステムを提供する。 - 特許庁

The control system carries out a changeover operation with the use of an exclusive phase excitation pattern when a two phase excitation of a 1-2 phase excitation system is changed over to a two phase excitation system and when the two phase excitation system is changed over to a one phase excitation of the 1-2 phase excitation system.例文帳に追加

上記課題を達成するための、本発明の制御方式は、１−２励磁方式の２相励磁から２相励磁方式へ切り替える場合、及び２相励磁方式から１−２相励磁方式の１相励磁へ切り替える場合に、専用の相励磁パターンを用いて切り替え動作を行うことである。 - 特許庁

Injection molding is performed by using thermoplastic resin of one kind or two kinds or more selected from rubber-reinforced styrene system resin, polypropylene system resin, polycarbonate resin, polyamide system resin, and polyester system resin, and an acrylic system film 4 applied with a prescribed pattern is provided in at least a surface side appearing in a space in a car room.例文帳に追加

ゴム強化スチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂から選択される１種又は２種以上の熱可塑性樹脂を用いて射出成形され、少なくとも車室内空間に臨む表面側に、所定の模様を付したアクリル系フィルム４を設けた。 - 特許庁

To provide an indexing system and recording system therefor, which can corresponds to a new recording environment and a recording target without preparing a detecting threshold and a detecting pattern corresponding to all recording targets and recording environments and performing indexing even when the same pattern is generated at prescribed frequency.例文帳に追加

全ての記録対象や記録環境に対応した検出用閾値や検出用パターンを準備することなく、新しい記録環境や記録対象にも対応でき、かつ、同一パターンが所定の頻度で発生する場合にも、索引付けを行なえる索引付け及びその記録システムを提供する。 - 特許庁

A plurality of pattern images for calibration are formed by splitting a light, passed through a light diffusion member of a mask device for measurement, an opening pattern PHG_j for calibration formed in a mask for measurement of the mask device for measurement, and the optical system to be inspected in order, through the wave front splitting of an optical system for measurement.例文帳に追加

測定用マスク装置の光拡散部材、測定用マスク装置の測定用マスクに形成された較正用開口パターンＰＨＣ_j、及び被検光学系を順次介した光を測定用光学系により波面分割して複数の較正用パターン像が形成される。 - 特許庁

In this imaging performance evaluation method for imaging optical systems, an image of a random pattern 1 by an imaging optical system S to be inspected is imaged, texture feature quantities are calculated from the photographed image of the random pattern, and the imaging performance of the optical system S is evaluated, using the obtained texture feature quantities.例文帳に追加

被検結像光学系Ｓによるランダムパターン１の像を撮像して、撮像されたランダムパターンの像からテクスチャー特徴量を算出し、得られたテクスチャー特徴量を用いて被検結像光学系Ｓの結像性能を評価する結像光学系の結像性能評価方法。 - 特許庁

A user diagnostic part of the remote user equipment includes a DNA microarray or a gene chip, an array or a chip scanner, a PC system, a user interface for system behavior, a gene pattern processing function, a pattern-matching request of chip ID for the central-process equipment, a report generation function, and the like.例文帳に追加

遠隔ユーザ設備のユーザー診断部には、ＤＮＡマイクロアレーまたは遺伝子チップと、アレーないしチップ走査器と、ＰＣシステムと、システム動作のためのユーザーインターフェースと、遺伝子パターン処理機能と、中央処理設備に対するチップＩＤのパターンマッチのリクエストと、報告生成機能などが含まれる。 - 特許庁

Separately from the connection of the electronic component 14 for power to the circuit pattern 3 for the lead frame 1, the electronic component 21 for control can be connected to the wiring pattern 24 of the control substrate 22, thus independently and separately assembling the power system block section 11 and the control system block section 21.例文帳に追加

リードフレーム１の回路パターン３に電力用電子部品14を接続するのとは別に、制御基板22の配線パターン24に制御用電子部品21を接続することができるので、電力系ブロック部11と制御系ブロック部21を独立して別々に組立てることが可能になる。 - 特許庁

A pattern drawn on the surface of a master disk 4 in a vacuum environment is projected to a wafer by a projection optical system, and at least a substrate of the master disk and the substrate is relatively moved to the projection optical system by a stage device, thereby repeatedly exposing the pattern of the master disk 4 to the substrate.例文帳に追加

真空環境下で原盤４の面に描かれたパターンを投影光学系を介してウエハに投影し、該投影光学系に対し該原盤と基板のうちの少なくとも基板をステージ装置により相対的に移動させることにより、原盤４のパターンを基板に繰り返し露光する。 - 特許庁