「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a sample-such as a food sample, an imitation, and an ornament-by imitating the three-dimensional shape, curved surface, concavity/convexity, hue, pattern, gloss and the like of a real product.例文帳に追加

本発明は、食品サンプル、擬似見本及び装飾品等において、本物の製品の立体形状や曲面や凹凸並びに色相や模様及び光沢等を似せてサンプル品を製造する方法に関する。 - 特許庁

A charged particle beam system is provided, wherein when a sample has repeated cells, a scale pattern corresponding to the cells is created and superimposed on an image of the iterative cells of the sample, thereby specifying a target cell.例文帳に追加

本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。 - 特許庁

The voltage of the power source 29 is set so as to be lower than that of a power supply 30 for the sample 18, thereby the energy filter effect of a secondary electron can be given and a potential contrast of a pattern on the sample can be evaluated.例文帳に追加

電源２９の電圧を、試料１８用の電源３０の電圧よりも低くすることにより、２次電子のエネルギーフィルタ効果を持たせることができ、試料上のパターンの電位コントラストも評価できる。 - 特許庁

To provide a charged potential voltage measuring function for accurately measuring a potential voltage charged on an insulating body of a sample, and to provide a system for precisely measuring a pattern on the sample using information about charged potential which is measured.例文帳に追加

試料の絶縁体に帯電した帯電電位をより正確に測定する帯電電位測定機能、及び測定した帯電電位の情報を用いて試料上のパターンを高精度に計測するシステムを提供する - 特許庁

The electron beam drawing device includes an electron gun which emits an electron beam, a holder which holds a sample to be drawn where a pattern is drawn with the electron beam, and a control section which corrects a drawing position according to the height of the sample.例文帳に追加

電子線描画装置は、電子線を放出する電子銃と、電子線によりパターンが描画される被描画試料を保持するホルダーと、試料の高さに応じて描画位置を補正する制御部とを有する。 - 特許庁

To provide method and device especially suitable for determining irregularity of line & space pattern formed on sample.例文帳に追加

本発明の目的は、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供することにある。 - 特許庁

The defect inspection apparatus is characterized by the direction of a pattern; the direction of the projection of illumination light to a sample, and the polarization of the illumination light.例文帳に追加

本発明の特徴は、パターンの方向と、照明光の試料への射影の方向と照明光の偏光に着目したことにある。 - 特許庁

To provide an X-ray fluorescence analyzer for semiconductor capable of analyzing a semiconductor sample at a low cost without incurring damage to a circuit pattern.例文帳に追加

低コストで、回路パターンに損傷を与えることなく、半導体試料を分析できる半導体用蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

Calibration work is executed accurately and surely because the direction of the diffraction grating pattern is able to be surely determined to attach the chip onto a sample table.例文帳に追加

回折格子パターン方向を確実に判定してチップを試料台に取り付けることができるので、校正作業が正確・確実に行える。 - 特許庁

A temperature distribution on a sample when lithography is performed with predetermined multiplicity is predicted, and multiplicity is determined for each pattern based upon the temperature distribution.例文帳に追加

所定の多重度で描画したときの試料上での温度分布を予測し、この温度分布に基づいてパターン毎に多重度を決定する。 - 特許庁

To provide a highly sensitive and high-throughput defect inspection apparatus in defect inspection of a sample in which a pattern is formed such as a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハなどのパターンが形成された試料の欠陥検査において、高感度かつ高スループットの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

An image of the trace where the laser beam 25 passes through the irradiated pattern is transferred to the sample face 103 through the projection lens 17 to fabricate.例文帳に追加

照射されたパターンのレーザービーム２５の通過した軌跡の像を投影レンズ１７を通じて試料面１０３に転写し、加工を行う。 - 特許庁

As textile of hitoe is included in Takakurake choshin hikae gire(Takakura family order sample cloths), the possession of Kokugakuin University, it is with smaller saiwai bishi (a pattern of cloth) than that for adult women. 例文帳に追加

単の生地は國學院大學所蔵高倉家調進控裂にも含まれるが、成人女性用よりは小型の幸菱である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To accurately measure the length of a pattern or the like, formed on a surface of a semiconductor sample or the like regardless of suppression or reduction in the volume.例文帳に追加

半導体試料等の表面に形成されたパターン等の体積減少を抑制、或いは減少に関わらず正確な測長を行う。 - 特許庁

A standard sample 1 for an electric force microscope has known values of potential and shape and includes a substrate 2 made from a dielectric and a conductive electrode pattern 4 formed on the substrate 2, the electrode pattern 4 having a potential pattern whose potential distribution is known and a space pattern whose shape is known.例文帳に追加

電気力顕微鏡用標準試料１は、電位及び形状について既知の値を備える構成として、誘電体からなる基板２と、基板２上に形成される導電性の電極パターン４とを備え、電極パターン４は電位分布を既知とする電位パターン及び形状を既知とする空間パターンとを備える。 - 特許庁

Following means are used, wherein this pattern for strain measurement is formed on a sample surface for visualizing strain of the sample by a strain-measuring method, and a plurality of patterns fit to each strain having each different scale level are formed in piles, on the same sample surface, and each pattern has each different regularity, shape or size mutually.例文帳に追加

上記課題を解決するために、歪み計測用パターンは、歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成され、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してあること、また、前記各パターンは、相互にその規則性、形状又は大きさが異ならせてあることを特徴とする手段を用いた。 - 特許庁

The communication apparatus includes: a memory for holding a waveform table showing sample values of a time waveform about each bit pattern of a bit string of a plurality of bits; a waveform reader for reading a sample value of a time waveform corresponding to a bit pattern of an input bit string from the waveform table; and a converter for converting the read sample value of the time waveform into an analog signal.例文帳に追加

通信装置は、複数ビットのビット列の各ビット・パターンについて、時間波形のサンプル値を示す波形テーブルを保持する記憶手段と、入力ビット列のビット・パターンに対応する時間波形のサンプル値を前記波形テーブルから読み出す波形読み出し手段と、前記読み出した時間波形のサンプル値をアナログ信号に変換する変換手段とを備えている。 - 特許庁

To achieve high-accuracy alignment of a sample and high-sensitivity inspection for a semiconductor wafer having an alignment mark which is under the condition where the alignment mark is hard to be pattern-matched.例文帳に追加

パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。 - 特許庁

In this method, when operating autofocus, a scanning pattern of an electron beam optimum to operate the autofocus is selected in advance according to the surface structure of a sample 5.例文帳に追加

オートフォーカス動作の際には、あらかじめ試料５の表面構造に応じて、オートフォーカスを行うのに最適な電子ビームの走査パターンの選択が行われる。 - 特許庁

The method and the device are provided for measuring the dimension of a pattern formed on a sample by the scanning with charged particle beams.例文帳に追加

本発明は荷電粒子線の走査によって試料上に形成されたパターンの寸法を測定するパターン寸法測定方法及び装置に関する。 - 特許庁

Thereby, an initial focus of the primary electron beam can be well focused to a requested domain of in the sample surface, and pattern shift phenomenon generation can be reduced.例文帳に追加

これにより、試料表面での所望の領域に１次電子ビームの初期フォーカスを良好に合わせられ、パターンシフト現象発生を減らせる。 - 特許庁

To correct an image with high accuracy in a periphery of an inspected region while eliminating influences of an inspection unnecessary region in a pattern image of an inspection objective sample.例文帳に追加

検査対象試料のパターン画像内の検査不要領域の影響を排除し、検査実行領域周辺について高精度な画像補正をすること。 - 特許庁

Among consistent parts, a first correction is performed based on the correction pattern stored in the sample storage area to parts other than those in need of correction.例文帳に追加

一致部分のうち、要修正部分以外の部分に対して、雛形記憶領域に記憶されている補正パターンに基づいて第１の補正を行う。 - 特許庁

A two-dimensional image of a characteristic pattern R provided on a sample is formed in the field of view V, and the coordinate of the two-dimensional image and a stage is stored.例文帳に追加

試料上に設けられた特徴的なパターンＲの二次元画像を視野Ｖ内に形成し、そのときの二次元画像とステージとの座標を記憶する。 - 特許庁

After inputting required data (S1, S2), an original optical image I_0 is calculated (S4) based on the data of a mask pattern among them and the exposure conditions at the time of sample production.例文帳に追加

必要なデータを入力し（Ｓ１，Ｓ２）、そのうちマスクパターンのデータとサンプル作製時の露光条件とに基づいて、原光学像Ｉ_０を算出する（Ｓ４）。 - 特許庁

Based on the magnitude and pattern of warping of the sample to be tested and the known critical application voltage, a voltage to be applied to the electrostatic chuck is set up.例文帳に追加

検査対象の試料の反りの大きさ及び反りのパターンと、既知の臨界印加電圧に基づいて、静電チャックへの印加電圧を設定する。 - 特許庁

To provide a dimension analysis program for accurately measuring the roughness of a pattern formed on a sample, and a dimension measurement apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、試料上に形成されたパターンのラフネスを高精度に測定する寸法解析プログラム、及び寸法計測装置の提供にある。 - 特許庁

To enhance throughput by shortening drawing time per total area of a sample without lowering drawing accuracy for pattern regions that require high accuracy.例文帳に追加

高精度の要求されるパターン領域の描画精度を落とすことなく、試料全面当たりの描画時間を短縮することができ、スループットの向上をはかる。 - 特許庁

After that, the color and the pattern of the sample finally selected is printed on a colorless artificial nail sold on a market or a seal having a loading section at the rear face.例文帳に追加

その後、最終的に選択されたサンプルの色及び絵柄を、市販の無色の人工爪または裏面に粘着部を有するシールに印刷する。 - 特許庁

To automatically move a position for focusing a charged beam on a sample from a measuring position, in dimension measurement for a pattern using the charged beam.例文帳に追加

荷電ビームを用いたパターンの寸法測定において、試料上で荷電ビームの焦点合わせを行う位置を測定位置から自動的に移動させる。 - 特許庁

The capturing mechanism enables acquisition of a sample in a designated bit pattern of the data signal 10, no matter whether the data signal 10 is random intrinsically.例文帳に追加

該捕捉機構は、データ信号(10)が本質的にランダムであるか否かにかかわらず、データ信号(10)の指定されたビットパターン内のサンプルの獲得を可能にする。 - 特許庁

To provide a projection exposing machine which can suppress deviation of a superposed pattern of a sample having size variation with processes within a permissible range.例文帳に追加

工程によって寸法変化を示す試料について、重ね合わせたパターンのずれを許容範囲内に収めることが可能な投影露光機を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner and a method for measuring exposure dimensions in which the dimensions of an exposure pattern on a sample can be measured with high accuracy.例文帳に追加

試料上の露光パターンの寸法測定の高精度化を図ることができる荷電粒子線露光装置及び露光寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for measuring the height of a sample which enables measurement of the height (depth) of a pattern having a large aspect ratio.例文帳に追加

本発明は、アスペクト比の大きなパターンの高さ（深さ）測定を実現することが可能な試料高さ測定方法、及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁

When a user clicks a NEXT pattern 34, the image in the selected chapter is randomly captured in a memory and is displayed as a sample image candidate.例文帳に追加

ユーザがＮＥＸＴボタン34をクリックすると、選択中のチャプター内の画像がランダムにメモリにキャプチャされ、それがサンプル画像候補として表示される。 - 特許庁

Next, pattern matching is performed by discretely setting plural sample points on the circumference of a concentric with the center of the extracted rectangular area as a center.例文帳に追加

次に、抽出された方形領域の中心を中心とする同心円の円周上に離散的に複数個のサンプル点を設定しパターンマッチングを行う。 - 特許庁

To easily acquire the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a short time.例文帳に追加

不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を短時間で容易に取得することを実現する。 - 特許庁

A condensing element 160 guides the collimated and reflected optical pattern onto a sample part 300 at an incident angle of a function of the diameter of the optical column.例文帳に追加

集光要素１６０は、コリメートされ反射された光パターンを、その光カラムの径の関数である入射角をもって試料部分３００上に導く。 - 特許庁

To provide a macro inspection apparatus for a sample such as a semiconductor wafer having a pattern formed therein, the macro inspection apparatus being capable of detecting abnormalities in dimension and size with high sensitivity.例文帳に追加

半導体ウェハなどのパターンが形成された試料のマクロ検査装置において、寸法・形状の異常を高感度で検出可能にする。 - 特許庁

Since the widths of electrodes in the electrode pattern are almost equal to the wavelength of the exposing light, the light is diffracted and reaches the sample areas underlying the electrodes.例文帳に追加

電極パターンの電極の幅は照射光の波長と同程度であり、電極の下側の試料領域にも回折現象によって光が回り込む。 - 特許庁

To provide an electron beam measuring technique for inspecting the shape, dimensions, presence of an defect, and the like in regard to a pattern formed on a sample through a multiple exposure method.例文帳に追加

多重露光法により試料上に形成されたパターンの形状、寸法、または欠陥の有無等の検査を行う電子ビーム測定技術を提供する。 - 特許庁

To provide a surface measuring device uninfluenced by a pattern even in the case of a sample having the pattern formed on the surface, capable of realizing a wider effective measuring area compared with a resolution of height information.例文帳に追加

表面にパターンが形成された試料の場合でも前記パターンの影響を受けず、かつ、高さ情報の分解能に比べて広い有効計測面積が可能となる表面測定装置を提供すること。 - 特許庁

Subsequently, pattern outlines are generated by expanding and partitioning regions indicated by the inside/outside pattern defining information with reference to pixel values of an edge emphasized image of a sample object image.例文帳に追加

そして、対象試料画像のエッジ強調画像の画素値を参照しながら、パターン内外規定情報で示される領域を膨張させることにより領域分割を行い、対象試料のパターン輪郭線を生成する。 - 特許庁

To provide molding plastic sheets having a pattern which do not substantially require a draft for forming a pattern and can relieve the burden of the initial investment by a maker when the lot size of products is very small (e.g. a sample product is prepared).例文帳に追加

図柄の形成に版代を実質的に必要とせず、ごく小ロット生産（例えばサンプル品作成）の場合にメーカ側の初期的投資の負担を軽減できる成型用絵柄付きプラスチックシート状物を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device and a drawing method by which a pattern can be accurately and easily drawn even when the drawing region of the drawing pattern to be formed on the surface of a sample is large.例文帳に追加

試料の表面に形成する描画パターンの描画領域が大きい場合でも、描画パターンを正確、かつ容易に描画することができる荷電粒子ビーム描画装置および描画方法を提供する。 - 特許庁