「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CALIBRATION SAMPLE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND ITS METHOD例文帳に追加

校正サンプル、パターン検査装置および方法 - 特許庁

ASSIST PATTERN DISCRIMINATOR, ASSIST PATTERN DISCRIMINATING METHOD AND INSPECTION DEVICE OF SAMPLE例文帳に追加

アシストパターン識別装置、アシストパターン識別方法及び試料検査装置 - 特許庁

To improve pattern inspection accuracy for an inspection sample.例文帳に追加

被検査試料のパターン検査の精度を高めること。 - 特許庁

A level value of each sample in the pattern is varied.例文帳に追加

パターン内にあるそれぞれのサンプルのレベル値が変化する。 - 特許庁

Measuring pattern data for acquiring measured pattern data of the pattern of the sample to be inspected is compared with developing pattern data for generating the developing pattern data corresponding to the measuring pattern data from design data of the sample to be inspected, so as to detect the defect of the pattern of the sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

A sample pattern sampling part 130 instructs a display device 20 to make a prescribed gesture, and stores an analysis pattern obtained at the time in a sample pattern storage part 150 as a sample pattern of the gesture.例文帳に追加

サンプルパターン採取部１３０は、ディスプレイ装置２０に所定のジェスチャーを行うよう指示を出し、その時に得られた解析パターンを当該ジェスチャーのサンプルパターンとしてサンプルパターン格納部１５０に格納する。 - 特許庁

PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD, AND INSPECTION OBJECT SAMPLE例文帳に追加

パターン検査装置、パターン検査方法、及び検査対象試料 - 特許庁

CONTROLLER AND DISPLAY DEVICE FOR SAMPLE PATTERN PROVIDING SYSTEM例文帳に追加

サンプルパターン提供システム用制御装置及び表示装置 - 特許庁

A Penrose tile pattern transferring device 1 transfers a Penrose tile pattern to a sample LSU 21.例文帳に追加

ペンローズタイルパタン転写装置１にて試料ＬＳＩ２１にペンローズタイルパタンを転写する。 - 特許庁

MASK PATTERN, EVALUATION SAMPLE MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EVALUATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR EVALUATION SAMPLE例文帳に追加

マスクパターン、半導体装置の評価サンプル作成方法および半導体評価サンプルの評価方法 - 特許庁

DETECTION METHOD OF PERIODICAL PATTERN, AND PHOTOGRAPHING METHOD OF SAMPLE IMAGE例文帳に追加

周期パターンの検出方法及び試料画像の撮影方法。 - 特許庁

To improve the yield of a sample formed with a pattern.例文帳に追加

パターンを形成した試料の歩留まりを向上することにある。 - 特許庁

The surface of the sample object 2 and/or the sample portion 4 has a decoration portion 8 formed for sterically producing a first pattern 10a and a second pattern 10b of a pattern layer 10 which is printed on the sample object 2 and/or sample portion 4.例文帳に追加

また、見本体２及び/又は見本部４の表面には、該見本体２及び/又は見本部４に印刷された模様層１０の第１模様１０ａと第２模様１０ｂを立体的に現出する装飾部８が形成されている。 - 特許庁

A sample movement process is performed on a current sample in the first prediction pattern to change a current position of the current sample in the first prediction pattern.例文帳に追加

サンプルの移動処理が、最初の予測パターン内の対象のサンプルに対して実行され、最初の予測パターン内にある対象のサンプルの現在の位置を変化させる。 - 特許庁

The generated pattern sample is collated with a reference pattern to determine the authenticity of the object.例文帳に追加

そして、生成したパターンサンプルを基準パターンと照合して、対象物の真偽を判定する。 - 特許庁

To provide a sample separation and suction instrument, providing a sample suction pattern of high resolving power.例文帳に追加

分解能の高いサンプル吸着パターンを得ることができるサンプル分離吸着器具を提供する。 - 特許庁

A differential device 24 calculates a difference between an additional value of adding sample data, which are obtained by sampling an eye pattern with a Sample CLK, by four and a value obtained by delaying the additional value by one Sample CLK.例文帳に追加

差分器２４は、アイパタンをSample CLKでサンプリングして得られるサンプル・データを４個ずつ加算した加算値と該加算値を１Sample CLK分遅延した値との差分を求める。 - 特許庁

A circular pattern is formed around the rotation center of a sample 7.例文帳に追加

試料７の回転中心付近には、円形パターンが形成されている。 - 特許庁

XY COORDINATE CORRECTION DEVICE AND METHOD IN SAMPLE PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

試料パターン検査装置におけるＸＹ座標補正装置及び方法 - 特許庁

SAMPLE CHAMBER FOR GAS EXHAUSTION AND CIRCUIT PATTERN FORMING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

気体排気用試料室及びそれを用いた回路パターン形成装置 - 特許庁

To accurately plot a pattern on a sample by correcting the irradiation position of electron beams which are irradiated on the sample.例文帳に追加

試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。 - 特許庁

To easily detect a local CD error of a pattern of a sample to be inspected.例文帳に追加

検査対象試料のパターンのローカルＣＤエラーを簡単に検出する。 - 特許庁

To enhance a function for detecting a defect of a pattern of a sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの欠陥を検出する機能を高めること。 - 特許庁

To find the film thickness distribution of a sample at a high speed without positioning points of measurement and a specific pattern on the sample in finding the in-plane film thickness distribution of the sample by measuring the film thickness of the sample after CMP processing.例文帳に追加

ＣＭＰ加工後、膜厚を計測し面内膜厚分布を求める際、試料上の測定個所及び、特定パターンの位置決めすることなしに高速に膜厚分布を求める。 - 特許庁

A sample image for forming a sample image is formed from a signal obtained from a part irradiated with charged particle beams in the sample, and the pattern density of the formed sample image is calculated.例文帳に追加

本発明では、試料の荷電粒子線の照射個所から得られる信号から試料の画像を形成する試料像形成し、形成された試料画像のパターン密度を算出する。 - 特許庁

When this household appliance control system is switched to a crime prevention mode by an operation panel 22, etc., a presence production system control part 44 acquires the sample pattern from the sample pattern storage part 42 and transmits control signals to each household appliance according to the acquired sample pattern.例文帳に追加

操作パネル２２等で防犯モードに切替られると、在宅演出システム制御部４４はサンプルパターン記憶部４２からサンプルパターンを取得し、取得したサンプルパターンに従って各家電機器に制御信号を送信する。 - 特許庁

Then a communication part 5 downloads the sample patterns, etc., from the outside and the latest sample pattern or the sample patterns other than those owned by the user can be available.例文帳に追加

さらに、通信部５により、見本パターン等を外部からダウンロードして、最新の見本パターンや自分のところに無い見本パターンを利用可能とする。 - 特許庁

A synchronous PR pattern register 9 has the sample value data after an ideal synchronous pattern has been converted by PR-processing.例文帳に追加

同期ＰＲパターンレジスタ９は、理想の同期信号パターンをＰＲ処理で変換後のサンプル値データを有する。 - 特許庁

A coherent light is made incident on the sample, and a diffraction pattern may at times be detected.例文帳に追加

コヒーレント光がサンプルに入射し、回折パターンが検出されることがある。 - 特許庁

In the S/N matching pattern, a pattern where it is possible to jump from an arbitrary sample point to a next SP pass processing target sample point is set, thus jumping to the next SP pass processing target sample point according to a jump address value obtained from a pattern that coincides with the current S/N matching pattern.例文帳に追加

このＳ／Ｎマッチングパターンは、任意のサンプル点から次のＳＰパス処理対象サンプル点にジャンプ可能な場合におけるパターンが設定されたものであり、現在のＳ／Ｎマッチングパターンと一致するパターンから得られたジャンプアドレス値により、次のＳＰパス処理対象サンプル点にジャンプする。 - 特許庁

In the digital audio data inspection device 1, a test signal generating means 3 repeatedly generates a specific test signal pattern; the equipment 2 to be inspected records/reproduces the pattern as a digital audio signal; a sample data synchronizing means 7 makes the reproduced sample data a sample data pattern synchronized with the test signal pattern; and a sample data comparison means 8 compares the sample data with the test signal pattern.例文帳に追加

デジタルオーディオデータ検査装置１は、試験信号発生手段３によって、特定の試験信号パターンを繰り返し発生させ、デジタルオーディオ信号として、被検査機器２で収録・再生し、サンプルデータ同期手段７によって、その再生されたサンプルデータを、試験信号パターンに同期させたサンプルパターンとし、サンプルデータ比較手段８によって、サンプルパターンと試験信号パターンとの比較を行うことを特徴とする。 - 特許庁

Inside/outside pattern defining information that defines the inside and outside of a pattern formed on a sample object is generated by thinning design data for generating a sample pattern.例文帳に追加

検査対象試料を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、対象試料上に形成されたパターンの内側と外側を規定するパターン内外規定情報を生成する。 - 特許庁

The output of an FRO sampler 110 is coupled with the input of a sample storage medium 120, and a pattern detection logic couples the sample storage medium with one or more pattern detectors 130, in terms of the operation for accessing a sample or acquire the sample.例文帳に追加

ＦＲＯサンプラー１１０の出力がサンプルストレージメディア１２０の入力にカップリングされ、パターン検出ロジックが、サンプルストレージメディアを１つ以上のパターン検出器１３０に作動上カップリングしてサンプルにアクセスし又はサンプルを入手する。 - 特許庁

The surface electrode layer 20 of the sample 14 is formed in a fine electrode pattern and when light is projected upon the layer 20 from a spot above the sample 14, the light reaches the sample 14 through the void sections (through which the sample is exposed) of the electrode pattern.例文帳に追加

試料１４の表面電極層２０は微細な電極パターンからなり、試料１４の上方から光を照射すると、微細な電極パターンの隙間の部分（試料が露出している部分）から光が試料１４に到達する。 - 特許庁

A sample preparing means 14 extracts a sample pattern 12 from the objective area 27 assigned by the area assigning information input from the area assigning information input means 23 to prepare the sample 26 including the sample pattern 12.例文帳に追加

サンプル作成手段１４は、領域指定情報入力手段２３から入力した領域指定情報によって指定された対象領域２７からサンプル図形１２を抽出して、このサンプル図形１２を含むサンプル２６を作成する。 - 特許庁

To provide a sample object device and a sample object method which can conveniently find an object pattern existing in the repeated pattern group of a semiconductor element and perform positioning.例文帳に追加

半導体素子の繰返しパターン群中に存在する対象パターンを簡便に見つけられ、位置決めできる試料対象装置および試料対象方法を提供する。 - 特許庁

An image processing procedure designing means 25 constitutes a processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12, based on the original image 11 and the sample 26.例文帳に追加

画像処理手順設計手段２５は、原画像１１およびサンプル２６に基づいて、前記サンプル図形１２に近い図形を抽出するための処理手順を構成する。 - 特許庁

To provide a pattern image of a sample with improved resolution with a simple device configuration.例文帳に追加

簡易な装置構成で分解能が向上された試料のパターン像を得ること。 - 特許庁

A processing equipment 10 compares the correction object pattern with the sample pattern to extract consistent parts and inconsistent parts.例文帳に追加

処理装置１０が、雛形パターンと補正対象パターンとを比較して、一致部分と不一致部分とを抽出する。 - 特許庁

This device acquires a sample of the feature vector of the pattern, belonging to the class for each of the classes, in executing pattern recognition (S110).例文帳に追加

本装置は、パターン認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

To apply a conventional rule-based OPC method to a correction object pattern when no sample pattern is prepared that matches the correction object pattern.例文帳に追加

補正対象パターンに一致する雛形パターンが準備されていない場合には、補正対象パターンに、従来のルールベースＯＰＣ手法を適用しなければならない。 - 特許庁

In measuring a sample to be tested, the flatness of the sample is measured to detect a magnitude and a pattern of warping of the sample to be tested.例文帳に追加

検査対象の試料を測定する場合には、検査対象の試料の平坦度を測定し、検査対象の試料の反りの大きさ及び反りのパターンを検出する。 - 特許庁

To provide a sample image length measurement method by which the length measurement can be quickly performed by performing a matching of a standard image and a pattern of the sample image, with respect to a sample.例文帳に追加

試料について、基準画像と試料像のパターンとのマッチングを行って迅速に測長を行うことができる試料像測長方法を提供する。 - 特許庁

The labor and time required for preparing the sample 26 are reduced since the sample preparing means 14 extracts the sample pattern 12 from the objective area 27 by this manner.例文帳に追加

前述のようにサンプル作成手段１４が対象領域２７からサンプル図形１２を抽出するので、サンプル１６の作成に要する手間を低減することができる。 - 特許庁

To enable high-speed high-performance image quality improving processing according to pattern shapes or sample characteristics.例文帳に追加

パターンの形状や試料特性に応じて，高速・高性能な画質改善処理を行う。 - 特許庁