「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

An operation input pattern sampling part 140 samples an analysis pattern obtained when detection request signals are given from an external unit 200 as an operation input pattern, and a pattern selection part 160 selects a pattern that matches the sampled pattern from the sample pattern storage part 150.例文帳に追加

操作入力パターン採取部１４０は、外部ユニット２００から検知要求信号が与えられた時に得られた解析パターンを操作入力パターンとして採取し、パターン選択部１６０は、当該採取パターンに合致するパターンを、サンプルパターン格納部１５０から選択する。 - 特許庁

The sample W to be inspected is irradiated with a specific light source pattern by the patterning light source 1 to image the light source pattern applied to the sample W to be inspected by a camera 2 (S1).例文帳に追加

被検査試料Ｗに対して、所定の光源パターンをパターン化光源１より照射し、被検査試料Ｗに照射された光源パターンをカメラ２により撮像する（Ｓ１）。 - 特許庁

To facilitate setting of an inspection region to be inspected in an imaged image, in pattern inspection for inspecting a repeated pattern on the sample surface, by using the photographed image of the sample surface.例文帳に追加

試料の表面の撮像画像を用いて試料表面の反復パターンを検査するパターン検査において、撮像画像内で検査を行うべき検査領域の設定を容易化する。 - 特許庁

To avoid changing the magnetic field in a sample room against the calorific value variation in response to a pattern writing operation, and reduce the temperature change of a sample, stage structural members and sample room structural members.例文帳に追加

描画動作に応じた発熱量変化があっても、試料室の中に磁場変化を生じることなく、試料、ステージ構造部材、試料室構造部材の温度変化を低減すること。 - 特許庁

The image forming apparatus has a fixed sample output function that fixes a toner image of a predetermined sample pattern in a plurality of different fixing conditions (sample A to E) and outputs the result.例文帳に追加

画像形成装置は、所定のサンプルパターンのトナー像を、複数の異なる定着条件（ｓａｍｐｌｅ Ａ〜Ｅ）で定着させて出力する定着サンプル出力機能を有している。 - 特許庁

In this state, a sample-and-hold transistor 221 is turned off, and then the sample-and-hold capacity 223 is read as correction data of the vertical fixed pattern noise.例文帳に追加

この状態で、サンプルホールドトランジスタ２２１をオフした後、サンプルホールド容量２２３を読み出して縦線固定パターンノイズの補正データとする。 - 特許庁

The sample 12 is formed with the wiring pattern and is fixed onto the sample stage 11, and an electronic beam is made incident on a surface thereof from the irradiation part 1.例文帳に追加

試料１２は、配線パターンが形成され、試料ステージ１１に固定され、表面に照射部１から電子ビームが入射される。 - 特許庁

When generation of a cloth sample is indicated, the CPU 2 outputs clothe information (cloth, the color, the pattern, etc.), of the try-on image to the cloth sample generator 9.例文帳に追加

ＣＰＵ２は生地見本の作成が指示されると、生地見本作成装置９に試着画像の衣服情報（生地，色,柄等）を出力する。 - 特許庁

A sample, having a pattern having a cross-sectional shape suitable for resolution monitoring.例文帳に追加

本発明では，分解能モニタに適した断面形状のパターンを有するサンプルを提供する。 - 特許庁

A user can select either an output mode and a kind of texture pattern added as a sample.例文帳に追加

ユーザは、出力モードと、サンプルとして付加する地紋パターンの種類とを選択することができる。 - 特許庁

A laser beam having a parallel light flux is projected toward a sample 1 formed with a periodical pattern.例文帳に追加

周期性パターンが形成された試料１に向けて平行光束のレーザビームを投射する。 - 特許庁

As one sample of the grooves, grooves having the grid pattern of 50 mm square and 7 mm depth is given.例文帳に追加

溝の一例としては、幅５０ｍｍ画、深さ７ｍｍの碁盤目状の溝が挙げられる。 - 特許庁

The feature quantity is extracted from a sample pattern 1 and stored in a feature quantity database 3.例文帳に追加

サンプルパターン１から特徴量を抽出して特徴量データベース３に格納しておく。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING WOVEN OR KNITTED FABRIC ARTICLE WITH PATTERN SIMULATING WOVEN OR KNITTED FABRIC SAMPLE HAVING SPECIFIC PATTERN BY COMPUTER SUPPORT例文帳に追加

コンピュータ支援によって、特定のパターンを有する織編物サンプルをシミュレートするパターン付きの織編物品を製作する方法およびシステム - 特許庁

To provide a method for manufacturing a woven or knitted fabric article with a pattern simulating a woven or knitted fabric sample having a specific pattern by a computer support.例文帳に追加

コンピュータ支援によって、特定のパターンを有する織編物サンプルをシミュレートするパターン付きの織編物品を製作する方法。 - 特許庁

In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.例文帳に追加

半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

The pattern retrieving device comprises a means for storing the feature quantities of images of a plurality of definitions different from each other of each sample pattern, a means for calculating the feature quantity of the presented pattern, and a means for measuring a distance between the feature quantity of the image of each definition of each sample pattern and the feature quantity of the presented pattern.例文帳に追加

各サンプル模様の相互に異なる複数の解像度の画像の特徴量を格納する手段と、提示された模様の特徴量を計算する手段と、各サンプル模様の各解像度の画像の特徴量と前記提示された模様の特徴量との間の特徴量距離を測定する手段と、を備える。 - 特許庁

An irradiation positions of the plurality of primary electron beams on the sample are set in accordance with a repetition pattern interval of the sample for the inspection, and repetition pattern images of the comparison object are obtained at the same time.例文帳に追加

前記複数一次電子ビームの試料上の照射位置を前記被検査試料の繰り返しパターン間隔に合わせて設定して、比較対象の繰り返しパターン画像を同時に取得する。 - 特許庁

SAMPLE HOLDER, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE, SEMICONDUCTOR INSPECTION DEVICE, CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION DEVICE, CALIBRATING BOARD, SAMPLE HOLDING METHOD, CIRCUIT PATTERN INSPECTION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION METHOD例文帳に追加

試料保持機，半導体製造装置，半導体検査装置，回路パタ—ン検査装置，荷電粒子線応用装置，校正用基板，試料の保持方法，回路パタ—ン検査方法、および、荷電粒子線応用方法 - 特許庁

To suppress effectively generation of pseudo-defects, in defect detection for detecting pattern defects on a sample surface, by inspecting a photographed image on the sample surface.例文帳に追加

試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁

In order to evaluate the pattern of a sample K, an electron beam 2a emitted from an electron gun 37 is made incident on a sample face Ka through an object lens 10.例文帳に追加

試料Ｋのパターンを評価するため、電子銃３７から放出される電子線２ａを対物レンズ１０を介して試料面Ｋａへ入射させる。 - 特許庁

The sample flow pattern in an optical-axis direction of a microscope is estimated by a flow pattern extracting part 53, in a characteristic parameter of the particle image.例文帳に追加

粒子画像の特徴パラメータにおいて顕微鏡光軸方向のサンプル流れ形状を流れ形状抽出部５３にて推定する。 - 特許庁

The photomask 100 for exposure having a mask pattern 102 and a mask pattern 104 complementing the mask pattern 102 is irradiated with light from a light source, and the mask patterns 102 and 104 are superimposed, as a mask, in the same region of a sample for sample exposure.例文帳に追加

マスクパターン１０２と、マスクパターン１０２を相補するマスクパターン１０４とが形成された露光用フォトマスク１００に光源からの光を照射し、マスクパターン１０２，１０４をそれぞれマスクとして試料の同一領域に重ねて露光する。 - 特許庁

The bit test pattern vector and the sample vector of the bits vary when compared several times.例文帳に追加

ビット・テスト・パターン・ベクトルおよびビットのサンプル・ベクトルは両方とも何回かの各比較に対して変化する。 - 特許庁

Each reference pattern is the average value of clusters obtained by cluistering a category learning sample group to Nh pieces.例文帳に追加

各参照パターンは、カテゴリの学習サンプル群をＮ_ｈ個にクラスタリングして得た各クラスタの平均値である。 - 特許庁

At each observing point on a sample, an electronic diffraction pattern D_xy is imaged by a CCD camera.例文帳に追加

試料上の各観察点において、電子回折図形Ｄ_ｘｙがＣＣＤカメラで撮像される。 - 特許庁

When the manufacturing process of the sample substrate progresses subsequently and variation is detected in the shape of the basic pattern, a new pattern used for correcting the mounting position of the sample substrate on the supporting base is recorded temporarily, and the positional shift is corrected when mounting the sample substrate on the supporting base using the new pattern recorded temporarily.例文帳に追加

その後、試料基板の製造処理が進行し、基本パターンの形状に変化があった場合に、試料基板を支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる新たなパターンを仮記録し、仮登録された新たなパターンを用いて、試料基板を支持台に載置する際の載置位置のズレを補正する。 - 特許庁

A function showing a transition of a change of a pattern dimension when the electron beam is irradiated on a sample is prepared in each the sample pattern, a dimension value of the pattern measured by scanning the electron beam on a specific pattern is applied to the function prepared for the specific pattern, and the dimension of the specific pattern before the change is calculated.例文帳に追加

この目的を達成するために、本発明によれば、試料パターンの種類ごとに、試料上に電子線を照射したときのパターン寸法の変化の推移を示す関数を用意し、特定パターンに前記電子線を走査して測定された前記パターンの寸法値を、当該特定パターンのために用意された前記関数に当てはめて、前記特定パターンの変化前の寸法を算出する。 - 特許庁

By scanning an original plate where a pattern is formed and irradiating the original plate with charged particle beams or electromagnetic waves, the pattern is transferred to a sample.例文帳に追加

パターンの形成された原版を走査させ、荷電粒子ビームまたは電磁波を、前記原版に照射することにより、試料にパターンを転写する。 - 特許庁

Information, indicating diffraction pattern intensity, may be used to determine one or more sample characteristics and/or one or more pattern characteristics.例文帳に追加

１若しくは複数のサンプル特性及び／または１若しくは複数のパターン特性を決定するために、回折パターン強度を示す情報が用いられることがある。 - 特許庁

This measuring method of a dimension of a register pattern consists of cooling a sample before measuring a regist pattern dimension with a scanning electron microscope.例文帳に追加

レジストパターンの寸法を走査型電子顕微鏡で測定するにあたり、試料を冷却して測定することを特徴とするレジストパターンの寸法測定方法。 - 特許庁

The light intensity distribution of the speckle pattern corresponding to the non-image part is extracted to calculate an average light intensity, and a pattern sample is generated using it as a threshold.例文帳に追加

そして、非画像部に対応するスペックルパターンの光強度分布を抽出して、平均光強度を算出し、これを閾値としてパターンサンプルを生成する。 - 特許庁

If it matches any one sample pattern, Ndpi one pixel 1 bit binary gray scale of the interested pixel is converted into gray scale of Ndpi one pixel M gray scale corresponding to the matched sample pattern.例文帳に追加

そして、いずれかのサンプルパターンと一致する場合、Ｎｄｐｉ一画素１ビット２値の注目画素の階調を、Ｎｄｐｉ一画素Ｍ値の階調に変換する際に、その一致したサンプルパターンに応じた階調に変換する。 - 特許庁

The sample pattern downloaded via the Internet is turned into a state its reuse is made unavailable, so that the sample pattern stored once in this device can be prevented from being used without authorization after its original purpose of use is achieved.例文帳に追加

インターネットを経由してダウンロードしたサンプルパターンを再利用不可能な状態にするので、装置に一度蓄積したサンプルパターンが本来の使用目的を終えた後に無断で使用される事態を防止できる。 - 特許庁

To provide a sample chamber for gas exhaustion to keep the area around the sample at a constant, high degree of vacuum by performing a stable gas exhaustion and also a circuit pattern forming device which can draw images accurately over the whole sample area.例文帳に追加

安定した気体排気を行なって、試料周辺を一定した高真空度に保つ気体排気用試料室及び試料全域に渡り高精度な描画が可能な回路パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain high detection sensitivity even if the state of a sample is various in the inspection of a sample having a pattern formed thereto such as a semiconductor wafer or the like.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェハなどのパターンが形成された試料の検査において、試料の状態が多様であっても、高い検出感度を得ることを目的とする。 - 特許庁

When an electron beam is irradiated on one point of a sample, the reflected electrons or the transmission electrons generated from the sample are collided with the scintillator, and a light-emitting pattern is formed.例文帳に追加

試料の一点に電子線を照射すると試料から発生した反射電子または透過電子はシンチレータに衝突して発光パターンが形成される。 - 特許庁

Then, the exposure beam and the sample are relatively scanned in the selected scanning direction, so that the pattern to be exposed is drawn and exposed on the sample.例文帳に追加

そして、前記露光ビームと前記試料とを相対的に前記選択した走査方向に走査させて前記試料上に前記露光すべきパターンを描画露光する。 - 特許庁

A correction data generating device 60 is coupled to a print sample reading device 70 for reading a test pattern on a print sample PS formed by using an LPH (light emitting diode print head) 14.例文帳に追加

補正データ生成装置６０は、ＬＰＨ１４を用いて作成されたプリントサンプルＰＳ上のテストパターンを読み取るプリントサンプル読取装置７０に接続されている。 - 特許庁

To provide a shape monitoring apparatus for monitoring, within a short period of time, a shape of sample having fine pattern such as a semiconductor device with less amount of damage applied to the sample.例文帳に追加

半導体装置のような微細なパターンを有する試料の形状を短時間で観察でき、試料に与えるダメージが小さい形状観察装置を提供する。 - 特許庁

In a sample component separating apparatus, a gel plate 10 subjected to electrophoresis is placed on a detection scanner 12 and the image of the developed pattern thereof is obtained.例文帳に追加

電気泳動されたゲル板１０を検出スキャナ１２上に載置し、その展開パターンの画像を取得する。 - 特許庁

To solve the problem of failures in search processing due to foreign matters sticking on a sample or a pattern defect in a template matching processing.例文帳に追加

テンプレートマッチング処理において、試料に付着した異物やパターン欠陥によってサーチ処理を失敗する。 - 特許庁

By this constitution, the electrophoretic system 1 can rapidly detect the separation pattern of the sample after electrophoresis.例文帳に追加

これによって、電気泳動装置１は、電気泳動後のサンプルの分離パターン検出を迅速に行うことができる。 - 特許庁

To reduce an artifact of a radial pattern occurring in image reconstruction by X-ray absorption difference of a sample.例文帳に追加

試料のＸ線吸収差により、画像再構成に生じる放射状パターンのアーチファクトを低減する。 - 特許庁

To make an actual flow pattern of a sample in a flow cell observed.例文帳に追加

フローセル中のサンプルの実際の流れ形状を観察することが可能なフロー式粒子画像解析装置を実現する。 - 特許庁