「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A non-polarizing beam splitter 200 is used in the separation of the light paths of an illumination system and an image forming system and a polarizer 14 and a λ/4 plate 17 are combined to perform circular polarization illumination to obtain MTF characteristics not relying on the azimuth of the pattern on the sample 1.例文帳に追加

照明系と結像系の光路の分離に無偏光ビームスプリッタ２００を用い、偏光子１４とλ／４板１７を組み合わせて円偏光照明することで試料１上のパターンの方位によらないＭＴＦ特性を得る。 - 特許庁

According to the embodiment, the charged particle beam device can be provided in which the high precision and high speed measurements, or inspections can be carried out even in the sample deposited with a large static charge on a face different from the pattern face such as the photo-mask.例文帳に追加

当該態様によれば、ホトマスクのようなパターン面とは異なる面に大きな帯電が付着する試料であっても、高精度且つ高速に測定、或いは検査を行うことができる荷電粒子線装置を提供することが可能となる。 - 特許庁

As a means for achieving a stable flow pattern inside the measurement room, a suction device 70 which functions to remove moisture emitted from the sample in the measurement process from the measurement room is arranged adjoining the measurement room.例文帳に追加

測定室内により安定した流れのパターンを達成する手段として、測定プロセス中に試料によって放出される水分を前記測定室から除去する機能を果たす吸引装置（７０）が、前記測定室に隣接して配置されている。 - 特許庁

In an illustrative practice pattern, the sample extraction device (70) includes a base plate (72), a motor (74) mounted on the base plate (72) and an electrode assembly (76)coupled with the base plate (70) so that it can rotate and operatively joined to the motor (74).例文帳に追加

例示的な実施形態において、該サンプル取出装置（７０）は、基盤プレート（７２）と、該基盤プレートに取り付けられたモータ（７４）と、基盤プレートに回転可能に結合されかつモータに作動的に結合された電極組立体（７６）とを含む。 - 特許庁

The controller divides a modulation pattern for irradiating the sample with the illumination light of a desired shape into a plurality of modulation patterns (MP21 and MP22), and controls the spatial light modulator (1) to each of the plurality of modulation patterns (MP21 and MP22).例文帳に追加

制御装置は、標本に目的の形状の照明光を照射する変調パターンを複数のサブ変調パターン（ＭＰ２１、ＭＰ２２）に分割し、空間光変調器（１）を複数のサブ変調パターン（ＭＰ２１、ＭＰ２２）の各々に順に制御する。 - 特許庁

As means for achieving a more stable flow pattern inside the measurement room, a suction device (70) which functions to remove moisture emitted from the sample in the measurement process from the measurement room is arranged adjacently to the measurement room.例文帳に追加

測定室内により安定した流れのパターンを達成する手段として、測定プロセス中に試料によって放出される水分を前記測定室から除去する機能を果たす吸引装置（７０）が、前記測定室に隣接して配置されている。 - 特許庁

A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray.例文帳に追加

測定試料の膜厚を薄くして透過Ｘ線で回折Ｘ線を測定することにより、基準となる入射Ｘ線２も位置感応型Ｘ線検出器に記録されるため、回折Ｘ線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁

This pattern inspection device of the present invention is arranged with at least three or more of electronic optical systems, and a degree of vacuum in the vicinity of a plurality of electron sources is kept high all the time by vacuum-evacuating an electron gun chamber mounted with the plurality of electron sources independently from a sample chamber.例文帳に追加

電子光学系を少なくても３本以上配置し、複数の電子源を搭載した電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって複数の電子源近傍の真空度を常に高真空に保つ。 - 特許庁

To solve the problem, wherein when the resolution of a scanning electron microscope is monitored, preparation of a sample and employment of measurement algorithm capable of reducing the pattern dependence of resolution index value to be measured is required for accurately measuring the change in the size of electron beam.例文帳に追加

走査電子顕微鏡の分解能をモニタする場合，計測する分解能指標値のパターン依存性を低減できるようなサンプルの準備と計測アルゴリズムの採用が，電子ビームサイズの変化を高精度に計測するために必要である。 - 特許庁

The calibration controller controls the driving mechanism to make the sample retreat to the outside the angle of view of the objective optical system and obtains the image data for calibration including overall the objective optical system, the imaging optical system and the shading pattern of the imaging section.例文帳に追加

較正制御部は、駆動機構を制御して試料を対物光学系の画角外に待避させ、撮像部から、少なくとも対物光学系、結像光学系、および撮像部のシェーディングパターンを総合的に含む較正用画像データを得る。 - 特許庁

To provide a pattern dimension measuring method capable of measuring a cross-sectional shape using a scanning charged particle microscope such as a STEM (Scanning Transmission Electron Microscope), as to a plurality of cross sections, by one time of sample preparation, and a system therefor.例文帳に追加

ＳＴＥＭ等の走査型荷電粒子顕微鏡を用いた断面形状計測を１回のサンプル作成で複数の断面について行うことができるようにしたパターン寸法計測方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

The filtering processing is executed, and the image obtained by executing the plurality of processings according to the processing procedure is processed to remove the noise components having features quite different from the sample pattern out of the components included in the image.例文帳に追加

このフィルター処理を実行して、処理手順に従って複数の処理を実行して得られる画像を処理すると、この画像に含まれる成分のうちサンプル図形とは全く異なる特徴を有するノイズ成分を取り除くことができる。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost.例文帳に追加

Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。 - 特許庁

A pattern shape evaluation system detects secondary electrons generated from a sample by irradiating a converged electron beam and processes the detected signals in which the detected signal waveform is divided into a plurality of areas according to changes in the amount of the signals and the three-dimensional shape of the sample is evaluated quantitatively from the sizes of the divided areas.例文帳に追加

収束させた電子線の照射により試料から発生した二次電子を検出し、この検出した信号を演算処理するように構成したパターン形状評価システムにおいて、検出した信号波形を、信号量の変化量に基づいて複数の領域に分割し、分割された領域の大きさにより試料の立体形状を定量評価する。 - 特許庁

In the detector for detecting the movement of gas which is generated in between a comparison chamber with infrared light passing through a sample incident thereon, and a reference chamber with infrared light which is not absorbed by the sample by a flow sensor, the comparison chamber, the reference chamber, and the flow sensor are formed three-dimensionally through etching and pattern formation.例文帳に追加

試料を透過した赤外光が入射される比較室と、前記試料の吸収を受けない赤外光が入射される基準室との間に生じるガスの移動をフローセンサで検出する検出器において、エッチングおよびパターン成形により、前記比較室と前記基準室と前記フローセンサが基板中に立体形成されたことを特徴とする検出器。 - 特許庁

In order to measure a machine difference, a domain (replica domain or the like) for marking information of a device measuring a spot of a pattern measured on a wafer and a measured spot is provided on the wafer, and a sample is managed by referring to the marking.例文帳に追加

機差測定を行う為にウェハ上に当該ウェハ上で測定済みのパターンの箇所及び当該測定済みの箇所を測定した装置の情報をマーキングするための領域（レプリカ領域等）を設け、当該マーキングを参照することにより、試料を管理する。 - 特許庁

To provide a device for observing defects capable of analyzing the arrangement and the hierarchical relationship of a circuit pattern formed using the design information of a sample, creating a non-defective image from a defective image based on the analysis results, and detecting the defects by comparison checking.例文帳に追加

試料の設計情報を用いて形成される回路パターンの配置や上下関係などの構造を解析し、解析結果をもとに欠陥画像から良品画像を作成し、比較検査により欠陥を検出することができる欠陥観察装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor integrated circuit device DUT 640 is provided with probe light pulse and reference pulse during each repetition cycle of the electric test pattern signal applied repeatedly, for guiding the same optical path as to sample the electric waveform on the DUT.例文帳に追加

半導体集積回路デバイス（ＤＵＴ６４０）に繰り返し印加する電気的テストパターン信号の各反復サイクル期間中に、プローブ光パルスおよび基準光パルスを供給して、ＤＵＴ上の電気的波形をサンプリングするように同一光路を導く。 - 特許庁

To provide an electron beam exposing apparatus, an electron beam exposing method and an electron beam exposing system for exposing a plurality of dies depending on a pattern formed on each die in a front-end process, during continuously and simultaneously exposing the dies on a sample using a plurality of masks.例文帳に追加

複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

Hereby, the sample 10 for analysis suitable for analyzing the surface state and the state of a plane parallel to the surface by using a SEM or a TEM can be formed easily and highly accurately without fouling the surface of an analysis object film pattern 14.例文帳に追加

これにより解析対象膜パターン１４の表面を汚すことなく、ＳＥＭやＴＥＭなどを用いた表面状態および表面と平行な面内における状態の解析に好適な解析用試料１０を、高精度かつ容易に形成することができる。 - 特許庁

This system includes a circuit for determining the places of synchronized word bits in the bit stream packets and this circuit includes a circuit which compares a bit test pattern vector 32 and the sample vector 34 of bits from the bit stream packets with each other several times.例文帳に追加

このシステムはビットストリーム・パケットの中の複数の同期化ワード・ビットの場所を決定するための回路（３０）を含み該回路はビット・テスト・パターン・ベクトル（３２）と、ビットストリーム・パケットからのビットのサンプル・ベクトル（３４）との間で何回かの比較を実行するための回路（３６）を含む。 - 特許庁

The complex device including the FIB lens barrel and the SEM lens barrel has a slit formed into a shape to be worked at an aperture for the FIB, whereby ion beam work is performed by transferring a pattern to a sample surface instead of running a converged ion beam thereon.例文帳に追加

本発明はＦＩＢ鏡筒と、ＳＥＭ鏡筒を備えた複合装置において、ＦＩＢ用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 - 特許庁

A diffraction intensity distribution function having the variable corresponding to the physical quantity of a crystal sample is combined with a diffraction intensity distribution constituting an observed diffraction pattern to calculate a variable value for prescribing the diffraction intensity distribution function reproducing the diffraction intensity distribution and a feature like the crystal particle size distribution or crystal face interval distribution related to the whole of the crystal sample is acquired numerically.例文帳に追加

本発明は、観測された回折パターンを構成する回折強度分布に結晶試料の物理量に対応した変数を有する回折強度分布関数を合わせ込むことにより、当該回折強度分布を再現する回折強度分布関数を規定する変数の値を求め、結晶試料全体に関する結晶粒径分布や結晶面間隔の分布の如き特徴を数量的に取得する。 - 特許庁

A focus adjusting condition of each place in a scanning region at the time of scanning a charged particle beam to a sample forming in a semiconductor manufacturing process is calculated beforehand, the calculated focus adjusting condition is selectively applied to a pattern formed under the same manufacturing condition as the sample with the focus adjusting condition calculated, and a device carrying out charged particle beam scanning is provided.例文帳に追加

半導体製造工程中に形成される試料に対し、荷電粒子線を走査する際の走査領域内の各個所の焦点調整条件を予め求めておき、当該求められた焦点調整条件を、前記焦点調整条件を求めた試料と同じ製造条件にて形成されたパターンに選択的に適用して、前記荷電粒子線走査を行う装置を提案する。 - 特許庁

A filtering processing generating means 20 generates the filtering processing for removing components having a feature amount larger than a feature amount in an area corresponding to a sample pattern 12 and a feature amount smaller than it therein, based on an image obtained by executing a plurality of processings according to the processing procedure to an original image.例文帳に追加

フィルター処理生成手段２０は、原画像１１に処理手順に従う複数の処理を実行して得られる画像から、サンプル図形１２に対応する領域の特徴量よりも大きな特徴量および小さな特徴量を有する成分を除去するフィルター処理を生成する。 - 特許庁

To provide a method in which an objective of achieving a stable positioning or a selective information extraction on a specific layer irrespective of situations of a deep part of a pattern three-dimensionally formed or electrostatic situation of a sample, and a device to achieve this objective.例文帳に追加

本発明は、三次元的に形成されたパターンの深部の状況や試料の帯電の状況に依らず、安定した位置合わせ、或いは特定層の選択的な情報抽出を行うことを目的とした方法、及び当該目的を達成するための装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Apart from observation lighting and its lighting optical system for positioning a sample on which a thin film pattern is formed and identifying a cell to be measured, measuring lighting and its lighting optical system are provided for measuring an intra-cell film thickness of the cell to be measured.例文帳に追加

薄膜パターンを形成した試料の位置決め及び測定対象セルの識別を行うための観察用照明及びその照明光学系とは別に、測定対象セルのセル内における膜厚を測定するための測定用照明及びその照明光学系を設けた。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which ink supply and center distances of respective parts can be automatically adjusted in response to the results of measurement obtained through the measurement of the thickness or density of an ink film or the area of a pattern part of a sample printed article.例文帳に追加

サンプル印刷物のインキ皮膜厚さ又は濃度や絵柄部の面積を測定し、それらの測定結果に応じてインキ供給量や各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an analyzer, capable of appropriately performing the detection of the presence of abnormality related to dispensing processing and the specifying of abnormal sites, even when the time rate of change of the pattern of the absorbance of a sample for precision management is not acquired, and to provide an analysis method and an analysis program.例文帳に追加

精度管理用試料の吸光度の時間変化パターンを取得しない場合であっても、分注処理に関する異常の有無の検出および異常個所の特定を適切に行うことができる分析装置、分析方法および分析プログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a cosmetic sample which can retain a design pattern without causing offset or a stain irrespective of a simple structure and varieties of samples, in which the single unit usage of a cosmetic is sufficiently obtained, which is provided with an application member and is made at low cost, and for which a method of use is also easy.例文帳に追加

簡単な構成でサンプルの種類に関わらず裏移りや汚れが発生せずに意匠パターンを保持することができ、１回分の単位使用量が十分に得られ且つ塗布具も備え、低コストで使用方法も容易な化粧品サンプルを提供するにある。 - 特許庁

According to the coordinate data on the sample points, the identification server 5 refers to a coordinate table 508 associating entry fields plotted on the application form 36 and position coordinates on a dot pattern to identify in which entry field the stroke has been entered.例文帳に追加

そして、識別サーバ５は、サンプル点の座標データに基づいて、申込書３６に配置された記入欄とドットパターン上の位置座標とが対応付けされた座標テーブル５０８を参照することにより、ストロークがどの記入欄に対して記入されたものであるかを識別する。 - 特許庁

In a controller and display device for a sample pattern providing system for realizing efficiency of the preparation of designs and application software or the like, vague needs or abstract image of a user can be made concrete in a short time, and any time to be spent on the definition of requirements or special knowledge becomes unnecessary.例文帳に追加

デザイン及びアプリケーションソフトなどの作成を効率化するためのサンプルパターン提供システム用制御装置及び表示装置により、ユーザーの漠然としたニーズや抽象的なイメージが短時間で具体化し、要件定義に費やす時間と専門的知識が不要となる。 - 特許庁

The delay time for the data formation time occurring before the pattern to be exposed is obtained on the sample is calculated for each of a predetermined plurality of scanning directions X and Y, and the scanning direction having the shorter delay time is selected as the scanning direction in that case.例文帳に追加

その場合の走査方向として、前記露光すべきパターンが前記試料上に得られるまでに発生するデータ生成時間のための遅延時間を、予め定められた複数の走査方向Ｘ、Ｙ毎に算定し、算定された遅延時間がより短い走査方向を選択する。 - 特許庁

To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.例文帳に追加

３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁

The charged beam plotting device for forming a pattern on a sample by forming charged beams radiated from a charged beam radiation source on a plurality of aperture parts comprises a first aperture, a second aperture and a deflector for irradiating an optional position of the second aperture with charged beams passed through the first aperture.例文帳に追加

荷電ビーム放射源から放射された荷電ビームを複数のアパーチャの開口部で成形して試料上にパターンを形成するものであって、第１アパーチャと、第２アパーチャと、第１アパーチャを通過した荷電ビームを第２アパーチャの任意の位置に照射するための偏向器を有する。 - 特許庁

To provide a method for determining biospecies reducing as possible the possibility of wrong determination according to biological feature of the biospecies when the unknown sample contains organism whose biospices not corresponds to any one of the previously determined categories in determining biospecies using pattern recognition.例文帳に追加

パターン認識を利用した生物種の判定において、あらかじめ定められたどのカテゴリーにも対応しない生物が未知サンプルに含まれている場合に、生物種の生物学的特長に応じて、誤った判定する可能性を低減することができる判定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that too much time is required to generate and transmit compressed data in real time because many various pattern sample images are prepared, they are once entirely compressed, the amount of the compressed data is measured, and a quantization is subsequently calculated to perform compression processing again in the conventional manner.例文帳に追加

従来は、様々な絵柄のサンプル画像を多数準備して、それらを一旦すべて圧縮し、その圧縮データ量を計測してその上で量子化テーブルを算出し、再度圧縮処理を行うため、多大な時間を要し、リアルタイムでの圧縮データの生成及び伝送ができない。 - 特許庁

The in-focus position is detected surely and quickly by irradiating the sample with the measuring lighting to form a differential component in an image signal at all times even when the object to be measured is a reference having no differential component and when a pattern does not exist in a field of view.例文帳に追加

そして、測定用の照明を試料に照射して常に画像信号に微分成分を形成させることにより、測定対象物が微分成分の無いリファレンスである場合や、視野内にパターンが存在しない場合であっても、合焦点位置を確実かつ高速に検出する。 - 特許庁

An observation area of the surface of a sample is scanned by irradiating an electronic beam, an image (SEM image) is acquired based on a detection signal of a secondary electron by a detector 99a arranged at a diagonal upper part of the observation area, and length L of a shadow of a pattern 82 which appears on the image is detected.例文帳に追加

試料表面の観察領域を電子ビームを照射で走査し、観察領域の斜め上方に配置された検出器９９ａによる二次電子の検出信号に基づいて画像（ＳＥＭ画像）を取得し、その画像に現れるパターン８２の影の長さＬを検出する。 - 特許庁

The reactivity to anticancer drug therapy of an AML patient is previously predicted by measuring a gene expression pattern of a biological sample obtained from the patient with acute myelogenous leukemia by using the marker gene for predicting the reactivity to anticancer drug therapy of an AML patient.例文帳に追加

急性骨髄性白血病患者から得られた生物学的試料を、ＡＭＬ患者の抗癌剤治療反応性を予測するためのマーカー遺伝子を使用することにより、その遺伝子発現パターンを測定し、ＡＭＬ患者の抗癌剤治療に対する反応性を予め予測する。 - 特許庁

The distortion in the image is corrected by deriving a deflecting rotational angle to the direction of observation of the charged particle beam and deforming the deflection pattern of the charged particle beam when the deflecting direction of the charged particle beam and the inclined axis of the sample are not in parallel.例文帳に追加

本発明では、荷電粒子ビームの偏向方向と試料の傾斜軸が平行となっていない場合に、荷電粒子ビームの観察方向に対する偏向回転角を求め、荷電粒子ビームの偏向パターンを変形することにより、画像の歪みを補正することに関する。 - 特許庁

An AIDC sensor 42 detecting toner adhesive amount to a sample toner pattern formed on a photoreceptor drum, a temperature sensor 43 and a humidity sensor 44 detecting the temperature and the humidity of the inside of the device are connected to a CPU 61 constituting the control circuit 60 of the image forming device.例文帳に追加

画像形成装置の制御回路６０を構成するＣＰＵ６１には、感光体ドラム上に形成されたサンプルトナーパターンのトナー付着量を検出するＡＩＤＣセンサ４２、装置内部の温湿度を検出する温度センサ４３及び湿度センサ４４が接続される。 - 特許庁

In a scanning probe microscope, such as a scanning tunnel microscope, one part of the layer 4 is selectively etched away by scanning the surface of the layer 4 with a probe 5 to make the layer 3 partially exposed, and a strain distribution to respond to the shape of the pattern of the layer 4 is formed on the surface of a sample.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡、例えば走査型トンネル顕微鏡において、プローブ５でＧａＡｓ層４の表面を走査することによりＧａＡｓ層４を選択的にエッチング除去してＩｎＧａＡｓ層３を部分的に露出させ、試料表面にＧａＡｓ層４のパターン形状に応じた歪分布を形成する。 - 特許庁