「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

A decision is made whether an interested pixel is included in a halftone part or not, and if it is not included, a decision is made whether a pattern of 3×3 matrix of 9 pixels including the interested pixel matches a level difference pattern, an oblique line pattern, a longitudinal line pattern or a lateral line pattern, previous prepared as a sample, or not.例文帳に追加

注目画素がハーフトーン部に含まれるか否かを判定し、含まれない場合には、注目画素を含む９個の画素よりなる３×３マトリクスのパターンが、あらかじめサンプルとして用意された段差パターン、斜め線パターン、縦線パターンまたは横線パターンと一致するか否かを判定する。 - 特許庁

After an arbitrary device process is completed, one portion of a wafer 108 is extracted as a minute sample 110 exceeding one repetition pattern by a probe by using a finite sample extracting apparatus 102, transferred on a minute sample storage tool 109, and thus stored into a minute sample storage apparatus 103.例文帳に追加

任意のデバイスプロセス完了後に、微小試料摘出装置１０２でウェーハ１０８の一部を、１繰返しパターン以上のサイズの微小試料１１０として、プローブで摘出して微小試料保管具１０９に載せ替え、微小試料保管装置１０３に保管される。 - 特許庁

A sample 4 having a wiring pattern 3 formed thereon is two-dimensionally scanned with an electron beam 1 emitted from an electron source, and a sample image based on a signal obtained from the sample 4 through the scan is displayed on a display part 7.例文帳に追加

電子源から発生した電子ビーム１で配線パターン３が形成された試料４上を二次元走査し、この走査により試料４から得られる信号に基づく試料像を表示部７に表示させる様に成す。 - 特許庁

An eye pattern generated from sample data of a measured signal for expressing frequency information using colors or luminance is displayed on an eye pattern display region 36 in a signal processor.例文帳に追加

アイパターン表示領域３６には、被測定信号のサンプル・データからビットマップ形式で生成され、色又は輝度によって頻度情報を表すアイパターンが表示される。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method capable of performing defect inspection simply, quickly and surely, even when performing the defect inspection of a pattern of a sample having a large region.例文帳に追加

大領域の試料のパターンの欠陥検査を行う場合であっても、簡便、迅速、確実に欠陥検査を行うことができるパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

A pattern discrimination unit 102 determines whether or not the edge interval count signal matches a reference value resulting from counting falling edge intervals of a predetermined pattern of the Manchester data using a sample clock.例文帳に追加

パタン判別部１０２は、エッジ間隔カウント信号と、マンチェスタデータの所定パタンの立ち下がりエッジ間隔をサンプルクロックでカウントした基準値とが一致するか否か判定する。 - 特許庁

In the sample holding optical disk, bit slipping over a segment is prevented by inserting a resinc pattern for each segment.例文帳に追加

サンプルサーボの光ディスクにおいて、セグメント毎にリシンクパターンを挿入することで、セグメントを越えるビットスリップを防止できる。 - 特許庁

An error calculation part 11 obtains the sum of the square errors of the reference PR pattern register 9 and the shift register 10 for each sample.例文帳に追加

誤差演算部１１は、基準ＰＲパターンレジスタ９とシフトレジスタ１０をサンプル毎に２乗誤差の加算値を求める。 - 特許庁

To provide an observation device capable of efficiently performing observation, even when the same pattern parts of a sample are set as observation points.例文帳に追加

試料の同様のパターン部分を観察点とする場合にも効率よく観察を行える観察装置を提供する。 - 特許庁

A color thermal printer forms a sample print 21 by solid printing a Y calibration pattern 18, an M calibration pattern 19 and a C calibration pattern 20 of predetermined optical density values adjacently above each of the reference patterns 13-15.例文帳に追加

カラー感熱プリンタは、各参照パターン１３〜１５の上方に隣接して、所定の光学濃度値のＹキャリブレーションパターン１８，Ｍキャリブレーションパターン１９，Ｃキャリブレーションパターン２０をベタ印画してサンプルプリント２１を作成する。 - 特許庁

Furthermore, in the hairstyle sample storing part 8, a great number of representative patterns of hairstyle are stored and a matrix chart 12 is provided for each representative pattern in the hairstyle sample storing part 8.例文帳に追加

また、上記各ヘアースタイルサンプル記憶部８は、ヘアスタイルの代表的なパターンを多数記憶し、このヘアースタイルサンプル記憶部８には、代表的なパターン毎に、マトリックス表１２を備えている。 - 特許庁

The sample texture image generation part 101 generates a sample texture image 107 from which the shadow as an image component of a smooth change pattern of intensity is removed, from the target image 106.例文帳に追加

サンプルテクスチャ画像生成部１０１は、変換対象画像１０６から、輝度の滑らかな変化パターンの画像成分である陰影を除去したサンプルテクスチャ画像１０７を生成する。 - 特許庁

To improve an SN ratio of an image signal of a defect spot by adjusting an incident azimuth of each illumination light at a suitable angle for a pattern on a sample, when performing visual inspection of the sample by illuminating the sample with illumination light entering the sample obliquely with respect to the optical axis of an objective lens of a microscope, and by acquiring a sample image.例文帳に追加

顕微鏡の対物レンズの光軸に対して斜めに試料に入射する照明光により試料を照明して試料の画像を取得し試料の外観検査を行う際に、各照明光の入射方位を試料上のパターンに好適な角度に調整して、欠陥箇所の画像信号のＳＮ比を向上する。 - 特許庁

To provide a sample image length measurement method by which the measurement area can be set by easily, quickly and surely performing matching of a plurality of standard images and the sample image even when the obtained sample images are various on the basis of a pattern forming condition of a pattern forming device such as a stepper.例文帳に追加

例えばステッパーのようなパターン形成装置のパターン形成条件により、得られる試料像にばらつきがある場合であっても、簡便、迅速、かつ、確実に、複数の基準画像と試料像のパターンとのマッチングを行うことにより測定領域を設定することのできる試料像測長方法を提供する。 - 特許庁

To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample with high sensitivity, by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the 0-th and higher-order diffracted lights of reflected light, arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detection optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.例文帳に追加

試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

A reproduction RF signal of each of sample data in a sample data memory 17 is presumed on the basis of this impulse response h(t), and data of sample value which the reproduction RF signal is subjected to A/D conversion, are transmitted to a comparison circuit 14 from a presumed pattern producing circuit 16.例文帳に追加

かかるインパルス応答ｈ（ｔ）をもとにサンプルデータメモリ１７内の各サンプルデータの再生ＲＦ信号を想定し、当該再生ＲＦ信号をＡ／Ｄ変換した標本値データを想定パターン生成回路１６から比較回路１４に送る。 - 特許庁

The surface of the sample 7 including the circular pattern is irradiated with illumination light from an illumination device 16 through the half mirror 13.例文帳に追加

照明装置１６からの照明光は、ハーフミラー１３を通してこの円形パターンを含む試料７の表面を照明する。 - 特許庁

An equivalent time sampler 16 receives the data signal 10 and the triggering phenomenon, and acquires a sample of a data signal in a designated bit pattern.例文帳に追加

等価時間サンフ゜ラ(16)は、データ信号(10)及びトリガ事象を受信し、指定されたビットパターン内のデータ信号のサンプルを獲得する。 - 特許庁

To provide a sample measuring method and device suitable for evaluation of inclination of a pattern edge.例文帳に追加

本発明の目的はパターンエッジの傾斜を評価するのに好適な試料測定方法、及び試料測定装置の提供にある。 - 特許庁

Furthermore, a threshold value is decided from reflectance of a pattern itself to a dispersion waveform of reflection light from a sample and it is specified that a detection position is a large area part of a pattern by the threshold value.例文帳に追加

また、試料からの反射光の分光波形に対し、パターン自体の反射率から閾値を決定し、閾値により、検出位置がパターンの大面積部分であることを特定する。 - 特許庁

To provide a system for evaluating the hole pattern shape especially suitable for matching the center of a displayed region of a sample image correctly with the center of a hole pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。 - 特許庁

By forming sample pattern images in such a manner, a developing roller is rotated before the formation of the resist pattern images, thereby decreasing a nonuniform state of a toner layer held on the surface of the developing roller.例文帳に追加

このようにサンプルパターン像を形成することで、レジストパターン像の形成前に現像ローラを回転駆動し、該現像ローラ表面に担持されるトナー層の不均一性を緩和する。 - 特許庁

In the color sample display medium showing the color sample of the printed matter, the permissible range of the predetermined color difference is digitized and presented which is the color difference of the printed matter with the color sample as the reference in a prescribed pictorial pattern point on the color sample printed by a printer.例文帳に追加

印刷物の色見本が示される色見本表示媒体において、印刷機により印刷される色見本上の所定の絵柄ポイントにおける、前記色見本を基準とする印刷物の色差であって、予め決定された前記色差の許容範囲を数値化して表示することを特徴とする。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

To provide a pattern measuring method and apparatus which can prevent variations attributed to measurement while enabling measurement of patterns even when a sample has a complete circuit pattern and a fine pattern width formed thereon.例文帳に追加

本発明は、複雑な回路パターン及び微細なパターン幅が形成された試料であっても、パターンを測定可能としながらも、測定によるバラツキをも防止することのできるパターン測定方法及びパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

In a hardness testing machine 100, the surface of a sample S is captured by a CCD camera 12, and a pattern formation program 63a is executed by a CPU 61, then, a user can form an optional pattern to be projected on the surface of the sample S.例文帳に追加

硬さ試験機１００において、ＣＣＤカメラ１２により試料Ｓの表面が撮像され、ＣＰＵ６１が、パターン作成プログラム６３ａを実行することによって、その試料Ｓの表面に投影する任意のパターンをユーザが作成することができる。 - 特許庁

In the automatic focusing mechanism, a sample to be inspected 10 in which a pattern is formed is mounted to a mounting part 12, and a pattern-formed surface of the sample to be inspected 10 is irradiated with a light beam for observation which has passed through a slit 20 formed in a field stop 16.例文帳に追加

自動焦点調節機構においては、パターンが形成された検査対象試料１０が載置部１２に載置され、検査対象試料１０のパターン形成面に視野絞り１６に形成されたスリット２０を通過した観察用光ビームが照射される。 - 特許庁

A mask 14 for electron beam exposure has a circuit pattern 42 comprising an opening 40 in a pattern forming region 14a of a substrate 46, irradiates an electron beam Eb, and projects and exposes the circuit pattern 42 into a sample 20 by the electron beam Eb through the circuit pattern 42.例文帳に追加

本電子ビーム露光用マスク１４は、開口４０からなる回路パターン４２を基板４６のパターン形成領域１４ａに有し、電子ビームＥｂを照射して、回路パターン４２を透過した電子ビームＥｂによって回路パターン４２を試料２０上に投影露光するように構成されている。 - 特許庁

A solid lens is brought into close contact with a sample and used along with an object lens to measure and observe the pattern in the sample, enhanced in resolving power in proportion to the refractive index of the solid lens.例文帳に追加

固体レンズを試料に密着させ、対物レンズと共に用いることにより、固体レンズの屈折率に比例して解像度を向上した、試料内部パターンの計測・観察が可能となる。 - 特許庁

A two-dimensional scatter diagram between level dispersion information of the particle image and particle observation position information is displayed on a display part 50, to provide information such as the pattern and the inclination of the sample flow, and a sample flow thickness.例文帳に追加

また、粒子画像のレベル分散情報と粒子観測位置情報の２次元散布図を表示部５０にて表示して、サンプル流れの形状、傾きおよびサンプル流れ厚さ等の情報を得る。 - 特許庁

A contour extracting part 22 obtains the test contour of a test pattern formed on the test object 14 from the binary image and writes the test contour in the sample contour storing part 28 of a sample data storing means 26.例文帳に追加

輪郭抽出部２２は、２値画像から検査対象１４に形成されている検査パターンの検査輪郭線を求めてサンプルデータ記憶手段２６のサンプル輪郭線記憶部２８に書き込む。 - 特許庁

The method comprises the step of obtaining secondary electron images of sites on a sample surface by irradiating the sample surface with charged particle beams, and the step of detecting a pattern having bad electric properties based on the images.例文帳に追加

試料表面に荷電粒子ビームを照射して試料表面の各部位の二次電子画像を得る工程と、その画像に基づいて電気特性の不良なパターンを検出する工程を含む。 - 特許庁

The plate-like sample S as a wafer having a fine pattern is drilled from the surface toward the depth by glow discharge, and drilled cross section is formed, from the surface of the sample S toward the depth direction.例文帳に追加

微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Ｓに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Ｓの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。 - 特許庁

It is preferred that the change in sensitivity with time of the image sensor is determined by moving the image sensor to the other pattern provided in the sample for each predetermined time while obtaining an optical image of whole sample by relatively moving the image sensor with respect to the sample.例文帳に追加

画像センサを試料に対し相対的に移動させることにより、試料全体の光学画像を取得しながら、所定時間毎に試料内に設けた別のパターンに画像センサを移動させて、画像センサの感度の時間的変動を求めることが好ましい。 - 特許庁

This method for making a sample comprises thinning a sample piece 2 that becomes the transmission electron microscopic sample, forming a pattern by a photo resist 3 followed by etching, and polishing a formed etched part 4 by an ion milling device to form an observation part 5.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡観察用の試料となる試料片２を薄片化した後、フォトレジスト３でパターンを形成して、エッチングを行い、形成されたエッチング部４にイオンミリング装置による研磨を行って観察部５を形成する試料作製方法である。 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which processes the surface of a sample with a plasma, where a pattern of a high aspect ratio can be processed at a high speed.例文帳に追加

プラズマを利用し、試料の表面処理を行なうプラズマ処理装置において、高アスペクト比のパターンを高速度で処理する。 - 特許庁

Afterwards, the electron beams 12 accelerated by the optimally accelerated accelerating voltage is irradiated on the sample 16 to carry out dimensional measurement of an actual pattern.例文帳に追加

その後、最適加速加速電圧により加速された電子ビーム１２を試料１６に照射して、実パターンの寸法測定を行う。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of detecting micro defects on a sample with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

The acquisition device obtains a correlation value, on the basis of the sample signal and a reference pattern and accumulates the correlation value for each sampling period.例文帳に追加

捕捉装置は、サンプル信号と参照パターンとに基づいて相関値を求め、当該相関値をサンプリング周期ごとに累積加算する。 - 特許庁

The apparatus includes a laser for outputting an incident laser beam towards the sample and a first diffractive element having a plurality of diffraction pattern portions.例文帳に追加

本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。 - 特許庁

That is, each pattern sample is reconfigured by linear combination of its adjacent object samples and linear embedding is performed.例文帳に追加

すなわち、各識別対象パターンサンプルをその隣接対象サンプルの線形組み合わせによって再構成させ、線形埋め込みを行う。 - 特許庁

A workstation 3 has the reference picture of this sample LSI 21 and information on a Penrose tile pattern transferred to this.例文帳に追加

画像処理用ワークステーション３はこの試料ＬＳＩ２１の参照画像とこれに転写されたペンローズタイルパタンの情報を有している。 - 特許庁

In this sample structure, a Schottky electrode 23 is formed on the surface of a semiconductor substrate 22 where a field pattern 21 is formed.例文帳に追加

このサンプル構造では、フィールドパターン２１が形成された半導体基板２２の表面にショットキー電極２３が形成されている。 - 特許庁

The image-integrated image data is supplied to an edge detector 28, so that a plurality of edge points of a pattern on the sample 22 are detected.例文帳に追加

画像積算された画像データは、エッジ検出器２８に供給され、試料２２上のパターンの複数のエッジ点が検出される。 - 特許庁

To provide a method of removing blur of a pattern image acquired by an SEM and easily and accurately measuring the three-dimensional shape of a pattern of a sample surface based on information of the height direction of a pattern acquired by another measuring machine such as an AFM.例文帳に追加

ＳＥＭによって得られたパターン画像のボケを除去し、ＡＦＭなどの他の計測機で得られたパターンの高さ方向の情報と合わせ、試料表面のパターンの３次元形状を簡便にかつ精度良く計測する方法を提供する。 - 特許庁