「reference marks」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A document 12 to be inserted is provided with alignment reference marks 121a, 122a, and set range marks 121b, 122b in front and rear thereof wherein the set range marks 121b, 122b are printed with drop out color.例文帳に追加

挿入される帳票１２には、位置合せの基準となる基準マーク１２１ａ、１２２ａ及びその前後にセット範囲マーク１２１ｂ、１２２ｂが設けられ、このセット範囲マークはドロップアウトカラーで印刷されている。 - 特許庁

To provide a mounting method of an electronic component correctly image-recognizing positions of respective position reference marks attached to a board by separately imaging the plurality of position reference marks by a plurality of cameras; and a surface mounting machine.例文帳に追加

複数個の位置基準マークを複数台のカメラにより分担して撮影し、基板上に付された各位置基準マークの位置を正確に画像認識する電子部品の実装方法、及び表面実装機を提供する。 - 特許庁

When a wobble signal corresponding to the wobble shape of the track is detected, influence of the reference marks can be easily reduced, since the reference marks corresponds to the period of the wobbling along the track.例文帳に追加

さらに、基準マークとトラックの蛇行の周期とが対応関係を有しているため、トラックの蛇行形状に対応するウォブル信号を検出する際に、基準マークの影響を容易に低減することが可能となる。 - 特許庁

Alignment of the wafer holder 2 is completed by moving the wafer holder stage 5 so that the reference marks 3a and 3b come to reference positions.例文帳に追加

そして、この基準マーク３ａ、３ｂが基準位置に来るようにウェハホルダステージ５を移動させることにより、ウェハホルダ２の位置合わせが完了する。 - 特許庁

With both of the ends of one specific side of the R-face sapphire substrate 1 respectively as reference points, marks 2a and 2b are given, and the side 3 is designated to be a reference side.例文帳に追加

かかるＲ面サファイア基板１の特定の１つの辺３の両端部を夫々基準点としてマーク２ａ，２ｂを付け、辺３を基準辺とする。 - 特許庁

The position of the wafer holder stage 5 is stored in a nonvolatile memory medium when the reference marks 3a and 3b come to the reference positions.例文帳に追加

この実施の形態においては、基準マーク３ａ、３ｂが基準位置に来たときのウェハホルダステージ５の位置を不揮発性記憶媒体中に格納する。 - 特許庁

To put it in the concrete, reference arrow marks 46 and 48 are displayed and a plurality of timing guide arrow marks 50 and 62 gradually approaching the reference arrow marks 46 and 48 are displayed on a game screen 40 to guide a state where the timing of a step comes gradually to the player.例文帳に追加

具体的には、基準矢印マーク４６，４８を表示するとともに、ゲーム画面４０において該基準矢印マーク４６，４８に徐々に接近する複数のタイミング案内矢印マーク５０，６２を表示して、ステップのタイミングが徐々に到来する様子をプレイヤに案内する。 - 特許庁

To be concrete, reference arrow marks 46, 48 are displayed, in a game display screen 40, and a plurality of timing guide arrow marks 50, 62 gradually approaching the reference arrow marks 46, 48 are displayed to guide the condition where the step timing gradually comes to the players.例文帳に追加

具体的には、基準矢印マーク４６，４８を表示するとともに、ゲーム画面４０において該基準矢印マーク４６，４８に徐々に接近する複数のタイミング案内矢印マーク５０，６２を表示して、ステップのタイミングが徐々に到来する様子をプレイヤに案内する。 - 特許庁

A reference position is set at the end part of the scannable range of an ink jet carriage and marks for detecting the reference position are put at the operating position of the ink carriage and at a predetermined position (of distance X from the reference position) on a timing fence provided with pitch marks for speed control.例文帳に追加

インクキャリッジの走査可能範囲の端部の基準位置を設置し，インクキャリッジの動作の位置，速度制御に用いる等ピッチマークが施されたタイミングフェンス上の所定位置（上記基準位置からＸの距離）に基準位置検出マークを設ける。 - 特許庁

Then, reference data are created by associating the position of the internal electrode 21 with the positions of the positioning marks 23 and 25.例文帳に追加

次に、内部電極２１の位置と、位置決めマーク２３、２５の位置とを関連付けた参照データを作成する。 - 特許庁

The substrate is aligned so that the alignment marks match the reference image or the new mark image by the comparison results.例文帳に追加

比較結果によって、整列マークが基準イメージ又は新しいマークイメージに相応するように基板を整列する。 - 特許庁

(b) by reference to relevant information about the matter that is held in the Trade Marks Office.例文帳に追加

(b) 商標局が当該事項に関して保有する関連する情報を参照して、決定することができる。 - 特許庁

The liquid crystal display cell 10 is provided with reference marks 11 to 14 for the cell indicating the position of its display area 16.例文帳に追加

液晶表示セル１０にその表示エリア１６の位置を示すセル用基準マーク１１〜１４を設ける。 - 特許庁

The printing means 10a of a first color provides a plurality of reference register marks 40a to a printing substrate W.例文帳に追加

第１色目の印刷手段１０ａは複数の基準の見当マーク４０ａを印刷基板Ｗに付ける。 - 特許庁

To provide a mark examination method capable of easily determining a reference pattern in examining various marks.例文帳に追加

異なるマークを検査する際にも容易に基準パターンを設定することができるマーク検査方法を提供する。 - 特許庁

Reference marks are added with predetermined time intervals to image data forming the program data.例文帳に追加

番組データを構成する映像データには、予め定められた時間間隔で付加される基準マークが付加されている。 - 特許庁

The image of a reference wafer SW for calibration, on which first reference marks (FSMa, FSMb and FSMc) including first marks (FTMa, FTMb and FTMc) having plural configuration feature points and second marks (STMa, STMb and STMc) for specifying the positions of the configurational feature points in the first marks (FTMa to FTMc) are formed is photographed with an imaging device which calibrates the position detector.例文帳に追加

複数の形状特徴点を有する第１マーク（ＦＴＭａ，ＦＴＭｂ，ＦＴＭｃ）と、形状特徴点それぞれの前記第１マーク内における位置を特定するための第２マーク（ＳＴＭａ,ＳＴＭｂ,ＳＴＭｃ）とを含む第１基準マーク（ＦＳＭａ，ＦＳＭｂ，ＦＳＭｃ）が形成された較正用基準ウエハＳＷを、位置検出装置を較正する撮像装置によって撮像する。 - 特許庁

A reference mark group 20, consisting of a plurality of reference marks 16 can be displayed, while being superimposed on the image drawing screen 14, and a distance between the reference marks 16 and 16 is set sufficiently wide, while the reference mark group 20 can be moved as a whole to an optional position on the image drawing screen 14.例文帳に追加

作図用画面１４上に重畳させて、複数の基準マーク１６からなる基準マーク群２０を表示可能とするとともに、その基準マーク１６・１６間の間隔を十分大きく設定する一方、基準マーク群２０を全体として、作図用画面１４上で任意位置に移動可能とする。 - 特許庁

An exposure device 1 uses at least one alignment mark 45 formed on a mask M and comprises: a reference bar 51 having a plurality of reference marks 55 corresponding to the alignment mark 45 of each mask M; and at least one camera 59 for imaging the reference marks 55 of the reference bar 51, and the alignment mark 45 of the mask M.例文帳に追加

露光装置１は、マスクＭに少なくとも１つのアライメントマーク４５が形成されており、各マスクＭのアライメントマーク４５にそれぞれ対応する複数の基準マーク５５が設けられた基準バー５１と、基準バー５１の基準マーク５５とマスクＭのアライメントマーク４５とを撮像する少なくとも１つのカメラ５９と、を有する。 - 特許庁

This drawing aparatus 10 is provided with: an optical unit 12 which can draw circuit patterns and reference marks on the front surface and the back surface of a substrate S; and CCD cameras 20, 22 for measuring the relative positions of the reference marks P1, P2.例文帳に追加

描画装置１０は、基板Ｓの表面および裏面に回路パターンおよび基準マークを描画可能な光学ユニット１２と、基準マークＰ１、Ｐ２の相対位置を測定するためのＣＣＤカメラ２０、２２とを備える。 - 特許庁

The credit memory is provided with a monitor means that includes a reference memory, an event detector that generates marks to be written in the reference memory and the credit memory, and a comparison means that compares the marks used to confirm the credit memory.例文帳に追加

クレジットメモリには、基準メモリと、上記基準メモリと上記クレジットメモリに書き込まれるマークを形成する事象検出器と、クレジットメモリを確認するために使用されるマークを比較する比較手段を含むモニタ手段が設けられる。 - 特許庁

Conductive patterns 12 may not be formed previously to sections corresponding to the reference-place marks 17 and 17 by resist patterns when the conductive patterns 12 containing the lands 16 and 16 are formed in the formations of such reference-place marks 17 and 17.例文帳に追加

こうした基準位置マーク１７，１７の形成は、ランド部１６，１６を含む導電パターン１２の形成時に、レジストパターンでこの基準位置マーク１７，１７に相当する部分に導電パターン１２が形成されないようにしておけばよい。 - 特許庁

And, a reference position determining part 53 finds the reference position to a plurality of FPC on the conveyance tray 8, based on a plurality of object marks, in which the object mark which produces the position deviation is excepted from the four object marks.例文帳に追加

そして、基準位置決定部５３では４個の対象マークから位置ズレが生じた対象マークを除外した複数の対象マークに基づいて搬送用トレイ８上の複数のＦＰＣに対する基準位置が求められる。 - 特許庁

The coding pattern comprises a plurality of reference positions, each of the plurality of marks being associated with a reference position and the value of each mark being determined by its location relative to its reference position.例文帳に追加

符号化パターンは、複数の基準位置を備えており、前記マークのそれぞれは、複数の基準位置の１つに関連付けられ、各マークの値は、その基準位置に対するその位置によって決定される。 - 特許庁

Cutting reference marks 11 as the places of cutting references are projected and formed on the external surface sides of resin insulating layers 5 on the upper side (the surface side) of reference holes 10 formed in a concentric shape with the reference holes 10 (center lines 50).例文帳に追加

基準孔１０（中心線５０）と同心状でその上方側（表面側）の樹脂絶縁層５の外面側に、切断基準位置となる切断基準マーク１１が突出形成されている。 - 特許庁

The inside of the area to be machined is machined based on the positional information of the reference mark corresponding to the area to be machined arranged in the machinable area; the positions of the reference marks corresponding to other areas to be machined later are measured and the positional information of the reference marks is stored.例文帳に追加

加工可能領域内に配置された被加工領域に対応する基準マークの位置情報に基づいて、当該被加工領域内の加工を行うとともに、後に加工すべき他の被加工領域に対応する基準マークの位置を計測し、当該基準マークの位置情報を記憶する。 - 特許庁

An application shall not be rejected with reference to the registration hindrances mentioned in section 14(iv), (v) and section 15 of the Trade Marks Act. 例文帳に追加

出願は，商標法第14条(iv)及び(v)並びに第15条に記載する登録障害の関連では拒絶されない。 - 特許庁

"The reference position" means a position where the added value of the positional deviation between the respective marks 119 in every color mark group reaches a prescribed value.例文帳に追加

「基準位置」とは、各色ごとのマーク群の各マーク１１９との位置偏差の合算値が所定値となる位置である。 - 特許庁

The shapes of the outer side surfaces of the side panel 1 and side door 2 including the reference marks are measured by the scanner 4 of a three-dimensional digitizer.例文帳に追加

基準マークを含むサイドパネル１とサイドドア２の外側面形状を三次元デジタイザのスキャナ４で測定する。 - 特許庁

The reference position marks formed on the optical elements 131a, 131b are imaged with a CCD imaging element, using a microscope 190 and calculates the direction and distance to move from the images of those marks.例文帳に追加

移動方向、距離は光学素子１３１ａ，１３１ｂのそれぞれに形成した位置基準マークを顕微鏡１９０を用いてＣＣＤ撮像素子で撮像し、マーク像から算出する。 - 特許庁

Near the end part of the surface of the work 10, reference marks 21 for position regis ration are previously formed, and marks 22 for position registration are previously formed on the back face of the printing plate 1.例文帳に追加

ワーク１０の表面の端部付近には、位置合わせ用に複数の基準マーク２１が予め形成され、版１の裏面には、複数の位置合わせマーク２２が予め形成されている。 - 特許庁

Then, the luminance of the reference arrow marks 46 and 48 of the timing guide arrow marks 50 and 62 is varied based on the result of evaluation to the step of each player to vary the guiding level.例文帳に追加

そして、タイミング案内矢印マーク５０，６２の基準矢印マーク４６，４８への輝度を、各プレイヤのステップに対する評価結果に基づいて変化させ、以て案内レベルを変化させる。 - 特許庁

A column of recording marks is formed on the optical disk by changing the recording power to decide whether a slice level produced in accordance with the column of these recording marks is corresponded to a predetermined reference, or not.例文帳に追加

記録パワーを変化させて光ディスクに記録マークの列を形成し、この記録マークの列に基づいて生成されるスライスレベルが所定の基準と対応するか否かを判定する。 - 特許庁

To show the first and second players the timings, at which the game operations should be made, separately, reference arrow marks 46 and 48 and a specific timing guide arrow mark 61 so arranged as to gradually approach the reference arrow marks 46 and 48 are displayed.例文帳に追加

第１及び第２のプレイヤのそれぞれに対してゲーム操作をすべきタイミングを案内するため、基準矢印マーク４６，４８と、それら基準矢印マーク４６，４８に徐々に接近する特殊タイミング案内矢印マーク６１と、を表示する。 - 特許庁

Reference marks can be accurately detected without being affected by wobbling by forming a plurality of prescribed reference marks CM together with the ternary or more multi-valued information corresponding to a period Twbl of wobbling along a track.例文帳に追加

３値以上に多値化された情報とともに、複数の所定の基準マークＣＭをトラックの蛇行の周期Ｔwb1と対応関係を有して形成することにより、蛇行の影響を受けることなく基準マークを精度良く検出することができる。 - 特許庁

Reference marks can be accurately detected without being affected by wobbling by forming a plurality of prescribed reference marks CM together with the ternary or more multi-valued information corresponding to a period Twbl of wobbling along a pit column.例文帳に追加

３値以上に多値化された情報とともに、複数の所定の基準マークＣＭをピット列の蛇行の周期Ｔwb1と対応関係を有して形成することにより、蛇行の影響を受けることなく基準マークを精度良く検出することができる。 - 特許庁

A drawing position correcting means 54 detects the positions of the plurality of reference marks, acquires detection position information showing the positions of the reference marks, and corrects the drawing positions of the plurality of drawing regions based on the reference mark position information, drawing position information, reference mark correspondence information and detection position information.例文帳に追加

描画位置補正手段５４は、前記複数の基準マークの位置を検出して当該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、前記基準マーク位置情報、前記描画位置情報、前記基準マーク対応情報、及び前記検出位置情報に基づいて、前記複数の描画領域の描画位置を補正する。 - 特許庁

To provide a drawing device, a program, and a drawing method for detecting each of positions of two kinds or more of reference marks on the same substrate and applying amount of correction obtained from the result of detection of the same kind of reference marks to different kinds of reference marks to evaluate the amount of correction to detect the errors having the same tendency easily and correct them properly.例文帳に追加

同じ基板について２種類以上の基準マークの位置を各々検出し、同じ種類の基準マークの検出結果から求めた補正量を、異なる種類の基準マークに適用して補正量を評価することで、同じ傾向を有する誤差を容易に検出して適正な補正を行うことができる、描画装置、プログラム及び描画方法を提供する。 - 特許庁

An encoding pattern is provided with a plurality of reference positions; each of plural marks is associated with one of the reference positions; and the value of each mark is determined from the position of the mark relative to the reference position.例文帳に追加

符号化パターンは、複数の基準位置を備えており、複数のマークのそれぞれが１つの前記基準位置に関連付けられ、前記各マークの値がその基準位置に対するその位置によって決定されている。 - 特許庁

Then, the sheet laminate 10 is cut based on the verification results of the positions of the positioning marks 23 and 25 with the reference data.例文帳に追加

次に、位置決めマーク２３、２５の位置を参照データと照合した結果に基づいてシート積層体１０を切断する。 - 特許庁

To provide a surface mounting machine shortening tact time while imaging a required number of reference marks; and an electronic component mounting method.例文帳に追加

基準マークを必要数、撮影しつつも、タクトタイムを短縮する表面実装機、及び電子部品実装方法を提供する。 - 特許庁

Plural reference marks 47 are arranged on the peripheral face of a transfer belt 41 being a rotator with unequal intervals in the traveling direction.例文帳に追加

回動体である転写ベルト４１の周面に、その走行方向に不等間隔で基準マーク４７を複数設けておく。 - 特許庁

To provide a reference plate, capable of accurate and stable detection of marks, even with short wavelength observational light.例文帳に追加

短波長の観察光を用いても高精度なマーク検出を安定して行える長寿命な基準プレートを提供する。 - 特許庁

The level gauge body 24 is provided with reference marks 26a, 26b indicating the lower limit water level and upper limit water level respectively.例文帳に追加

レベルゲージ本体２４には、下限水位及び上限水位をそれぞれ表す基準マーク２６ａ及び２６ｂが設けられる。 - 特許庁

Holes in which metal thin-films are removed may be formed in the lands 16 and 16 as the metal thin-films in the reference-place marks 17 and 17.例文帳に追加

基準位置マーク１７，１７は、金属薄膜であるランド部１６，１６の中に、金属薄膜が除かれた穴であればよい。 - 特許庁