「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(278ページ目) - Weblio英語例文検索

A test pattern generating device 2 reads and writes a test pattern with regard to each address of semiconductor memories to be tested.例文帳に追加

テストパターン発生装置２は、試験対象とする半導体メモリの各アドレスに対してテストパターンの書き込み，読み出しを行う。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in a semiconductor device for removing scum generated when a photoresist pattern is formed.例文帳に追加

フォトレジストパターンを形成する際に発生するスカムを除去するための半導体装置におけるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At least a part (102a) of the reference wiring pattern faces at least a part (101a) of the signal wiring pattern while sandwiching the insulating layer.例文帳に追加

基準配線パターンの少なくとも一部(102a)は、絶縁層を挟んで信号配線パターンの少なくとも一部(101a)に対向する。 - 特許庁

OPTICAL SENSOR, PATTERN DETECTING DEVICE, MULTICOLOR IMAGE FORMING APPARATUS, PATTERN DETECTING METHOD, PROGRAM AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光センサおよびパターン検出装置および多色画像形成装置およびパターン検出方法およびプログラムおよび記録媒体 - 特許庁

On the second insulating layer 42, a wiring pattern W2 for writing is formed above the wiring pattern W1 for writing.例文帳に追加

第２の絶縁層４２上には、書込用配線パターンＷ１の上方位置に書込用配線パターンＷ２が形成される。 - 特許庁

The circuit chip is disposed close to the antenna pattern, and preferably, at least a half round of the principal face thereof is made to face to the antenna pattern.例文帳に追加

回路チップはアンテナパターンに近接配置され、望ましくはその主面の少なくとも半周をアンテナパターンに対向させる。 - 特許庁

The circuit pattern connects between the mounting pads 51 and 53 and that circuit pattern corresponds to the secondary center tap of the transformer 1.例文帳に追加

実装パッド51，53間が回路パターンにより接続されており、当該回路パターンがトランス１の二次側のセンタタップに相当する。 - 特許庁

The auxiliary layer pattern sheet 4 can suppress a state in which an upper surface of the electrode pattern 3 has a low inclined surface at an end side.例文帳に追加

補助層パターン４により電極パターン３の上面が、端部側が低い傾斜面となることを抑えることができる。 - 特許庁

To provide a pattern exposure method and a pattern exposure apparatus in which the throughput is short with an inexpensive apparatus and without requiring a running cost.例文帳に追加

スループットが短く、安価な装置で、かつランニングコストが不要なパターン露光方法及びパターン露光装置を提供すること。 - 特許庁

For the special pattern game of the special pattern display part (L) started at a timing T2, the normal big winning is derived at a timing T4.例文帳に追加

タイミングＴ２で開始した特別図柄表示部（Ｌ）の特図ゲームは、タイミングＴ４において通常大当たりが導出される。 - 特許庁

DETECTION DEVICE, MOVABLE BODY APPARATUS, PATTERN FORMATION APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

検出装置、移動体装置、パターン形成装置及びパターン形成方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

The intermediate film pattern 108 is used as a mask for the dry etching of the processed film 103 to form a processed film pattern 109.例文帳に追加

その後、中間膜パターン１０８をマスクに用い、被加工膜１０３をドライエッチングして、被加工膜パターン１０９を形成する。 - 特許庁

A second metallic antenna pattern 6 intersects with the first antenna pattern and extends along the end surface of the second plate member.例文帳に追加

第２の板体の端面に沿って金属製の第２のアンテナパターン６が第１のアンテナパターンと立体交差してのびている。 - 特許庁

The formation position of the resist pattern 4a for the mark for exposure position confirmation is confirmed and a wiring pattern 3b is formed through wet etching.例文帳に追加

露光位置確認マーク用レジストパターン４ａの形成位置を確認し、ウェットエッチングにて配線パターン３ｂを形成する。 - 特許庁

Conductor pattern 4 is formed on a front surface of the glass substrate 2, and conductor pattern 5 is formed on a back surface of the glass substrate 2.例文帳に追加

ガラス基板２の表面には導体パターン４が形成され、ガラス基板２の裏面には導体パターン５が形成される。 - 特許庁

HOLOGRAM RECORDING/REPRODUCING DEVICE, HOLOGRAM RECORDING/REPRODUCING METHOD, PHASE MODULATION PATTERN DISPLAY METHOD, AND PHASE MODULATION PATTERN CREATION METHOD例文帳に追加

ホログラム記録再生装置、ホログラム記録再生方法、位相変調パターンの表示方法及び位相変調パターンの作成方法 - 特許庁

Further, the metal wiring pattern 68 is formed by copper plating so that the wiring pattern has a high electric conductivity.例文帳に追加

なお、銅メッキとして、銅で金属配線パターン６８を形成することで、高電気伝導率の配線パターンとすることができる。 - 特許庁

A minimum design dimension of a wiring width of the first wiring pattern is smaller than a minimum design dimension of a wiring width of the second wiring pattern.例文帳に追加

第１の配線の配線幅の最小設計寸法は、第２の配線の配線幅の最小設計寸法よりも小さい。 - 特許庁

At this time, the conductor patterns 21a and 21b are formed as a solid pattern having an area larger than that of the conductor pattern 21c and 21d.例文帳に追加

このとき、導体パターン２１ａ、２１ｂは、導体パターン２１ｃ、２１ｄよりも大きな面積のベタパターンとして形成される。 - 特許庁

The surface of the resist pattern 22 is etched to leave a lower resist pattern 22A that is the same level as the top of a silicon substrate 11 (step 4).例文帳に追加

レジストパターン２２の表面をエッチングし、シリコン基板１１の最上段と同レベルの下部レジストパターン２２Ａを残す（工程４）。 - 特許庁

The controller controls transition from one braking pattern to the next braking pattern at a fixed interval.例文帳に追加

制御装置は、一つの制動パターンから次の制動パターンに移行する時に一定の時間をおいて移行させる制御を行う。 - 特許庁

In particular, the pattern identification device estimates a manifold structure of the pattern sample to be identified using a locally linear embedding mechanism.例文帳に追加

特に、パターン識別装置は、局部線形埋め込みメカニズムを利用して識別対象パターンサンプルのマニホールド構造を推定する。 - 特許庁

As shown in (a), a position of a center of gravity of a spot group is measured from a diffraction pattern obtained by irradiating a mesh pattern with a laser beam.例文帳に追加

（ａ）に示すように、メッシュパターンにレーザ光を照射して得られる回折パターンからスポット群の重心位置を計測する。 - 特許庁

Transmission hole pattern 23a are formed in a mask pattern forming region 27 of an amorphous silicon film 23 which is a mask host.例文帳に追加

マスク母体となる非晶質シリコン膜２３のマスクパターン形成領域２７には透過孔パターン２３ａが形成されている。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method capable of performing a mask pattern correction with flare taken into consideration, at high speed and at high accuracy.例文帳に追加

フレアを考慮したマスクパターン補正を高速かつ高精度に行うことができるマスクパターン補正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive element excellent in roughness of lateral faces of a resist pattern, flatness of the top surface of the pattern, resolution, adhesion and alkali developability.例文帳に追加

レジストパターンの側面ギザ性、パターン上面の平担性、解像度、密着性アルカリ現像性に優れた感光性エレメント。 - 特許庁

VOL UME is corrected by the VOL COMPPATTERN corresponding to the sound volume correction data VOLCxx and the VOL PATTERN corresponding to the sound volume correction data of the other sound sources is added thereto.例文帳に追加

VOLUMEを音量補正データVOLCxxに対応するVOL COMPPATTERNで補正して、他の音源の音量変動データに対応する VOL PATTERNを付加する。 - 特許庁

A control unit 21 rearranges customer management records using a pattern of use that is identified in the pattern data storage unit 23.例文帳に追加

そして、制御部２１は、パターンデータ記憶部２３において特定した利用パターンを用いて、顧客管理レコードを並び替える。 - 特許庁

The rear surface pattern 202 is not a circuit pattern for driving the LED, but is provided to dissipate heat and to prevent warping of the substrate.例文帳に追加

裏面パターン２０２は、ＬＥＤを駆動するための回路パターンではなく、放熱や基板の反り防止のために設けられている。 - 特許庁

The width of the dividing pattern 76 in the arrangement direction of the discharge nozzle becomes narrower gradually as the pattern reaches the periphery of a reading region.例文帳に追加

分割パターン７６は、読み取り領域の周辺に行くほど、吐出ノズルの配列方向の幅が徐々に狭くなる。 - 特許庁

To provide a resist composition which can produce a resist pattern with a great focus margin and ensures good configuration of a resist pattern obtained therefrom.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造でき、得られるレジストパターンの形状が良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging pattern which enables easy adjustment of its positioning pattern to reference lines, even when it is imaged while being expanded.例文帳に追加

拡大して撮像した場合であっても基準線に位置決めパターンを容易に合わせることができる撮像用パターンの提供。 - 特許庁

An ECU 30 generates the acceleration pattern of a vehicle from the acquired road shape, and further generates the speed pattern of the vehicle.例文帳に追加

ＥＣＵ３０は、取得した道路形状から車両の加速度パターンを生成し、さらには、車両の速度パターンを生成する。 - 特許庁

To provide a nanoimprint pattern formation method capable of providing a resin pattern of high aspect ratio, while suppressing edge effects.例文帳に追加

エッジ効果を抑制しながらも、アスペクト比の高い樹脂パターンを得ることができるナノインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing program which reduces the size of a unit pattern image to shorten the time of pattern image data generation processing.例文帳に追加

単位地紋画像のサイズを小さく抑えて、地紋画像データの生成処理を短縮する画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁

The conductor plug 22 interconnects the surface conductor pattern 12 and the rear surface conductor pattern 14 electrically and physically.例文帳に追加

この導体プラグ２２が、おもて面導体パターン１２および裏面導体パターン１４を互いに電気的および物理的に接続する。 - 特許庁

To provide a device and method for drawing a pattern which can determine the quality of focus adjustment, while drawing the pattern.例文帳に追加

パターン描画中に焦点調整の良否を行うことができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a resist pattern for forming a preferable pattern by a double-patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法により良好なパターンを形成することができるレジストパターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method formable of a pattern that is prevented from peeling off, on a medium having a non-absorptive surface using a droplet ejection method.例文帳に追加

非吸収性の表面を有する媒体上に、パターン剥れが抑制されたパターンを液滴吐出法により形成する。 - 特許庁

To provide an antenna pattern frame, an electronic device case provided with the antenna pattern frame, and an electronic device including the electronic device case.例文帳に追加

本発明は、アンテナパターンフレーム、アンテナパターンフレームを備える電子装置ケース、及び電子装置ケースを含む電子装置に関する。 - 特許庁

To provide a mask blank which can form a minute mold pattern with high pattern accuracy in manufacturing an imprint mold.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができるマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming of a semiconductor circuit pattern that can form a desired circuit pattern while reducing a throughput.例文帳に追加

スループットを短縮し、所望の回路パターンを形成することが可能な半導体回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The method requires no process of newly creating a drawing data for correcting a pattern edge, but allows real-time pattern edge correction.例文帳に追加

パターンのエッジを修正するための描画データを新たに作成する必要が無く、リアルタイムにパターンのエッジが修正される。 - 特許庁

In addition, the absorber AB1 forms an absorber pattern PA1 in a pattern region RP1 of the mask substrate SUB1.例文帳に追加

また、吸収体ＡＢ１は、マスク基板ＳＵＢ１のパターン領域ＲＰ１において、吸収体パターンＰＡ１を形成している。 - 特許庁

An output dither image generating section 103 converts the input dither pattern which is specified relative to each block into an output dither pattern.例文帳に追加

出力ディザ画像生成部１０３は、各ブロックに対して特定された入力ディザパターンを出力ディザパターンに変換する。 - 特許庁