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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > plating-methodの意味・解説 > plating-methodに関連した英語例文

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plating-methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5154



例文

To provide a method of electroplating a board capable of realizing uniform plating while preventing the aging of a plating solution and the nonuniform phenomenon of ionic concentration without the need for an additional external liquid flow device.例文帳に追加

外部液体流動装置を別途に導入しなくても、メッキ液の劣化とイオン濃度の不均一現象を防ぐことができ、基板を均一にメッキすることのできる電解メッキ法を提供する。 - 特許庁

To provide a plating apparatus and a plating method which, with a relatively simple construction, can surely fill in via holes or the like with a metal film without the formation of voids in the embedded metal film even when the via holes or the like have a high aspect ratio and a deep depth.例文帳に追加

比較的簡単な構成で、例えアスペクト比が高く、深さが深いビアホール等にあっても、内部にボイドを発生させることなく、金属膜を確実に埋込むことができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for preventing deterioration in solder joinability, wire bonding properties, or the like, with the lapse of time in an article with a gold plating film formed even when the gold plating film is thin.例文帳に追加

金めっき皮膜が形成された物品において、金めっき皮膜の膜厚が薄い場合であっても、ハンダ接合性、ワイヤーボンディング性等の経時劣化を防止できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrolytic plating apparatus which can form a uniformly plated layer within the surface of a substrate to be treated, without wasting a semiconductor chip in the substrate to be treated, and to provide an electrolytic plating method therefor.例文帳に追加

被処理基板内の半導体チップを無駄にすることなく、被処理基板の面内において均一なメッキ層を形成することができる電解メッキ装置および電解メッキ方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a compound solder ball for electronic component, which resolves the deterioration of adhesiveness and the adhesion failure of a solder plating film, and in which a uniform solder plating layer is formed.例文帳に追加

本発明の目的は、はんだめっき皮膜の密着性の低下やめっき未着を解決し、均一なはんだめっき層が形成された電子部品用複合ボールの製造方法を提供することである。 - 特許庁


例文

In the barrel plating method, even if the dummy ball is eluted, the contamination of the plating liquid 24 is suppressed because the eluted metal from the dummy ball 10 is the same metal as the metal applied on the material 22 to be treated.例文帳に追加

このバレルめっき方法においては、ダミーボール10が溶け出しても、溶け出した金属と被処理物にめっきされる金属とが同じNiであるため、めっき液24の汚染が抑制される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a corrosion resistant metal plate decreasing the possibility of pinholes in a gold plating part, and forming the gold plating part with high adhesion property with the base material.例文帳に追加

金メッキ部にピンホールが存在する可能性を低下させることができ、しかも、母材との密着性の高い金メッキ部を形成することができる耐食性金属板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method comprises immersing a silicon substrate in a plating tank with rotating the silicon substrate at a speed such that a relative speed between a plating liquid to which an inhibitor and an accelerator are added and the silicon substrate becomes 100 m/min and over.例文帳に追加

抑制剤と促進剤を添加しためっき液とシリコン基板の相対速度が100m/分以上になる速度でシリコン基板を回転させながら、シリコン基板をめっき槽に浸漬させる。 - 特許庁

In the pad conditioner in which abrasive grain of diamond 3 is fixed to a base metal 1 by a plating layer 2, a resin layer of polyimide 4 is formed on surfaces of the plating layer 2 and the base metal 1 in an electrodeposition method.例文帳に追加

台金1にダイヤモンド砥粒3がめっき層2によって固着されたパッドコンディショナーにおいて、めっき層2および台金1の表面に電着塗装法によりポリイミド樹脂層4を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a plating solution agitating method which ensures excellent film quality and via hole filling property to a having via holes and resist thereon with excellent reproducibility when performing electric plating on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント配線板の電気めっきに際して、ビアホールやレジスト等が存在する基板に対しても良好な膜質とビアホール充填性を再現性良く保証するめっき液の撹拌方法を提供する。 - 特許庁

例文

A metallic plating film 8 is formed in the resist frame 7 by a frame plating method using the electrode film 4 as an electrode and the resist frame 7 is dissolved and removed to form a metallic pattern layer 9.例文帳に追加

次いで、このレジストフレーム7内に電極膜4を電極として、フレームメッキ法により金属メッキ膜8を形成し、レジストフレーム7を溶解除去することにより金属パターン層9を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a two color tin-solder plated TAB tape in which solder plating applied to an outer leads is protected against pitting in the acid pickling process of electroless tin plating.例文帳に追加

無電解スズめっきの酸洗処理工程においてアウターリードに施したはんだめっきのピッティングの発生を防止するスズ−はんだ2色めっきTABテープの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electroless conversion gold-plating method which can form a uniformly gold-plated film at a constant deposition rate for a long term and greatly prolong the renewal time of a gold-plating solution.例文帳に追加

長期間に亘って安定な析出速度で均一な金めっき皮膜を形成でき、金めっき液の更新期間を大きく延長することが可能な置換型無電解金めっき方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming chromium plating films by which an additional improvement in corrosion resistance is made possible and products having stable quality can be obtained in the formation of the chromium plating films making combination use of a blasting treatment.例文帳に追加

ブラスト処理を併用したクロムめっき被膜の形成において、より一層の耐食性の向上が可能で、しかも安定した品質の製品が得られるクロムめっき被膜の形成方法。 - 特許庁

In the barrel plating method, granular electric insulation members 20 smaller in specific gravity than a plating solution 5 and greater in specific gravity than a cleaning liquid are housed together with electronic components 10 into a barrel 3.例文帳に追加

バレルめっき方法では、めっき液5よりも比重が小さく、かつ洗浄液よりも比重の大きい粒状の電気絶縁部材20を電子部品10と共にバレル3内に収容する。 - 特許庁

To provide a continuous hot dip coating method capable of sufficiently expelling the scum in a snout and assuring the good quaity of a plating surface without impairing the productivity of plating work and an apparatus therefor.例文帳に追加

メッキ作業の生産性を害することなく、スナウト内のスカムを十分に排除してメッキ表面の良好な品質を確保することのできる連続溶融メッキ方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This method comprises passing a plating solution of silver cyanide, from several feed openings of the plating solution at the bottom of the cell, upward into the cell in which the material to be plated is vertically arranged as a cathode so as to face an anode.例文帳に追加

被メッキ材を陰極として陽極と対向して鉛直方向に配置させたセル内へシアン化銀メッキ液をセル底部の複数のメッキ液供給口からセル内へ上向きに通液する。 - 特許庁

The injection of the plating solution is carried out with an adequate method such as a syringe and further, but by providing an injection pipe 8 and an overflow reservoir 9 the plating solution can be easily managed, which contribute to resource saving.例文帳に追加

メッキ液注入は、スポイトなど適宜の方法で行えるが、注入管8及び溢水受け9を備えるようにすれば、メッキ液の管理が容易に行え省資源化にも寄与する。 - 特許庁

The copper electrolyte plating liquid can be maintained and recovered by the method so as to realize excellent plating appearance of the precipitated copper, high denseness of a film of the precipitated copper, and good via filling property.例文帳に追加

前記方法により、析出銅のめっき外観、析出銅被膜の緻密さ、およびビアのフィリング性が良好になるように、電解銅めっき液を維持し、回復させることが可能となった。 - 特許庁

To provide a device for removing top dross in a hot-dip metal plating facility without hampering a maintenance operation of the metal plating facility, and to provide a method for removing the top dross.例文帳に追加

溶融金属めっき設備において、当該めっき設備のメンテナンス作業に支障をきたすことなく、トップドロスを除去することができるトップドロス除去装置および除去方法を提供する。 - 特許庁

To improve particularly the distribution of plated film thickness and to shorten the lead time to form desired plated film thickness in a plating device for plating in a pattern like form on one surface of a wafer by an electroplating method.例文帳に追加

本発明は、電気メッキ法によってウエハー面上にパターン状にメッキを行うメッキ装置に関し、特にメッキ膜厚分布の改善と、所望のメッキ膜厚形成までの所要時間の改善に関する。 - 特許庁

To provide an inner shielding material manufacturing method preventing troubles in passing a material sheet through a plating line, and uniformizing plating quality without damaging its magnetic property as an inner shielding material.例文帳に追加

インナーシールド材としての磁気特性を損なうことなく、且つ、メッキラインにおける通板トラブルの発生を防止し、メッキ品質を均一化することが可能なインナーシールド材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the Sn-based hot-dip metal coated steel sheet comprises: a process of performing hot-dip Sn-based plating on a steel sheet; and a subsequent process of applying Ni or Ni alloy upper coating having a Ni content of 0.1 to 1.0 g/m^2 according to electroplating or displacement plating.例文帳に追加

その製造方法は、鋼板に溶融Sn系めっき後、電気めっきまたは置換めっきによりNi分で0.1〜1.0g/m^2のNiまたはNi合金を上層めっきする。 - 特許庁

To provide a method of forming a spot-plated film where, even if a plating area is small, the positional precision of a plated film is not reduced, further, the plating stage is not complicate, and the cost for incidental equipment or apparatuses is not high.例文帳に追加

めっきエリアが小さくてもめっき皮膜の位置精度を落とさず、また、めっき工程も煩雑にならず、付帯設備や装置の費用も高くならないスポットめっき皮膜形成方法の提供。 - 特許庁

In this method for forming a wiring through plating, an alkaline treatment step is conducted, after an insulation layer is roughened and before a plating is sensitized.例文帳に追加

めっきによって配線を形成する配線板の製造方法において、絶縁層を粗化した後であって、めっき増感処理を行うまでの間に、アルカリ処理工程を行う配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a smooth plating layer corresponding to the request of high appearance by forming a plating layer having sufficient peel strength (adhesion) on an aluminum wheel base material subjected to shot blasting.例文帳に追加

ショットブラストを打ったアルミホイール基材上に、十分なピール強度(付着性)を有するメッキ層を形成し、高外観要求に答え得る平滑なメッキ層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide electronic parts capable of preventing the plating growth from occurring at performing of a plating processing, without causing any increase in a manufacturing man hour and a manufacturing cost, and to provide a method of manufacturing the electronic parts.例文帳に追加

製造工数や製造コストの増加を招くことなく、めっき処理を施す際にめっき伸びが発生するのを防ぐことが可能な電子部品及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for plating which prevents deposition of dross generated during hot-dip galvanizing in a plating tank and efficiently removes the generated dross, and to provide an inexpensive and simple-structured apparatus therefor.例文帳に追加

溶融亜鉛系めっきを行う際に発生するドロスがめっき槽内に堆積することを防止し、発生したドロスを効率よく除去できる安価で構造が簡単なめっき方法と装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing conductive electroless plating powder, in which foreign matters are not mixed and which is excellent in plating adhesiveness, without using chromic acid, permanganic acid or the like causing environmental pollution.例文帳に追加

環境汚染となるクロム酸や過マンガン酸等を使用せず、異物の混入がなく、更にめっき密着性に優れた導電性無電解めっき粉体を製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for drastically reducing the discharge amount of waste solutions by selectively removing the phosphite ions accumulated in an electroless nickel plating solution, thereby making the solution reusable for the electroless nickel plating solution.例文帳に追加

無電解ニッケルめっき液に蓄積する亜りん酸イオンを選択的に除去し、無電解ニッケルめっき液に再使用できるようにし、廃液の排出量を大幅に低減する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a catalyst impartation method for electroless plating capable of forming an electroless plating film having a good appearance and an adhesion property without using expensive noble metals as catalytic metals.例文帳に追加

触媒金属として高価な貴金属類を使用することなく、外観が良好で密着性に優れた無電解めっき皮膜を形成することが可能な無電解めっき用触媒付与方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plating method by which adhesive strength between a substrate composed of aluminum or an aluminum alloy and a plating layer can be improved without using harmful substances.例文帳に追加

人体の健康に悪影響を及ぼす有害物質を用いることなく、アルミニウムまたはアルミニウム合金で形成された基材とメッキ層との密着強度を高めることができるメッキ方法を提供する。 - 特許庁

The electroplating liquid which contains copper ions and a complexing agent of the copper ions and has a pH ranging from 4 to 10, the plating method using such electroplating liquid, and the silicon wafer obtained by such plating operation.例文帳に追加

銅イオンおよび銅イオンの錯化剤を含み、pHが4〜10の範囲である電気めっき液、かかる電気めっき液を使用しためっき方法、およびかかるめっき操作により得られたシリコンウエハー。 - 特許庁

The method of manufacturing includes steps of; forming the electrode on the substrate for metal plating, and providing the substrate with the electrode formed on the substrate for metal plating by using the adhesive composition layer.例文帳に追加

また、金属メッキ用基板に電極を形成する工程と、金属メッキ用基板に形成された電極を、接着組成層を利用して基板に提供する工程とを含む製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a plating step of forming the plated film on the steel sheet, by contacting the steel sheet with a hot-dip plating bath of the aluminum-zinc alloy containing 20 to 95 mass% aluminum.例文帳に追加

アルミニウム含有量が20〜95質量%である溶融アルミニウム−亜鉛合金のめっき浴と鋼板とを接触させてめっき被膜を前記鋼板に形成するめっき工程を含む。 - 特許庁

The heat resistant member having a film on a metallic substrate, in which the film is 1) a nickel - copper alloy film or 2) a nickel plating film and copper plating film and the method for manufacturing the same.例文帳に追加

金属基体上に皮膜を有する耐熱部材であって、皮膜が、1)ニッケル−銅系合金皮膜、または2)ニッケル系メッキ皮膜と銅系メッキ皮膜である耐熱部材およびその製造方法。 - 特許庁

ACID DEGREASING AGENT USED FOR PRETREATMENT OF ELECTROLYTIC COPPER PLATING TO SURFACE OF COPPER OR COPPER ALLOY, AND ELECTROLYTIC COPPER PLATING METHOD TO SURFACE OF COPPER OR COPPER ALLOY PRETREATED USING THE ACID DEGREASING AGENT例文帳に追加

銅又は銅合金表面への電気銅めっきの前処理に用いる酸性脱脂剤及びその酸性脱脂剤を用いて前処理した銅又は銅合金表面への電気銅めっき方法 - 特許庁

The method for improving the wettability of a nickel plating film formed on the surface of an article is characterized in that a molybdate film is formed on the surface of the nickel plating film.例文帳に追加

本発明の物品の表面に形成したニッケルめっき被膜の濡れ性を改善する方法は、ニッケルめっき被膜の表面にモリブデン酸塩被膜を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a chemical palladium/gold plating film structure, a method for the production thereof, a palladium/gold plating film package structure bonded with a copper wire or a palladium/copper wire, and a packaging process thereof.例文帳に追加

本発明は、化学パラジウム/金めっき皮膜構造及びその製造方法、銅線またはパラジウム/銅線で接合されたパラジウム/金めっき皮膜パッケージ構造、及びそのパッケージプロセスを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the touch sensor pattern and signal conductor provide a substrate with high transmittancy which has at least a first conductive plating film and a second conductive plating film formed on a surface.例文帳に追加

このタッチセンサパターン及び信号導線の製造方法は、表面上に少なくとも第1導電性めっき膜と第2導電性めっき膜が形成された高透光率の基板を提供する。 - 特許庁

In the barrel plating method, a plate-like electric insulating member 20 having a specific gravity which is smaller than that of a plating solution 5 and larger than that of a washing liquid 6 is put in a barrel 3, together with electronic components 10.例文帳に追加

バレルめっき方法では、めっき液5よりも比重が小さく、かつ洗浄液6よりも比重の大きい板状の電気絶縁部材20を、電子部品10と共にバレル3内に収容する。 - 特許庁

To provide a method for producing an electroplated steel sheet which realizes low voltage operation and/or high current density plating.例文帳に追加

低電圧操業および/または高電流密度めっきが可能となる電気めっき鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic substrate in which there is no plating adhesion and cracks of substrate, and there is no residue of a resist component.例文帳に追加

めっき付着や基板のわれがなく、レジスト成分が残留しない、セラミック基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A 1st spiral layer of a conductor coil 2a of Cu or the like is formed on a magnetic gap film 14 by a plating method.例文帳に追加

磁気ギャップ膜14の上にCu等の渦巻状の一層目の導体コイル2aをめっき法で形成する。 - 特許庁

The upper shielding layer 8, the magnetism shielding layer 9 and the lower magnetic pole layer 10 are continuously formed by a plating method.例文帳に追加

上部シールド層8、磁気遮断層9および下部磁極層10は、めっき法によって連続的に形成される。 - 特許庁

HIGH STRENGTH HOT DIP GALVANIZED STEEL SHEET HAVING EXCELLENT PLATING ADHESION ON HIGH WORKING AND EXCELLENT DUCTILITY, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高加工時のめっき密着性および延性に優れた高強度溶融Znめっき鋼板及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GALVANNEALED STEEL SHEET WHICH IS COMPOSED OF EXTRA LOW CARBON STEEL AS BASE METAL AND HAS EXCELLENT PLATING ADHESIVENESS例文帳に追加

極低炭素鋼を母材とするめっき密着性に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a thin spherical fence disposition substrate, which has high electrical characteristics and on which a thick plating layer can be formed.例文帳に追加

大きな電気特性を有し、厚いメッキ層が形成できる薄型球柵陣列基板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic laminated electronic component having no disadvantage due to defective plating or the like and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

めっき不良等による不都合の生じないセラミック積層電子部品およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

By this film-formation method, under the Cu seed film 10 and the Cu plating film 11, always the barrier metal film 9 is present.例文帳に追加

これにより、Cuシード膜10及びCuめっき膜11の下には、必ずバリアメタル膜9が存在することになる。 - 特許庁




  
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