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planar processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 132



例文

To prevent complication of the structure of and the manufacturing process for a disk-shaped commutator and further to enhance capability of preventing damages to the bosses of the commutator of counter commutation planar joint structure.例文帳に追加

構造及び製造工程の複雑化を抑止しつつ、反整流面接合構造の円盤型整流子におけるボス部の損傷防止性を向上すること。 - 特許庁

A fine-particle layer is formed to add it to the device by laminating a plurality of planar structures with fine particles 2 dispersed planarly, using a sputtering process and the like.例文帳に追加

スパッタ等の手法を用い、平面的に微粒子2を分散させた平面構造で、これを複数層積層することで、微粒子層を形成し、これをデバイスに付加する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a planar optical waveguide circuit device for improving wiring pattern dimension accuracy by suppressing the resist contraction of a lift-off wiring process.例文帳に追加

リフトオフ配線プロセスにおけるレジスト収縮を抑制し、配線パターン寸法精度を向上させる平面光導波回路デバイスの製造方法を提供することである。 - 特許庁

Accordingly, the gusset body is completely flat planar in the process of manufacture and since the entire part is integrally formed, the manufacture is easy and suitable for automation.例文帳に追加

したがって、このマチ体は、製造過程において完全な平面状であり、かつ全体が一体的になっているので、製造が容易となり、自動化にも適する。 - 特許庁

例文

To provide a barrier rib forming method for a planar display having high utilization efficiency of a barrier rib material and which is capable of forming a barrier rib using a simple process and reducing cost.例文帳に追加

隔壁材料の利用効率が高く、しかも簡単な工程で形成でき、低コスト化が図れる平面表示装置用の隔壁形成方法を提供する。 - 特許庁


例文

The content of hydrogen in a high Mg Al-Mg based aluminum alloy planar cast ingot with an Mg content of >8% obtained by a twin roll type continuous casting process is controlled to ≤1.0 ppm.例文帳に追加

双ロール式連続鋳造方法によって得られるMg含有量が8%を超える高MgのAl-Mg 系アルミニウム合金板状鋳塊の水素含有量を1.0ppm以下とする。 - 特許庁

A thermally softened glass material 12 is mounted on a planar first die 11 and, thereon, a second die 13 on the upper side of which a relief pattern is formed is located (process (a)).例文帳に追加

平板状の第1の金型11の上に加熱軟化させたガラス材12を載せ、その上方にレリーフパターンが形成された第2の金型13を位置させた(a)。 - 特許庁

A formation method of an insulation resin rough surface includes at least a process (a) where an insulation resin layer is vertically sandwiched by planar molds having fine shapes, a process (b) where the insulation resin layer is pressurized and cured, and a process (c) the molds are peeled off from the insulation resin layer.例文帳に追加

少なくとも(a)微細形状を有した面状の金型により前記絶縁樹脂層を上下から挟む工程と、(b)前記絶縁樹脂層を加圧及び硬化させる工程と、(c)前記金型及び前記絶縁樹脂層を引き剥がす工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The planar showerhead 44, the upper insulator plate 52 and the lower insulator plate 50 are in a stacked structure, and are also positioned on the shelf 42 in the vicinity of the process space 14 for introducing a process gas into a substrate in the process space.例文帳に追加

たな42は室本体の内壁に設けられ、平らなシャワヘッド44および上方52および下方50絶縁板は積重ねられた構造物として配置され、かつプロセスガスをプロセス空間内の基板に導入するため、プロセス空間14の近傍のたな42の上に設置される。 - 特許庁

例文

Instead of the initial magnetization cleaning or combining with this, magnetic cleaning is made by applying the planar magnetic field with the intensity of 100 [Oe] to less than that of the Hn in the radial direction after the transferring process or concurrently with the transferring process.例文帳に追加

上記初期磁化クリーニングに代えて、又はこれと組み合わせて、転写工程の後、若しくは転写工程と同時に、半径方向に、100[Oe]からHnの以下値の面内磁界をかけて磁気的なクリーニングを実施してもよい。 - 特許庁

例文

To provide a solid-state imaging apparatus easily preventing the electrostatic charge on the solid-state imaging element side of a translucent planar member before assembly, and reducing the sticking of dust to the solid-state imaging element side of the translucent planar member in the assembly process of the solid-state imaging apparatus.例文帳に追加

固体撮像装置の組み立て工程において、組み立て前の透光性板状部材の固体撮像素子側の帯電を容易に防止することができ、透光性板状部材の固体撮像素子側へのゴミの付着をより低減することができる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

Forward end part WJ6 of the inserting part WJ2 has a planar shape required for making the outer surface profile of the cooling pipe 5, touching an exciting winding 3 in the subsequent process, planar at the pipe wall part so that contact area with the exciting winding 3 can be increased.例文帳に追加

挿入部WJ2の先端部WJ6は、後の工程で励磁巻線3と接触する冷却管5の管壁部分の外面形状を励磁巻線3との接触面積を増大させることができる平坦面形状にするために必要な平坦面形状を有している。 - 特許庁

The three-dimensional shape wire harness is manufactured through a planar wiring process for wiring a main wire part in a plane, and a three-dimensional shape forming process for forming the main wire part in a three-dimensional shape, or by including these processes.例文帳に追加

幹線部分を平面的に配索する平面的配索工程と、幹線部分を三次元形状に形成する三次元形状形成工程とを経て、また、これらの工程を含むことにより三次元形状のワイヤハーネスが製造される。 - 特許庁

The spring set provides planar motion while reducing undesired out of plane motion, which makes MEMS devices substantially insensitive to the process-induced etch angle variations of the spring elements.例文帳に追加

該バネセットは、面運動を提供し、同時に、望ましくない面外運動を低減し、MEMSデバイスを、該バネ要素のプロセス誘発エッチング角度ばらつきに対し実質的に鈍感にする。 - 特許庁

To prevent a planar failure by the adhesion of dust, a defective bright spot in a polarizer, and bedewing in a drying process.例文帳に追加

塵埃の付着による面状故障や偏光板での輝点欠陥を防止することができ、さらには乾燥工程における結露の発生を防止することができるフィルム製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a solid powder molding 21 includes a process where a planar powder-containing powder raw material 20 is subjected to pressure molding while applying ultrasonic vibration by pestles.例文帳に追加

板状粉体を含有する粉体原料20を、杵によって超音波振動を印加しながら、加圧成型する工程を含む固形粉末成型体21の製造方法である。 - 特許庁

The raised portions extend away from the planar surface 46 in a direction of the central axis 48 and having a shape conforming to a thermal gradient incident on the plate during a combustion process.例文帳に追加

隆起部は各々、中心軸線(48)の方向に平面表面(46)から離れるように延び、かつ燃焼過程の間にプレート上に生じた温度勾配に一致する形状を有する。 - 特許庁

A planar target having rings which are annular step regions of the thickness increased prositionally corresponding to target raceway regions in which erosion grooves are caused in the process of sputtering is provided.例文帳に追加

スパッタリング中侵食溝が生じるターゲットレースウエイ領域に位置的に対応して増大された厚さの環状段領域であるリングを有する平面状ターゲットが提供される。 - 特許庁

To avoid the prior need for process equipment that shapes the substantially planar intermediate web products formed from two-dimensional molds into a three-dimensional final product.例文帳に追加

二次元モールドで形成した実質的に平面的な中間ウェブ製品を三次元の最終製品に成形するために従来必要とされた処理装置の必要性を解消する。 - 特許庁

The light passing distance of a projection process 380 reaching the focus-adjustable lens system 100 from the reflective polarization modulation imager 300 through the planar polarization beam splitter 200, to be measured is equal to the light passing distance of an imaging process 480 reaching the focus-adjustable lens system 100 from the imaging sensor 400 through the planar polarization beam splitter 200, to be measured.例文帳に追加

反射式偏光変調結像器300から平面偏光分光器200を経て、焦点変更可能なレンズ系100に到達して計測された投影過程(380)の光通過距離は、結像センサー400から平面偏光分光器200を経て、焦点変更可能なレンズ系100に到達して計測された結像過程480の光通過距離に等しい。 - 特許庁

The method for manufacturing the gas barrier laminated body comprising coating the hydrogen-bonding resin onto a process film, drying the same, coating a water dispersion containing the planar plate-like pigment with the aspect ratio of at least 50 on the coated layer, and peeling the same from the process film after drying the same.例文帳に追加

工程フィルム上に、水素結合性樹脂を塗工、乾燥させ、該塗工層上にアスペクト比が50以上の平板状顔料を含有する水分散液を塗工、乾燥させた後に工程フィルムから剥離するガスバリア積層体の製造方法。 - 特許庁

In the first OBIC process 122 and the second OBIC process 124, an observation plane is irradiated with a laser beam at respectively different irradiating angles and two mutually different pieces of planar information at defect positions are detected from the relation of the irradiated positions and OBIC.例文帳に追加

第1のOBIC工程122と第2のOBIC工程124とでは,それぞれ異なる照射角で観察面にレーザ光が照射されて,照射位置とOBICとの関係から欠陥位置の相異なる2の平面的な情報が検出される。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the pattern preparing process are rated based on the preset degree of column adjacency, degree of planar dispersion and degree of vertical dispersion in every direction to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度,平面的分散度,立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

Such a method of packing raw material silicon which includes process steps of packing the lumpy or granular raw material silicon 12 into a cylindrical section 16a of the crucible 16 and forming a general raw material layer, then forming a planar raw material layer consisting of the planar raw material silicon 21 on this general raw material layer and further, successively forming the general raw material layer on the planar raw material layer is adopted.例文帳に追加

るつぼ16の円筒部16aにおいて、塊状又は粒状の原料シリコン12を充填して一般原料層を形成してから、当該一般原料層の上に板状の原料シリコン21からなる板状原料層を形成し、更に当該板状原料層の上に一般原料層を形成していくという工程を含むような原料シリコンの充填方法をとる。 - 特許庁

To provide a cover pad used for covering plural reaction wells which open toward upward and are constituted in a planar form for carrying out a chemical and/or microbiological reaction such as PCR process and the like.例文帳に追加

例えばPCRプロセスなどの化学及び/または微生物反応の実行に設けられる板状体に構成された、上方表面に開いた複数の反応用くぼみを覆うのに用いるカバーパッド。 - 特許庁

After an oxide film is formed on the surface thereof, three anisotropic magnetoresistive elements M11, M12, and M13 are formed on the bevels of the trench G by a semiconductor planar process, and a required wiring layer is formed.例文帳に追加

表面に酸化膜を形成した後、半導体プレーナプロセスにより、溝Gの斜面に、3つの異方性磁気抵抗素子M11,M12,M13を形成し、必要な配線層を形成する。 - 特許庁

In a curing process, the softened planar panel 1B is formed into a curved shape by a correction stand 2 having the curved shape corresponding to the lower invert part of a tunnel-shaped water channel before cured.例文帳に追加

硬化工程では、当該軟化状態の平面パネル1Bを、トンネル状水路の下部インバート部に対応する曲面形状を有した矯正台2で曲面状に形成した後に硬化させる。 - 特許庁

To provide a film that can provide a high refractive index to a direction normal to the film of an optical film rather than the planar direction of the film, and to provide a process for producing the film and use of the film.例文帳に追加

本発明は、光学フィルムのフィルムの平面方向ではなく、フィルムの法線方向に高い屈折率を与えることのできるフィルムおよびフィルムの製造方法、並びにその利用を提供する。 - 特許庁

To provide a low temperature-sinterable ceramic composition sinterable at low temperatures, and suitable for use as a raw material of electronic components which can be sintered at a low temperature and suitable for use as a raw material of electronic components manufactured via a firing process while suppressing shrinkage in a planar direction by a shrinkage-controlling construction process.例文帳に追加

低温で焼結させることが可能であるとともに、収縮抑制工法により、平面方向の収縮を抑制しつつ焼成する工程を経て製造されるセラミック基板などの電子部品の原料として用いるのに適した低温焼結セラミック組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor crystal base material which is produced by an epitaxial growth process without requiring an additional process and reduces planar defects such as anti-phase area boundary planes or twins, which are formed in the epitaxially grown crystal, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

エピタキシャル成長以外の付加的な工程を必要とせず、かつエピタキシャル成長させた結晶内に生じる反位相領域境界面や双晶のような面欠陥を低減し得る化合物半導体結晶基材及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In this instance, since the ϕa and ϕb are easily determined by the imaging of the planar shape S of the laser spot weld zone 4, the acceptability of the welding quality can be discriminated by a simple process without accompanying complicated analysis.例文帳に追加

ここで、φa及びφbは、レーザスポット溶接部4の平面形状Sの画像化により簡単に算出できるので、複雑な解析を伴わずに、簡単な手順で溶接品質の可否を判断できる。 - 特許庁

To provide a device for the manufacture of planar catalyst and a method for manufacturing the catalyst such that the use amount of a deposition preventing sheet can be decreased while deposition of the catalyst paste on a rotating roll is prevented in the process of applying the paste under pressure.例文帳に追加

圧着塗布する際の回転ロールへの触媒ペーストの付着を防止しつつ付着防止シートの使用量を低減させることができる板状触媒の製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

The leveling part is composed of a rear part leveling part 29 composed of a planar scraper and provided on the rear part of the agitation part 13 viewing from a work first process and a front part leveling part 35 composed of a freely rotatable roller and provided on the front part.例文帳に追加

均し部は作業第1行程からみて撹拌部13の後方に設ける板状のスクレーパからなる後部均し部29と、同前方に設ける回転自在のローラからなる前部均し部35とからなる。 - 特許庁

Since the radiating element 1 and the band-adjusting conductive element 3 or the unwanted radiation reducing conductive plate 7 can be produced by an etching process of the printed-circuit board, thereby the planar antenna device having high productivity can be obtained.例文帳に追加

放射素子1や帯域調整導体素子3や不要放射抑制導体板7は印刷配線基板をエッチング処理することにより加工できるので、生産性の高い平面アンテナ装置を得ることができる。 - 特許庁

The planar development nozzle, used in a resist development process of photomask manufacturing, comprises unit nozzles of development liquid arrayed in two dimensions on a plane on a photomask substrate side which is to be developed.例文帳に追加

フォトマスク作製におけるレジスト現像工程で使用する平面状の現像ノズルであって、現像液の単位ノズルが被現像物であるフォトマスク基板側の平面に2次元配列されている現像ノズルとする。 - 特許庁

To provide a waveguide type optical element wherein defects of the conventional waveguide type optical element having a ridge waveguide are conquered and an electrode and a pad can be connected in a planar shape without using a resin process or the like.例文帳に追加

リッジ導波路を有する従来の導波路型光素子の欠点を克服し、樹脂工程などを用いずに電極とパッドとをプレーナ状に接続できる導波路型光素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

The planar optical waveguide is manufactured by depositing an under clad layer 20 on a silicon substrate 10, depositing a core layer on the under clad layer 20 by using an aerosol process, etching the core layer to produce the core 30, and forming the over clad layer 40 on the under clad layer 20 and on the core 30 in an aerosol process.例文帳に追加

シリコン基板10上にアンダークラッド層20を被着し、エアゾール工程を用いてアンダークラッド層20上にコア層を被着し、このコア層をエッチングしてコア30を生成し、エアゾール工程を通じてアンダークラッド層20及びコア30上にオーバークラッド層40を形成することによって、プレーナ型光導波管が製造される。 - 特許庁

In the process for fabricating a microstructure of Si, SiGe crystal is deposited on an Si substrate and etched to form an SiGe crystal 504 exposing the sidewall onto which a planar microstructure of Si is grown.例文帳に追加

微細なSi構造の製造方法では、Si基板上にSiGe結晶を堆積し、エッチングする事で側壁が露出したSiGe結晶504を形成し、この側壁に板状Si微細構造506を成長させる。 - 特許庁

To connect a planar optical element with an optical waveguide with the optical path bent at 90° without increasing the number of components or improving the process controlling property, to easily fix optical fibers, to improve the productivity and to reduce the cost.例文帳に追加

部品点数の増加やプロセス制御性の向上を必要とせずに、面型光素子と光導波路を90°曲げて接続することができ、さらに、光ファイバの固定作業も容易にして生産性を向上させ、低コスト化する。 - 特許庁

In the laminating process, green sheets 211-213 are laminated and integrated to manufacture a multi-piece laminate 216 having a structure in which a plurality of product regions 217 to serve as ceramic capacitors are arranged in all directions along a planar direction.例文帳に追加

積層工程では、グリーンシート211〜213を積層一体化して、セラミックコンデンサとなるべき製品領域217を平面方向に沿って縦横に複数配列した構造の多数個取り用積層体216を作製する。 - 特許庁

To provide an organic thin film solar cell module in which a plurality of unit cells are arranged in a planar form and connected in series, and which has a simple configuration and can be manufactured by a simple process.例文帳に追加

複数個の単位セルが平面的に配列され直列に接続された有機薄膜太陽電池モジュールであって、単純な構成であり、簡素な工程で製造することが可能な有機薄膜太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

The sol-gel process is utilized for producing a bulk germanium- doped core rod useful for a variety of applications including a core rod, a substrate tube, immediate overcladding, an exhaust-type fiber laser or a planar waveguide.例文帳に追加

前記課題は、コアロッド、サブストレートチューブ、直後オーバークラッド、排気式ファイバレーザ及び平面型導波路などのような様々な用途に関して有用な塊状のゲルマニウム注入(germaniumu-doped)コアロッドを製造するためのゾル・ゲル法により解決される。 - 特許庁

In the method for manufacturing a printed board, a metal layer on the surface of a substrate is polished by 5 μm or more by means of a tubular or planar polishing material having a hardness of about 1,000 HV or above in a surface smoothing process preceding to circuit formation.例文帳に追加

回路形成前の整面工程において基板表面の金属層を,硬度が概ね1000HV以上の円筒状又は板状の研磨材により5μm以上研磨することを特徴とする配線板の製造方法。 - 特許庁

In a seam part 3 wherein the circumference part of one plate 1 is folded back and seamed on a circumference of the other plate 2, the plates 1 and 2 are brazed and fixed together after a press working process of plastically deforming the seam part 3 in a non-planar state.例文帳に追加

一方のプレート1の周縁部が他方のプレート2の周縁で、折返し巻締められた巻締め部3において、その巻締め部3を非平面的に塑性変形させるプレス加工工程の後に、プレート1,2間をろう付け固定する。 - 特許庁

To provide glass which has a high electric resistance so as to be used as a planar type display, and in which thermal stress is hard to occur even in heat treatment in a display production process, and which is usable as an exhaust pipe of PDP (plasma display panel) or FED (field emission display).例文帳に追加

平面型ディスプレイのスペーサとして使用できる高い電気抵抗を持ち、ディスプレイ製造工程での熱処理においても熱応力が生じにくく、また、PDPやFEDの排気管用としても使用可能なガラスを提供すること - 特許庁

When a game process is performed by a game device having an LCD capable of displaying a display image while switching between planar vision display and stereoscopic vision display, the angular velocity of the game device around each axis is detected using an angular velocity sensor provided in the game device.例文帳に追加

平面視表示と立体視表示とを切り替えて表示画像を表示可能なLCDを備えるゲーム装置でゲーム処理をする場合に、ゲーム装置に備えられた角速度センサを用いて、当該ゲーム装置の各軸周りの角速度を検知する。 - 特許庁

To provide a producing device of a planar catalyst in which the misalignment of substrates or generation of wrinkles are prevented when substrates made of an inorg. fiber woven fabric are fed to pressurized coating rolls and the coating process of a catalyst paste can be continuously and stably performed.例文帳に追加

無機繊維織布からなる基板を加圧塗布ロールに供給する際に生じる基板の位置ずれやしわの発生を防止し、連続して安定した触媒ペーストの塗布作業を行うことができる板状触媒の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining the front and rear surface of a semiconductor wafer capable of judging the front and rear surface of the semiconductor wafer so tat an operation is not made with the wrong surface of the semiconductor wafer in a process of lapping (planar polishing) from beveling on and polishing both the surface.例文帳に追加

ベベリング以降のラッピング(平面研削)及び両面ポリッシングの工程で半導体ウェハの表裏を間違えて作業しないように、半導体ウェハの表面と裏面を判別できる半導体ウェハの表裏判別方法を提供する。 - 特許庁

After the film forming of the plurality of insular thin films, each time mask arrangement is moved in the planar direction of the housing substrate, the film forming process is implemented, for forming, on the housing substrate, a plurality of projections 4 from a plurality of laminated bodies of the insular thin film.例文帳に追加

該複数の島状薄膜の成膜の後に、マスクの配置を前記筐体基板の面方向に移動させる毎に、前記成膜工程を実行し、筐体基板上に複数の島状薄膜の積層体による複数の突部4を形成する。 - 特許庁

例文

The basket metal net for continuous centrifugal drainage machine is constituted by providing a large number of through-holes which have a diameter of 1 mm or more and of which the planar shape is almost circular in a plate-shaped member and used for a centrifugal drainage process in the production of carboxymethylcellulose.例文帳に追加

板状部材に、直径1mm以上で、かつ平面形状が略円形の貫通孔を複数設けてなり、カルボキシメチルセルロース製造における遠心脱液工程用であることを特徴とする連続遠心脱液機用バスケット金網。 - 特許庁




  
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