「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To acquire an SEM image of a high resolution while suppressing damage to a sample caused by electron beam irradiation accompanied by SEM imaging, regarding the acquisition of an image of a semiconductor pattern using SEM.例文帳に追加

ＳＥＭを用いた半導体パターンの画像の取得に関して、ＳＥＭの撮像に伴う電子線照射による試料へのダメージを抑えつつ、高分解能なＳＥＭ画像を取得することである。 - 特許庁

The display stand 7 is divided into a placing stand 71 for a commodity sample 8 and a fixing member 72, and a cold/hot pattern display body 12 is folded back at both the right-and-left ends, and are bridged over and installed to the fixing member.例文帳に追加

ディスプレイ台７を商品見本８の載置台７１と固定部材７２に分割し、冷温パターン表示体１２を前記固定部材にその左右両端で折り返して架け渡して装着する。 - 特許庁

To provide a microscope apparatus capable of enhancing image quality of an in-vivo observation image of a bio-sample, and capable of freely selecting a scanning speed, a scanning pattern and an operating condition of a light source etc.例文帳に追加

生物標本のｉｎ-ｖｉｖｏ観察画像の画質を向上させ、走査速度や走査パターン、光源等の使用条件を自由に選択することができる顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁

The charged particle beam microscope acquires a plurality of frame images by scanning the field of view of the sample (S304, 305), adds the images together (S307), computes the dimensions of the pattern formed on the sample (308), and at the same time acquires pattern information (314) using a separated image (309, 310) composed of a single frame image comprising a frame image, a subframe image, and the like.例文帳に追加

荷電粒子線顕微鏡において、試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し（Ｓ３０４、Ｓ３０５）、それらの画像を積算し（Ｓ３０７）、試料上に形成されたパターンの寸法を算出（Ｓ３０８）すると共に、フレーム画像を構成する１フレーム画像またはサブフレーム画像等からなる分別画像（Ｓ３０９，Ｓ３１０）を用いてパターン情報を取得する（Ｓ３１４）。 - 特許庁

In order to solve above problems, a high-powered microscope apparatus is provided with a prescribed pattern which is formed on the stage or a sample support member for microscopes, a recognizing means which recognizes the prescribed pattern, and a moving means which moves the sample support member for the microscopes to a prescribed position, based on positional information being recognized by the recognizing means.例文帳に追加

本発明によれば、上記課題を解決するために、顕微鏡用試料保持材やステージに形成された所定のパターンと、この所定のパターンを認識する認識手段と、この認識手段によって認識された位置情報に基づいて、上記顕微鏡用試料保持材を所定位置に移動させる移動手段とを備えていることを特徴とする高倍率顕微観測装置を提供される。 - 特許庁

Intensity of light reaching a resist film on a solid sample has a value suitable even to an upper part and a bottom part of the solid by imparting a function of attenuating light to a liquid for immersion exposure, and a suitable exposure intensity distribution is then formed over the entire sample surface, thereby surely reducing formation of an abnormal pattern due to reflected light.例文帳に追加

液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上のレジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確実に低減できる。 - 特許庁

When a pattern arranged symmetric with respect to a rotating shaft on a sample is observed automatically or measured in accordance with procedures defined beforehand, a template image, an image at an observing point or a measurement point, or a view area which is to be a scanning area of a charged particle beam is made rotated by an angle which is automatically calculated from the coordinates on the sample.例文帳に追加

試料上に回転軸対称に配置されたパターンを、予め定めた手順に従って自動的に観察又は計測する際、テンプレート画像、観察点若しくは計測点の画像又は荷電粒子線の走査範囲である視野領域を、試料上の座標から算出した角度だけ自動的に回転させる。 - 特許庁

A pattern measuring apparatus 1 contains a base 30 for carrying a sample with multiple kinds of patterns formed thereon, a light irradiation means 10 for making a photoelectrical scanning over the sample by irradiating it with light and a reflected light detection means 50 for detecting reflected light to measure the patterns based on changes in the reflected light.例文帳に追加

複数種類のパターンが形成された試料を載置する載置台３０と、試料面上を光照射し光電的に走査する光照射手段１０と、反射光を検出する反射光検出手段５０と、を含み、反射光の変化に基づいてパターンを測定するパターン測定装置１である。 - 特許庁

A second aspect is to acquire an optimal stigma value (astigmatism correction signal) by using the standard sample, to store the value as a default value, to have the default value superimposed in accordance with the height of an observation target sample pattern, and to perform an astigmatism correction on the basis of the stigma value with the default value superimposed.例文帳に追加

上記目的を達成するための第２の態様では、標準サンプルにて最適なスティグマ値（非点補正信号）を取得し、その値をデフォルト設定値として記憶させ、観察対象サンプルのパターン高さに応じて、デフォルト値を重畳し、当該デフォルト値が重畳されたスティグマ値に基づいて、非点補正を行う。 - 特許庁

To provide a method for automatically forming a character group having no unreadable characters for each character quality which is highly deformed in various manners as compared with an original character sample group when the learning character sample group is not enough for learning in character recognition by statistic pattern recognition.例文帳に追加

統計的パターン認識による文字認識において、学習用文字サンプル群だけでは十分な学習ができない場合に、元の文字サンプル群より変形の強度・様態が極めて多様・広範囲でありながら人間に読めない字を含まない文字集団を文字品質別に自動作成する方法を提供する。 - 特許庁

When a film thickness distribution is caused by the density etc., of a pattern in a local area on the sample like a chip on a wafer, the film thickness distribution on the whole surface of the sample is found based on the film thicknesses of divided areas by finding the film thickness values representing the divided areas by continuously detecting the spectroscopic waveform at every divided area.例文帳に追加

又、ウェハにおけるチップのように試料上の局所的領域でパターンの密度等による膜厚分布が生じる場合、区分領域毎に分光波形を連続的に検出し、その区分領域を代表する膜厚値を求め、区分領域の膜厚を基に試料全面の膜厚分布を求める。 - 特許庁

This method for checking the electronic image of the pattern of a mask 30 is provided to expose an electronic image by irradiating a sample 100 to check with an electron beam transmitted through the mask, and to detect the electronic image on the sample 100 to check to form image data, and to compare the normal image data with the checked image data to detect defects.例文帳に追加

マスク３０のパターンの電子像を検査する方法であって、マスクを通過した電子ビームを検査用試料１００に照射して電子像を露光し、検査用試料１００上の電子像を検出して検査画像データを形成し、正規画像データと検査画像データを比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment.例文帳に追加

排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

This birefringence authentication device includes a light source, a polarizer, a sample stand and a photoreception part, and has a layer including a plurality of areas different in birefringences, in a sample stand side of the polarizer, and the article authentication system includes an article arranged on the sample stand, having a birefringence pattern of visualizing a latent image in the photoreception part, and having a patterning optical anisotropic layer on a support body.例文帳に追加

光源、偏光子、試料台、および受光部を含み、該偏光子の試料台側に複屈折性が異なる領域を複数含む層を有する複屈折パターン認証装置、ならびに前記試料台に配置され前記受光部において潜像を可視化する複屈折パターンを有する物品であって支持体上にパターニング光学異方性層を有する物品を含む物品認証システム。 - 特許庁

When a conveyance state determination means 23 determines that products are being conveyed, illuminance of the product sample panels 12 are changed on the basis of a pattern for giving an image of dispensing products or a pattern for amusing a customer, which are stored in an illuminance pattern storing means 25, thereby attracting customers and improving impression without boring them.例文帳に追加

搬送状態判定手段２３にて商品を搬送中と判定した場合、照度パターン記憶手段２５に記憶されている、商品が出てくることを連想させるパターンやあるいは顧客を楽しませるようなパターンに基づき、商品見本パネル１２の照度を変化させることで、顧客に退屈感を与えず、顧客へのアピール度と好感度を向上させる。 - 特許庁

The processing system having organization information of sample design and dress pattern information provided at the retail store and to create organization information and dress pattern information according to a body type of the purchaser based on the body type data, the organization information and the pattern information to be transmitted from the retail store is preliminarily equipped in hardware such as a personal computer connected with the open network provided at the factory.例文帳に追加

小売店舗に備えつけたサンプルデザインの編立情報及び型紙情報を有する処理システムであり、小売店舗から送られてくる体型データとこの編立情報・型紙情報に基づき、購入者の体型に応じた編立情報・型紙情報を作成する処理システムを、工場に備えたオープンネットワークと接続されたパーソナルコンピューター等のハードウエアに予め装備しておく。 - 特許庁

To take measurements with high precision and low damage that have been hardly taken so far in a method of measuring a pattern size in an observation area on a sample with an incident electron beam.例文帳に追加

入射電子線により試料上の観察領域内のパターン寸法を計測する方法において、これまで実現困難であった高精度でかつ低ダメージの計測を可能とするパターン寸法計測技術を提供する。 - 特許庁

Then, height H of the pattern 82 is calculated by H=L×tanθ based on a preliminarily calculated angle θ on appearance to the surface of the sample of the detector 99a and the detected length L of the shadow.例文帳に追加

そして、あらかじ求めた検出器９９ａの試料表面に対する見掛け上の角度θと検出された影の長さＬとに基づいて、パターン８２の高さＨをＨ＝Ｌ×ｔａｎθにより求める。 - 特許庁

To provide a technique capable of eliminating not only surplus, overlapping or mustache of border lines of a sample pattern, but also intermittence of border lines in the present invention with the view to such a situation.例文帳に追加

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、試料パターンの輪郭線の余剰、重複またはヒゲだけでなく、輪郭線の途切れも解消することのできる技術を提供するものである。 - 特許庁

To measure a diffraction pattern having a desired S/B ratio by reducing the background due to the scattering of air generated by X-rays transmitted through a sample in the case of the measurement of the diffraction of obliquely emitted X-rays.例文帳に追加

斜出射Ｘ線回折測定を行う場合において、試料を透過したＸ線で発生する空気散乱によるバックグラウンドを低減させることにより、所望のＳ／Ｂ比を有する回折パターンを測定する。 - 特許庁

A coincidence-determining means 13 determines the coincidence between the selected time occurrence ratio of each waveform pattern and the sample data of zero-phase current prepared, beforehand, in correspondence with individual different electrical events with respect to each fault cause.例文帳に追加

一致度判定手段１３は、各波形パターンの選定時間出現比率と、事故原因毎に異なる個々の電気的事象と対応付けて予め用意された零相電流のサンプルデータとの一致度を判定する。 - 特許庁

To provide a method for processing a substrate for eliminating the influence of a mixing layer, having no degradation of pattern profiles, and forming high-precision resist patterns in a sample formed by laminating a resist film and an antistatic film on a substrate.例文帳に追加

基板上にレジスト膜と帯電防止膜とを積層してなる試料において、ミキシング層の影響を排して、パターンプロファイルの劣化が無い、高精度なレジストパターンを形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

When the equipment is used, the pattern is positioned to an accurate position, and high-accuracy electron beam lithography can be performed even when the height of a sample in the image forming surface of the beam changes by preventing unnecessary deflection of electrons caused by the focal point correction.例文帳に追加

本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。 - 特許庁

To realize an optical system in which an MTF improving effect can be attained in a high band without relying upon the direction of a pattern on a sample and the polarization state of illumination light can be switched even to linear polarization, as required.例文帳に追加

試料上のパターンの方向に依存せず高域でのＭＴＦ改善効果を得るとともに、必要に応じて照明光の偏光状態を直線偏光にも切り替えられるような光学系を実現する。 - 特許庁

To change display of a cold/hot pattern indicating a cold/hot state of an article sample mounted on a display stand by being interlocked with a sale mode setting signal for setting a cold/hot state of an article storage chamber in a case.例文帳に追加

ディスプレイ台上に載置した商品見本の冷温状態を表す冷温パターンの表示を、庫内の商品収納室の冷温状態を設定する販売モード設定信号に連動して変更する。 - 特許庁

An experiment is conducted on the sucking performance of the electrostatic chuck by using a testing sample with the known magnitude and pattern of warping to find out a critical application voltage at which the sucking state is changed from "bad" to "good".例文帳に追加

反りの大きさ及び反りのパターンが既知の検定用試料を用いて静電チャックに対する吸着実験を行い、吸着状態が「不良」から「良好」に変化するときの臨界印加電圧を求める。 - 特許庁

To provide an image processing procedure design expert system having a feature in evaluation processing capable of enhancing stability of constitution for a processing procedure without preparing a sample pattern accurately one picture element unit by one picture element unit.例文帳に追加

サンプル図形を１画素単位で正確に作成しなくても、処理手順の構成の安定性を向上することができる評価処理に特長をもつ画像処理手順設計エキスパートシステムを提供する。 - 特許庁

The microscope sample 10 has a resin-made phase body 11 having an unevenness pattern 16 of predetermined size in a predetermined shape and support members 12 and 13 which support the phase body.例文帳に追加

本発明の顕微鏡標本１０は、予め定めた形状および寸法の凹凸パターン１６を有する樹脂製の位相物体１１と、前記位相物体を支持する支持部材１２,１３とを備えたものである。 - 特許庁

To obtain a photographic apparatus which reduces deterioration of contrast of a photographed image by existence of a part such as air bubbles harmful to photography and takes a clear picture of a pattern copied in a sample.例文帳に追加

気泡のような撮影に有害な部分の存在による撮影画像のコントラストの劣化を軽減して、標本に写し取られているパターンを鮮明に写真撮影することが可能な写真撮影用装置を得る。 - 特許庁

A signal analysis unit 26 performs the statistic calculation on each echo signal by using a group of samples extracted according to a prescribed sample extraction pattern making each echo signal as analysis center echo data.例文帳に追加

信号解析ユニット２６は、各エコー信号を解析中心エコーデータとする所定のサンプル抽出パターンに従って抽出されたサンプル群を用いて、各エコー信号に関する統計量計算を実行する。 - 特許庁

In this local plasmon resonance sensor, a fine irregular pattern 4 of Moth eye is formed on a face in a sample side of a transparent substrate or on an end face of an optical fiber 1, and the metal fine particle 6 is immobilized in a large number of protrusions 5 constituting the fine irregular pattern.例文帳に追加

以上の課題を解決するために、本発明では，透明基板の試料側の面又は光ファイバ１の端面にモスアイ（Moth eye）構造の微細凹凸パターン４を形成し、微細凹凸パターンを構成する多数の突部５に金属微粒子６を固定した構成の局在プラズモン共鳴センサを提案する。 - 特許庁

A pattern inspection device is provided with: an optical image acquiring unit to acquire the optical image of the pattern of an inspection sample; an alignment processing unit to carry out an alignment process including correction processing of the optical image by a reference image; and a comparing unit to compare optical images different from each other subjected to the alignment process.例文帳に追加

被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 - 特許庁

Removal of the thin film 2 in this manner allows elimination of a rising section (a salient) 3, and the wet etching allows an end of the recessed pattern for inspection 11 to be rounded off, thus making it possible to improve accuracy in inspecting the surface of the wafer surface using such pattern as a standard sample.例文帳に追加

このように、薄膜２を除去することにより検査用凹部パターン１１端部に形成された盛り上がり部（凸部）３を除去することができ、また、ウエットエッチングにより検査用凹部パターン１１端部に丸みをもたせることができ、かかるパターンを標準試料として用いた、ウエハ表面検査の精度を向上させることがでる。 - 特許庁

An information processor acquires a sample of a feature vector of a pattern belonging to a class in every class recognized by the pattern recognizer, displays an input screen for receiving an input of a real number value as a value m for defining in class dispersion, on a display, and acquires the value m from an interface (S130).例文帳に追加

情報処理装置は、パターン認識装置にて認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得すると共に、クラス内分散を定義付ける値ｍとして、実数値の入力を受け付けるための入力画面を表示装置に表示し、ユーザインタフェースから、値ｍを取得する（Ｓ１３０）。 - 特許庁

The common sample holder for a scanning electron microscope device and a focused ion beam device is set mountable on a scanning electron microscope device with an electron beam backscatter pattern measurement function and on a focused-ion beam device with a microsampling function, and enables a crystal orientation analysis and microsampling, without having to remount a sample.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡装置と集束イオンビーム装置との共用試料ホルダーは、電子線後方散乱パターン計測機能を有した走査型電子顕微鏡装置と、マイクロサンプリング機能を装備した集束イオンビーム装置とに装着可能で、試料の載せ替え作業をせずに結晶方位解析とマイクロサンプリング加工が可能であることを特徴とする。 - 特許庁

A texture expression processing part 14 receives selection of an irradiation angle and an observation angle to the three-dimensional structure and selection of material quality of the three-dimensional structure to specify the three-dimensional structure expressed by synthesis information and the spectral reflectance of each part of the pattern from the color sample information stored in a color sample database 18 according to the received information.例文帳に追加

質感表現処理部１４が立体構造物への照射角度と観測角度の選択と、立体構造物の材質の選択とを受付けて、その受付けた情報に基づいて合成情報で表す立体構造物と図柄の各部分の分光反射率を色見本データベース１８で記憶する色見本情報から特定する。 - 特許庁

A sample is irradiated simultaneously with two X-rays X1, X2 by an X-ray source 2, and one-time scanning is executed for detecting simultaneously photo-electron spectrums of two photo-electrons E1, E2 emitted from the sample by an energy analyzer 3 over a prescribed solid angle spread from the irradiation spot, to thereby acquire a photo-electron intensity distribution pattern.例文帳に追加

Ｘ線源２により２つのＸ線Ｘ１，Ｘ２を試料に同時照射し、この試料から放出された２つの光電子Ｅ１，Ｅ２の光電子スペクトルを、エネルギー分析器３によりこの照射スポットから張った所定立体角にわたって同時検出する走査を１回実行して光電子強度分布パターンを取得する。 - 特許庁

This film overlay 1 includes an opaque portion, which is printed with a negative of a desired pattern 10 or a design, on a face opposite to a face of the cosmetic, and hence a display window 8 for displaying the sample 2 is formed.例文帳に追加

このフィルム上敷き１は、化粧品の面と反対側の面に所望のパターン１０又はデザインの陰画で印刷された不透明な部分を含んでおり、それによってサンプル２を表示するための表示窓８を形成している。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method using a scanning charged particle beam system, capable of precisely inspecting a defect over a short period of time, which exists on a surface of a sample to be inspected such as a semiconductor LSI or the like, by using a pattern matching technique.例文帳に追加

半導体ＬＳＩなどの被検査試料の表面に生じた欠陥の検査を、パターンマッチング技術を用いて高い精度で短時間に行なうことができる走査型荷電粒子ビーム装置を用いた欠陥検査方法 - 特許庁

The polishing liquid flows to enter mixing state, so that magnetic clusters generated by a magnetic field of the permanent magnet 31 press abrasives, the abrasives grind the surface of the sample 1 by relative motion to thereby suitably form a fine groove pattern.例文帳に追加

研磨液が流動して攪拌状態となり、永久磁石３１の磁場により生成した磁気クラスタが砥粒を押さえつけ、相対運動により砥粒が試料１の表面を研削し、微細な溝パターンを適宜に形成できる。 - 特許庁

To provide an image pickup device which can automatically sample an image adequate for fingerprint matching from a fingerprint image inputted from an input device even if the image has variance in shading distribution or variance in ridge pattern thickness.例文帳に追加

画像の濃淡分布のばらつきまたは隆線パターン太さのばらつきがあっても、入力装置から入力されている指紋画像から指紋照合に適切な画像を自動的に採取可能な画像撮像装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a polishing rate with high precision for a sample, which has unevenness on its surface, differs in size of the unevenness with the density of a wiring pattern and filming conditions, and varies in polishing rate, without conditioning a wafer.例文帳に追加

ＣＭＰ加工前、試料表面に凹凸があり、凹凸の大きさが配線パターンの密度、成膜条件によって異なり、研磨レートが変動する試料に対し、ウェハでの条件出しすることなく、高精度に研磨レートを得る。 - 特許庁

The printing device prepares test data to output a sample of a letter or graphics (circle, rectangle, image or the like), reads the printed test pattern by a scanner or the like, measures the amount of extension of a sheet by dividing the sheet into appropriate blocks and stores the measured results in a storage device.例文帳に追加

文字や図形（円、矩形、イメージ等）のサンプルの出力されるテストデータを用意し、印刷されたテストパターンをスキャナ等で読み込ませ、用紙を適当なブロック毎に分割して用紙の伸び量を測定し記憶装置に格納する。 - 特許庁

Beams are irradiated at a constant time interval on a reference area including a linear outline part of a sample pattern to constitute images, and an amount of deviation is calculated by comparing positions of contours in the images before and after the time.例文帳に追加

試料パターンの直線状の輪郭部を含む参照領域に一定の時間をおいてビームを照射して画像を構成し、その時間の前後における画像内の輪郭線の位置を比較してずれ量を算出する。 - 特許庁

Therefore, the pattern expressing power of a commodity card display device can be improved and the customer attracting ability of an automatic vending machine can be improved, because the patter of the commodity card 15 projected upon the translucent board 12 looks like a deep commodity sample.例文帳に追加

これにより、半透明な電照板に投影された商品カードの図柄が、奥行きのある商品見本として見え、商品カード表示装置の図柄表現力を向上でき、自販機の集客力向上が図れる。 - 特許庁