「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which center distances of respective parts can be automatically adjusted in the multiple type page imposed printing in response to the results of measurement obtained through the thickness of an ink film or the amount of embossing of a picture pattern having the embossed part of a sample printed article.例文帳に追加

サンプル印刷物のエンボス部を有する図柄のインキ皮膜厚さやエンボス量を測定し、それらの測定結果に応じて多面付け印刷に際して、各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The device is configured so that the direction of arrangement of each evaluation pattern 104 deviates from the direction of extending of the evaluation sample 102.例文帳に追加

基板上に一列に複数の評価パターン１０４が形成され、各評価パターン１０４を含むように基板と垂直な膜状の評価サンプル１０２が切り取られて評価パターン１０４の断面観察に供される半導体装置１００であって、各評価パターン１０４の並び方向と評価サンプル１０２の延在方向がずれるよう構成された。 - 特許庁

To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.例文帳に追加

複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁

The printing device has a printing section to print a printing medium with an image based on image data, a magnification selection section permitting the selection of a sample image showing the relation between the image and the shape of the printing medium and the magnification and a control section that makes the printing section print a printing pattern.例文帳に追加

画像データに基づく画像を印刷媒体に印刷するための印刷部、及び、前記画像の倍率を変更させた際の、画像と印刷媒体の外形との関係を示したサンプル画像と、前記倍率を選択可能とする倍率選択部と、を有する印刷パターンを、前記印刷部に印刷させる制御部、を有する。 - 特許庁

In this sensor chip 100, a reagent reacting with a specific component in a sample is disposed on an insulating substrate 47, the electric characteristic of the reagent is detected with detection electrodes 41 and 43 disposed on the insulating substrate 47, and the specific component is measured, and an identification pattern 51 that has chip information and can be determined by a measuring device is disposed on the insulating substrate 47.例文帳に追加

絶縁基板４７に、試料中の特定成分と反応する試薬が設けられ、絶縁基板４７に設けられた検知電極４１，４３にて試薬の電気特性を検出して特定成分を測定するセンサチップ１００であって、チップ情報を有し測定装置によって判別可能となった識別パターン５１を絶縁基板４７に設けた。 - 特許庁

Two probes 2A and 2B are brought into contact with a given point on the wiring pattern on the sample 4, and absorption currents obtained through the probes are inputted to a differential current-voltage converter 6, so that a difference between the absorption currents is converted into a voltage signal and an absorption current image based on the voltage signal is displayed on the display part 7.例文帳に追加

試料４上の配線パターンの任意の箇所に２本のプローブ２Ａ，２Ｂを接触させ、これらのプローブを介して得られる吸収電流を差動電流電圧変換器６に入力することにより、各吸収電流の差を電圧信号に変換し、この電圧信号に基づく吸収電流像を表示部７に表示させる様に成す。 - 特許庁

A drawing control unit 100 for deflecting an electron beam to perform drawing on a desired position of a sample surface makes graphic data include specified information on a least deflection address unit (LSB) and retrieves LSB every time it calls the graphic data within a pattern from a buffer memory, thereby allowing the changeover of LSB by a gain switch 7 of an analog control unit 6.例文帳に追加

電子ビームを偏向して試料面の所望の位置へ描画する描画制御部１００は、描画パターンの図形データに最小偏向アドレス単位（ＬＳＢ）の指定情報を持たせ、パターン内の図形データをバッファメモリ１から呼び出す度にＬＳＢを取り出し、アナログ制御部６のゲイン切替７によってＬＳＢ切替を可能にしている。 - 特許庁

During work of removing a damaged layer which arises from an ion beam, transmitted electrons are detected with a two-dimensional detector, the transmitted electrons arising by irradiating a sample with an electron beam formed by an electron beam optical system, and the timing of the completion of the work of removing the damaged layer is determined on the basis of the blur amount of a diffraction pattern obtained with the two-dimensional detector.例文帳に追加

イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope that accurately specifies the measuring region of a sample having a minute pattern that cannot be observed easily by an optical microscope, is capable of alignment, and can correct measuring profile distortion caused by the variation of a probe shape or probe wear, based on the state of the probe shape and probe wear.例文帳に追加

光学顕微鏡では観察が困難であるような微細パターンを有する試料の計測領域を正確に特定し、位置合わせすることができ、探針形状および探針磨耗の状態に基づいて、探針形状のばらつき、もしくは探針磨耗に起因する計測プロファイル歪みの補正を行うことのできる走査プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method for a virtual color sample and a virtual molding which can save the much time and trouble to form an abstract pattern molding by saving the trouble to form an actual trial piece by instantaneously displaying on a computer screen a virtual molding which is as close to the design that a user intends as possible.例文帳に追加

ユーザの意図するデザインにできるだけ近似した仮想成形品を瞬時にコンピュータ画面上に表示することによって、現実の試作品を作成する手間をできるだけ省き、抽象柄成形品を作成するまでの多大の時間と労力を大幅に削減することができる仮想色見本および仮想成形品の作成方法を提供する。 - 特許庁

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances.例文帳に追加

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。 - 特許庁

The exposing means restarts the exposure of the sample to the pattern from an unexposed subfield based on the return signal.例文帳に追加

請求項１の荷電粒子線露光装置は、複数のサブフィールドが設けられた試料に、パターンを露光する露光手段と、外部磁界の変動が予め定められた値より小さくなる場合に、復帰信号を出力する復帰信号出力手段とを有する荷電粒子線露光装置であって、前記露光手段は、前記復帰信号に基づいて、未露光の前記サブフィールドから前記パターンの露光を再開することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an endless belt and its manufacturing method for restraining the occurrence of an attraction failure of a transfer material and an image failure in cardboard of a small size, which is caused when electric resistance is low, while preventing pollution by the paper powder of an endless belt surface and the generation of a polka-dot pattern when forming a sample toner image, and caused when the electric resistance is high.例文帳に追加

電気抵抗が高いことに起因する、エンドレスベルト表面の紙粉による汚染およびサンプルトナー画像形成時の水玉模様の発生を防止すると同時に、電気抵抗が低いことに起因する、転写材の吸着不良および小サイズの厚紙での画像不良の発生を抑制するエンドレスベルト、およびその製造方法の提供することにある。 - 特許庁

To provide a manifold assembly comprising a manifold including fluid conduits of a predetermined pattern extending through it, and a platen that is attached to the manifold and includes a plurality of sample receiving trays, each of which includes an inlet fluid-connecting to at least one fluid conduit of the manifold and an outlet fluid-connecting to at least one fluid conduit.例文帳に追加

マニホルドであって、これを通じて延びる所定パターンの流体導管を含むマニホルドと、マニホルドに取付けられたプラテンであって、複数のサンプル受容部分を含み、ここで、サンプル受容部分の各々が、マニホルドの少なくとも１つの流体導管と流体連絡する入口、および少なくとも１つの流体導管と流体連絡する出口を含むプラテン、とを備える、マニホルドアセンブリを提供すること。 - 特許庁

A device for cleaning the exposing optical path of an aligner is provided with a supplier 7 which supplies an inert gas into the exposing optical path 2 of the exposure device, and an F_2 laser oscillator 1 which projects exposing light for exposing a prescribed sample to a pattern by means of the exposure device or the other light which is different from the exposing light for cleaning the exposing optical path.例文帳に追加

露光装置の露光光路内に不活性ガスを供給する供給部７と、上記供給部７により不活性ガスが供給された上記露光装置の露光光路２内に、上記露光装置により所定の試料にパターンを露光するための露光光、あるいは露光光とは異なる光を露光光路洗浄のために照射するＦ_２レーザー発振機１とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for exposing a desired pattern on a sample mounted on a wafer stage 124 with an electron beam generated from an electron gun 101 comprises a means 129 for injecting reducing gas into a column 100 containing the electron gun 101 and the wafer stage 124, and a control means 209 for sustaining injection of reducing gas into the column 100 for a predetermined time.例文帳に追加

電子銃１０１から発生させた電子ビームでウエハステージ１２４に載置した試料上に所望のパターンを露光する電子ビーム露光装置において、前記電子銃１０１及びウエハステージ１２４が収納されているコラム１００内に還元性ガスを注入する手段１２９と、前記コラム１００内に前記還元性ガスの注入を所定の時間継続して行わせる制御手段２０９とを有する。 - 特許庁

An SEM image formed by signals obtained by scanning electrons on a sample is obtained by an electrooptical system composed of an electron source for generating the electrons on a silicon substrate with a part of a semiconductor integrated circuit formed thereon, and an electromagnetic lens or electrostatic lens; a reference image is obtained by averaging a plurality of images or by automatic generation from design data; and shape dispersion and superposition accuracy of a pattern are statistically calculated by comparing them.例文帳に追加

半導体集積回路の一部が形成されたシリコン基板上で、電子を発生させる電子源と電磁レンズあるいは静電レンズからなる電子光学系により試料上で上記電子を走査して得られる信号により構成したＳＥＭ画像を取得して、複数の画像を平均化あるいは設計データから自動生成によって参照画像をもとめ、比較して、パターンの形状ばらつきや重ねあわせ精度を統計的に算出する。 - 特許庁

This manifold assembly for an automation tissue processing system includes a manifold including the fluid conduits of the predetermined pattern extending through it, and the platen that is attached to the manifold and includes the plurality of sample receiving trays, each of which includes the inlet fluid-connecting to at least one fluid conduit of the manifold and the outlet fluid-connecting to at least one fluid conduit.例文帳に追加

自動化組織処理システムのためのマニホルドアセンブリであって、マニホルドであって、これを通じて延びる所定パターンの流体導管を含むマニホルドと、マニホルドに取付けられたプラテンであって、複数のサンプル受容部分を含み、ここで、サンプル受容部分の各々が、マニホルドの少なくとも１つの流体導管と流体連絡する入口、および少なくとも１つの流体導管と流体連絡する出口を含むプラテン、とを備える、マニホルドアセンブリ。 - 特許庁