「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The light transmitted by the hologram substrate 3 is imaged in sample liquid 7 retained on the transparent substrate 6 via a projection optical system 4 and, thereby, holograms of various patterns in accordance with the pattern shapes of the hologram substrate 3 are formed in the sample liquid 7.例文帳に追加

ホログラム基板３を通った光は、投影光学系４を介して、透明基板６上に保持された試料液７中で結像され、それによって、ホログラム基板３のパターン形状に応じた様々なパターンのホログラムが試料液７中に形成される。 - 特許庁

To provide a flaw inspection device capable of suppressing the influence of scattered light from the roughness of a sample surface and a normal circuit pattern, and detecting a flaw or the like of the sample surface at high sensitivity by increasing the gain of the scattered light from the flaw or a foreign substance.例文帳に追加

試料表面の面粗さや正常な回路パターンからの散乱光の影響を抑制し、かつ、欠陥や異物からの散乱光の利得を高くして、高感度に試料表面の欠陥等を検出することが可能な欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

A transmitter in this invention is constituted of a fast frequency hopping frequency modulator to convert a data element of a transmission data vector into a transmission signal vector to frequency-hopping by the sample time unit according to a fast frequency hopping pattern of the sample time unit.例文帳に追加

本発明の送信装置は、送信データベクトルのデータ要素をサンプル時間単位の高速周波数ホッピングパターンに従ってサンプル時間単位で周波数ホッピングする送信信号ベクトルに変換する高速周波数ホッピング周波数変調器で構成される。 - 特許庁

Between dense area set on surface of one-end side of the sample object 2 and roughness area set on surface of the other-end side, not only pattern density and color shading vary, but also moire pattern of gradation in which interval between patterns varies is produced.例文帳に追加

つまり、見本体２の一端側表面に設定された密領域と、他端側表面に設定された粗領域との間で、模様密度及び色の濃度が変化するだけでなく、模様の間隔が変化するグラデーションのモアレ模様が現出される。 - 特許庁

Extent of error in the carrying amount of each roller can be judged visually by comparing the test pattern image printed on the sheet with sample images representing the print results of the test pattern image under a plurality of carrying conditions.例文帳に追加

こうして用紙に印刷されたテストパターン画像は、複数の搬送条件でのテストパターン画像の印刷結果を表すサンプル画像と比較することにより、各ローラによる搬送量の誤差の度合いを目視により判断できるようになっている。 - 特許庁

To eliminate the need of considering the influence of mechanical vibration or the like associated with the relative movement of a spatial modulation pattern and to realize high-speed efficient observation in the case of projecting the spatial modulation pattern so that the sectioning image of a sample may be observed.例文帳に追加

空間変調パターンを投影して試料のセクショニング像を観測する際、空間変調パターンの相対的な移動に伴う機械的な振動等の影響を考慮する必要がなく高速で効率的な観察を行うことができる。 - 特許庁

A peak pattern showing the transmittance by the unnecessary component is corrected by using the coefficient Δ (S6), and removal correction of the effect of the unnecessary component included in the sample spectrum and the background spectrum is performed by using the corrected peak pattern (S7).例文帳に追加

そして、その係数Δを用いて、不要成分による透過率を表すピークパターンを修正し（Ｓ６）、修正後のピークパターンを用いて試料スペクトル及びバックグラウンドスペクトルに含まれる不要成分の影響の除去補正を行う（Ｓ７）。 - 特許庁

The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.例文帳に追加

露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁

The filtering processing is used as one of the plurality of processings according to the processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12 from the original image 11 to constitute the processing procedure for generating the highly reliable image.例文帳に追加

前記フィルター処理を、原画像１１からサンプル図形１２に近い図形を抽出する処理手順に従う複数の処理の１つとすることによって、より信頼性の高い画像を生成する処理手順を構成することができる。 - 特許庁

The processing procedure constituted in the image processing procedure design expert system is thereby equal to the processing procedure constituted when the sample pattern 12 is same to the image in the area desired to be extracted from the original image 11, even when the sample pattern 12 is a little bit larger or smaller than the image in the area desired to be extracted, so as to constitute the highly reliable pattern extracting procedure.例文帳に追加

これによってサンプル図形１２が、原画像１１から抽出したい領域の画像よりも多少大きくなる場合、または小さくなる場合であっても、画像処理手順設計エキスパートシステムにおいて構成される処理手順が、サンプル図形が抽出したい領域の画像と同一である場合に構成される処理手順と等しくなり、より信頼性の高い図形を抽出する処理手順を構成することができる。 - 特許庁

The system for testing the semiconductor device comprises the steps of referring to a table 710 of a test pattern signal, by using a test result of a sample testing unit 110, and outputting testing conditions to a wafer level burn-in testing unit 210.例文帳に追加

サンプルテスト試験装置１１０の試験結果を用いて、テストパターン信号のテーブル７１０を参照し、テスト条件をウェハレベルバーンインテスト試験装置２１０に出力する。 - 特許庁

To provide a display method and an evaluation/determination method for an OVD with a pattern or a color varied by an observation direction or an illumination direction, or a sample stuck with the OVD.例文帳に追加

観察方向や照明の方向により図柄や色彩が変化するＯＶＤ又はＯＶＤが貼付されたサンプルの表示方法及び評価・判別方法を提供する。 - 特許庁

An illumination part 7 is arranged so that a striped pattern parallel to the cylindrical body axis is reflected on an imaged image acquired by imaging a cylindrical surface normal part of the cylindrical body inspection sample 1 by a camera 5.例文帳に追加

照明部７は、円筒体被検査試料１の円筒面正常部をカメラ５により撮像した撮像画像に円筒体軸に平行となる縞模様が写るように配置される。 - 特許庁

To pick up an image with high picture quality of even an area where a sufficient signal amount is not easily obtained from a sample, such as a low-layer area of a multilayer and a hole bottom of a hole pattern.例文帳に追加

多層レイヤにおける下層領域やホールパターンの穴底など，試料から十分な信号量が得られにくい領域に対しても高画質である画像を撮像する。 - 特許庁

MASK FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR PRODUCING VAPOR-DEPOSITION PATTERN USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING SAMPLE OF SEMICONDUCTOR WAFER FOR EVALUATION, METHOD FOR EVALUATING SEMICONDUCTOR WAFER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 - 特許庁

To obtain a high MTF improving effect without relying on the direction of the pattern on a sample and to change over the intensity of the MTF while keeping the isotropy of the MTF improving effect.例文帳に追加

試料上のパターンの方向に依存せず大きなＭＴＦ改善効果が得られ、改善効果の強弱をＭＴＦ改善効果の等方性を保ったままで切り換えられるようにする。 - 特許庁

To realize a resist pattern prediction method which does not require much time and effort for preparation, owing to the capability to perform convolution integration based on the result measured with one sample.例文帳に追加

１つのサンプルで測定された結果に基づいて畳み込み積分を行うことができることから、準備に手間と時間が余りかからないレジストパターン予測方法を実現する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus and a plasma treatment method capable of facilitating the fine processing of a fine pattern for a sample having a large diameter, and capable of improving a selection ratio at the time of the fine processing.例文帳に追加

大口径の試料について微細パターンの精密な加工が容易で、また、微細加工時の選択比も向上させたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus and a method of inspecting a surface for quickly determining whether a pattern shape on a sample surface is appropriate without being affected by a change in an environmental temperature.例文帳に追加

試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく短時間で判定できる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。 - 特許庁

The chemical microdevice having a large number of the fine pattern holding parts, which hold the sample on the surface of the plate, formed thereto is obtained by injection molding using a plastic material.例文帳に追加

プラスチック材料を用いた射出成形によって、プレート１０の表面に試料１を保持させる微細パターンの保持部１１が多数形成されてなる化学マイクロデバイスを得るようにした。 - 特許庁

To provide a feature extraction method that can extract features of a waveform pattern present between adjacent sample lines without increasing the number of feature quantities.例文帳に追加

特徴量の数を大きくすることなく、隣接する標本線の間に存在する波形パターンの特徴の抽出等を行うことができる特徴抽出方法を提供することである。 - 特許庁

The method for processing biological samples includes a process to provide a biological sample on a slide, a process to create images of the sample, a process to compare the above images with known information using pattern recognition technique, and a process to interpret these images.例文帳に追加

生物学的標本を処理するための方法であって、スライドに生物学的標本を提供する工程；該標本の画像を作成する工程；パターン認識技術を使用して、該画像を既知の情報と比較する工程；および該画像を解釈する工程、を包含する、方法。 - 特許庁

Then, a plurality of sample points are determined based on straight lines mutually connecting the dividing points on the two opposite sides, and, based on pixel values of these sample points, it is determined whether the predetermined object or pattern is displayed in an area surrounded by the plurality of apexes in the image.例文帳に追加

そして、対向する２辺上の分割点を互いに結んだ直線に基づいて複数のサンプル点を決定し、これらのサンプル点の画素値に基づいて、上記画像における上記複数の頂点で囲まれた領域に所定の物体または図柄が表示されているか否かを判別する。 - 特許庁

The projection of at least two illuminating directions to the sample is vertical or parallel with respect to the orientation of a principal pattern of the sample, and the polarization of illumination light in a first direction and the polarization of illumination light in a second direction are different from each other.例文帳に追加

また、少なくとも２つの照明方向の該試料への射影は該試料の主要なパターンの方向に対して垂直または平行であり、該第１の方向の照明光の偏光と該第２の方向の照明光の偏光は互いに異なることを特徴とする。 - 特許庁

A position relation between an external shape and the crystal orientation of a specimen is clarified by comparative measurement using a reference sample having a clear position relation between the external shape and the crystal orientation on the same sample coordinate, by using a back-scattered electron beam diffraction pattern method (EBSP method).例文帳に追加

後方散乱電子線回折パターン法（ＥＢＳＰ法）を用いて、同じ試料座標上で外形形状と結晶方位の位置関係が明確な基準試料を用いて比較測定する事で、被検体の外形形状と結晶方位の位置関係を明確にする。 - 特許庁

In the three-dimensional sample showing the food sample to be housed in the horizontal rack of the electric appliance for home food, a recessed and projecting picture pattern in the state of a relief three- dimensionally showing food to be housed is formed on a sheet of a size and shape nearly equal to the housing position of the horizontal rack.例文帳に追加

家庭食品用電化製品の水平棚内に収納する食品例を示す立体サンプルであって、水平棚の収納位置にほぼ等しい大きさと形状を持つ大きさのシートに、収納すべき食品を立体的に示すレリーフ状の凹凸絵柄を形成した。 - 特許庁

Estrangement rate is calculated by a load pattern identifying part 3, and adjusted electrical power and a target coefficient are calculated in an adjusted electric power computing part 5 and a target coefficient computing part 7, based on sample data stored in a sample data storing part 2 on service electrical energy in an electric power load.例文帳に追加

サンプルデータ蓄積部２に蓄積された、電力負荷における使用電力量のサンプルデータに基づいて、負荷パターン認識部３で乖離率が算出されると共に、調整電力量演算部５および目標係数演算部７で調整電力量と目標係数が算出される。 - 特許庁

An alienation rate is computed by a load pattern recognition part 3 based on the sample data of the electric power in the power load accumulated in a sample data accumulation part 2, and adjusted electric power and a target coefficient are computed by an adjusted electric power computing part 5 and a target coefficient computing part 7.例文帳に追加

サンプルデータ蓄積部２に蓄積された、電力負荷における使用電力量のサンプルデータに基づいて、負荷パターン認識部３で乖離率が算出されると共に、調整電力量演算部５および目標係数演算部７で調整電力量と目標係数が算出される。 - 特許庁

The group of annotation elements is a pattern of mapped words about a selected ontology corresponding to the input data, a selected ontology concept, a relationship between a word in the sample input data and the selected ontology concept in the selected ontology, and a sample input data structure.例文帳に追加

前記一群の注釈要素が、入力データに対応する選択されたオントロジ、オントロジコンセプト、サンプル入力データ中のワードと選択されたオントロジ中の選択されたオントロジコンセプトとの対応関係、及びサンプル入力データ構造に関するマッピングされたワードのパターンである。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of exposing a side surface of a sample to be exposed with high productivity, applicable to mass production at low cost, and capable of forming a pattern on the side surface of the sample to be exposed with high angular accuracy.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面を高い生産性にて露光でき、安価に量産に適用でき、かつ、被露光試料の側表面に高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供できるようにすることである。 - 特許庁

The spectrum pattern on an MS spectrum is changed by a real time analyzing result: when a rise in the concentration of an impurity component is observed the sample introducing route is changed over and the impurity component is separated by separation part provided on one introducing piping to introduce the sample gas into the ion source.例文帳に追加

リアルタイムの分析結果で、ＭＳスペクトル上のスペクトルパターンが変化し、夾雑成分の濃度上昇が観察されたときに、試料の導入経路を切り替え、もう一方の導入配管に設けておいた分離部で夾雑成分を分離した上で、イオン源に導入する。 - 特許庁

To provide a focused ion beam device for actualizing smooth and automatic processing of a processed pattern by improving the detecting probability of a processed pattern detecting mark and the reproductivity of a processing position, and to provide a sample processing method and program using the same.例文帳に追加

加工パターン検出用のマークの検出確率と加工位置の再現性を向上させ、加工パターンの自動加工を円滑化することができる集束イオンビーム装置、集束イオンビーム装置を用いた試料加工方法及び試料加工プログラムを提供する。 - 特許庁

The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).例文帳に追加

予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁

The unknown and known nucleic acid mutation can be detected rapidly, easily and at a low cost by comparing and collating a Tm value, a Tm pattern and a change thereof of a sample with an obtained existing Tm value, a Tm pattern and a change thereof accumulated as a data base.例文帳に追加

得られた既存のＴｍ値、Ｔｍパターン及びこれらの変化をデータベースとして蓄積し、検体のＴｍ値、Ｔｍパターン及びこれらの変化と比較照合することにより、未知および既知の変異の検出を迅速、容易に、かつ低コストで行うことが出来る。 - 特許庁

In one embodiment, a brightness level is set based on at least one information out of a size of a pattern arranged on the area, a device condition of an image acquiring device, layer information of a sample and line segment information of the pattern, in addition to the information of a material.例文帳に追加

また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 - 特許庁

To provide a sample warping machine and yarn guides designed so that the occurrence of trouble during exchange of yarns is previously avoided and the warping time of warping operations requiring plain warping and pattern warping can be shortened to extremely effectively carry out the warping by newly setting the optimal mode of using the yarn guides in the sample warping machine of the combined type of the pattern warping with the repetitive warping.例文帳に追加

柄整経と反復整経を組み合わせたタイプのサンプル整経機におけるヤーンガイドの使用態様につき最適の態様を新たに設定し、糸交換の際のトラブルの発生を未然に回避し、無地整経と柄整経とを必要とする整経作業の整経時間を短縮して極めて効率よく行うことができるようにしたサンプル整経機及びヤーンガイドを提供する。 - 特許庁

A device includes a light source 14 for irradiating a sample 30 with light; a camera 32 for detecting fluorescence from the sample 30; and a means for determining degreasing uniformity and a degreasing condition of the sample 30 by using at least two indexes, namely, a first index acquired by subjecting a fluorescence intensity distribution to space pattern analysis and a second index acquired, by subjecting the fluorescence intensity distribution to statistical analysis.例文帳に追加

試料３０に光を照射する光源１４と、試料３０からの蛍光を検出するカメラ３２と、蛍光の強度分布を空間パターンの解析で得られる第１の指標と、蛍光の強度分布を統計解析して得られる第２の指標の少なくとも２つの指標を用いて、試料３０の脱脂の均一性及び脱脂の度合いを判定する手段を有する。 - 特許庁

When a sheet-shaped sales promotion object 8 is mounted to the surface of a broad sample 1 installed in a sample display unit Aa of a vending machine A, notched sections 8b, 8a formed at right and left lower edges of the sales promotion object 8 are locked to locking portions 3b, 3a at right and left tops of an overhanging portion 3 corresponding to a projecting printed pattern printed on a sample 2.例文帳に追加

自動販売機Ａの見本陳列部Ａａに設置される幅広型見本１の表面にシート状の販売促進体８を取り付ける際に、販売促進体８の左右下縁部に形成された切欠き部８ａ，８ｂを、見本体２に印刷された山形の印刷パターンと対応する張出し部３の左右山頂部の係止部３ａ，３ｂに係止して取り付ける。 - 特許庁

To provide an inspecting device for semiconductor pattern where, when a semiconductor circuit pattern region of a sample is inspected, a clear contrast between a defective part and a base material is obtained, various patterns of defects, voids and foreign matters of various materials are detected, and the defects are classified using the result of detection of the inspected defects, and a method for inspecting semiconductor pattern.例文帳に追加

試料の半導体回路パターン領域の検査を行う際に、欠陥部と下地で明確なコントラストが得られ、幅広い種類のパターンの欠陥，空隙，各種材質の異物を検出でき、その検査された欠陥検出結果を用いて欠陥を分類することができる半導体パターン検査装置及び半導体パターン検査方法を提供する。 - 特許庁

When the directivity pattern belonging to the other sector is instructed, the DSP 10 generates a parameter corresponding to the directivity pattern for which the directivity pattern is mirror-inverted to perform signal processing and supplies driving signal sample to each speaker unit SP obtained as a result to the speaker unit SP at a position for which the original speaker unit SP is mirror-inverted.例文帳に追加

他方のセクタに属する指向性パターンが指示された場合、ＤＳＰ１０は、この指向性パターンを鏡面反転させた指向性パターンに対応したパラメータを発生させて信号処理を行い、この結果得られる各スピーカユニットＳＰ宛の駆動信号サンプルを、本来のスピーカユニットＳＰを鏡面反転させた位置のスピーカユニットＳＰに供給する。 - 特許庁

A luminance pattern by reflected light or transmitted light for every angle on a preset slice level of the atypical industrial products are pregathered by a reference sample, and is registered in a computer, and is matched in a pattern with luminance data obtained from the atypical industrial products on the production line.例文帳に追加

予め基準サンプルによって、異形製品の予め設定したスライスレベル上の各角度ごとの反射光又は透過光による輝度パターンを収集してコンピュータに登録、生産ライン上の異形工業製品から得られる輝度データとのパターンマッチングを行う。 - 特許庁

A block sampling section 12a of a signal processing section 12 treats plural Bayer pattern pixels as one block under the control of a system control section 13 to divide a color filter pattern in a direction horizontal to sample data fed from each pixel of the block used for display.例文帳に追加

信号処理部12は、システム制御部13の制御に応じてブロックサンプリング部12a でベイヤパターンの画素において複数の画素を一つのブロックとして扱って色フィルタパターンを水平方向に分割し、表示に用いるこのブロックの各画素から供給されるデータをサンプリングする。 - 特許庁

When UV excitation light is applied to a sample 151, a resist pattern 23 formed by the resist of emulsion that is an organic compound generates fluorescence, while the mesh of a stainless wire 21 that is the lower layer of the resist pattern 23 is an inorganic compound and does not generate any fluorescence.例文帳に追加

ＵＶ励起光が標本１５１に照射された場合、有機化合物である感光乳剤のレジストにより形成されるレジストパターン２３は蛍光を発生する一方、レジストパターン２３の下層であるステンレスのワイヤ２１のメッシュは、無機化合物であり蛍光を発生しない。 - 特許庁

To provide an apparatus for setting pattern measuring conditions, to set a measuring position while preventing a reduction in working efficiency when the measuring position of a complicated pattern or a sample having a plurality of patterns whose optical proximity effect is to be evaluated, on the basis of defective coordinates.例文帳に追加

本発明は、複雑なパターン、或いは複数のパターンが配列され光近接効果の影響を評価すべきパターン等を有する試料に対し、欠陥座標等に基づいて、測定位置を設定する場合に、作業効率の低下を抑制しつつ、測定位置を設定することを目的とする。 - 特許庁