「sample pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, while changing the intensity of the electric field actually, the sample where a pattern which is a length measuring object is formed is irradiated with an electron beam, and the quantity of the electrons emitted from the sample is detected by the electron detector (step S4).例文帳に追加

そして、実際に、電界の強度を変化させながら、測長の対象であるパターンが形成された試料に電子線を照射し、電子検出器により試料から放出された電子の量を検出する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The flow pattern such as an inclination of a sample flow is detected based on a relation between a position using a focus position of an image pick-up means 101 as a reference, and a level dispersion Cv of standard particles of uniform size in the sample flow.例文帳に追加

画像撮像手段１０１の焦点位置を基準とした位置と、サンルプル流れにおけるサイズの揃った標準粒子のレベル分散Ｃvとの関係に基づいて、サンプル流れの傾き等の流れ形状を検出する。 - 特許庁

A dead zone area preparing means 15 prepares a neighborhood area in a periphery of an area corresponding to the sample pattern 12 of an original image 11, and prepares a dead zone area excepting a processing object in at least one side out of outer and inner sides of a boundary part between the sample pattern 12 and the neighborhood area.例文帳に追加

不感帯領域作成手段１５は、原画像１１のサンプル図形１２に対応する領域の周囲に近傍領域を作成するとともに、サンプル図形１２と近傍領域との境界部よりも外側および内側のうち少なくともいずれか一方に、処理対象から除外される不感帯領域を作成する。 - 特許庁

Namely, by passing an image formation sample through the same pressure fixing device a plurality of times of which number corresponds to an image pattern, the fixing rate suitable to the image pattern is assured by the same pressure fixing device without generating abnormal sound at the time of exit from a fixing nip, thus enabling an excellent image formation sample to be output.例文帳に追加

すなわち、画像形成サンプルを同一圧力定着装置に通す回数を画像パターンに対応して行うことにより、定着ニップ抜け時の異音を発生させることなく同一圧力定着装置で画像パターンに適した定着率を確保し、良好な画像形成サンプルの出力を可能とする。 - 特許庁

To provide an evaluating method for a charged particle beam drawing device in which a pattern drawn using a charged particle beam is evaluated and when a desired pattern is not drawn, the cause thereof is specified, and to provide the charged particle beam drawing device that can draw the desired pattern on a sample.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いて描画されたパターンを評価し、所望のパターンが描画されていない場合に、その原因を特定することのできる荷電粒子ビーム描画装置の評価方法と、試料に所望のパターンを描画することのできる荷電粒子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁

The method for detecting a fault of a pattern comprises the steps of positioning an inspecting pattern image imaged from an object to be inspected at the same coordinate position as that of a reference pattern image obtained by imaging a reference sample of a good article, detecting a distance between boundary points of the respective patterns, and deciding the fault from a maximum value of the distance between the points.例文帳に追加

検査対象物を撮像した検査パターン画像を、良品である基準サンプルを撮像した基準パターン画像と同一座標位置に位置決めし、それぞれのパターンの境界点間の距離を検出して、各境界点間の距離の最大値から欠陥を判定する。 - 特許庁

In the case of calculating the focus evaluation values of respective sample images acquired at a plurality of focus positions, smoothing processing is performed to the acquired sample image so as to reduce the gradation pattern of brightness caused by the optical system, and the focus evaluation value is calculated on the basis of the sample image to which the smoothing processing is performed.例文帳に追加

複数のフォーカス位置で取得した各サンプル画像のピント評価値を算出するに当たり、取得したサンプル画像に平滑化処理を施して光学系に起因する明るさの濃淡パターンを軽減し、この平滑化処理したサンプル画像に基づいてピント評価値を算出するようにする。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

The mechanism 2 for forming an indentation on the surface Q of a sample by pressing an indentation chip 2c disposed to elevate/lower freely comprises a light source 21 which forms an illumination pattern P, for recognizing the position where the forward end of the lowered indentation chip 2c touches the surface Q of the sample, on the surface Q of the sample.例文帳に追加

昇降自在に配設される圧子２ｃを押圧させて試料表面Ｑに圧痕を形成させる圧痕形成機構２を構成し、下降させた圧子２ｃの先端が試料表面Ｑに接触する位置を認識するための照光パターンＰを、試料表面Ｑに形成させる光源２１を備える。 - 特許庁

In a preferred embodiment, the liquid sample is tested for the presence of soluble constituent(s) by contacting a sample with a sensor array under specific conditions, removing unbound sample constituent(s), determining the mass increase on the surface and comparing the mass increase data with a reference standard using pattern recognition software.例文帳に追加

好ましい態様において、特殊な条件下で試料とセンサーアレイとを接触し、非結合性の試料成分を除去し、表面上の質量増加を決定し、パターン認識ソフトウェアを用いて前記質量増加データと参照用基準とを比較し、可溶性成分の存在に関して液体試料を測定する。 - 特許庁

In the electron beam-plotting technique for independently turning on and off each of a plurality of electron beams for scanning to plot a desired pattern on a sample, the deviation between a pattern that is plotted by each of the plurality of electron beams and the desired pattern to be plotted is controlled by shifting the position of pattern data that are drawn by each of the plurality of electron beams.例文帳に追加

複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと描画すべき前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御する。 - 特許庁

In the method of setting the condition for measuring the pattern of a charged particle beam device and the device of setting the condition for measuring the pattern, a beam condition of an SEM is derived based on pattern information in and/or out of the field of view of the SEM obtained from design data of a sample on which a pattern is formed.例文帳に追加

上記目的を達成するために、以下に荷電粒子ビーム装置のパターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置であって、パターンが形成された試料の設計データから得られるＳＥＭの視野内、及び／又は視野外のパターン情報に基づいて、ＳＥＭのビーム条件を導出する方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

A color adjusting sheet having a reference density part B and a density pattern A consisting of a plurality of density parts different from the reference density part B is printed on the basis of a stored color sample density pattern in a color image forming apparatus.例文帳に追加

カラー画像形成装置において、記憶した色見本濃度パターンに基づいて基準濃度部分と該基準濃度部分Ｂと複数の異なる濃度部分からなる濃度パターンＡを有する色調整シートを印刷する。 - 特許庁

A circuit pattern made of two types of metal or alloy is provided to detect a temperature difference between sides of a sample and a control while an insulating substrate provided with a circuit pattern of a metallic resistor is fixed on a heat sump to control the temperature of the heat sump.例文帳に追加

試料側、参照側の温度差を検出するための２種類の金属または合金の回路パターンを設けると共に、金属抵抗体の回路パターンを設けた絶縁基板を熱溜に固定し、熱溜を温度制御する。 - 特許庁

The projection exposing machine projects illumination luminous flux on a reticle 800 having a target reticle pattern 810 and projects illumination luminous flux having passed through the reticle on the sample 900 to expose the reticle pattern.例文帳に追加

本実施の形態の投影露光機は、照明光束を目的のレチクルパターン８１０を有するレチクル８００に投射し、当該レチクルを透過した照明光束を試料９００上に投影して、レチクルパターンの露光を行う。 - 特許庁

The workstation 3 superimposes the Penrose tile pattern of the reference picture and the Penrose tile pattern of the sample LSU 21 (the object picture) through a microscope to calculate the displacement quantity between the reference picture and the object picture.例文帳に追加

画像処理用ワークステーション３は参照画像のペンローズタイルパタンと顕微鏡２を介して得られた試料ＬＳＩ２１（対象画像）のペンローズタイルパタンとを重ね合わせて参照画像と対象画像との位置ずれ量を算出する。 - 特許庁

At pattern drawing, the positional deviation amount of a sample is acquired from the pre-stored data based on the temperature fluctuation of the sample stage, and the positional deviation amount is corrected by a deflection control system 115 or a laser measurement system 109, and an electron lens control system 117.例文帳に追加

パターン描画時に、試料ステージの温度変動をもとに、予め記憶しておいたデータから試料の位置ずれ量を求め、偏向制御系１１５またはレーザ測定系１０９、電子レンズ制御系１１７で位置ずれ量の補正を行う。 - 特許庁

The image processor actually reads a sample of the characteristic pattern and adjusts the characteristic color range stored in the characteristic color extracting part 46 so that distribution of the characteristic color pixels extracted from the read-out sample is fit in with the distribution data.例文帳に追加

画像処理装置は、実際に特徴パターンの標本を読み取り、読み取った標本から抽出した特徴色画素の分布が分布データに適合するように、特徴色抽出部４６で記憶する特徴色範囲を調整する。 - 特許庁

When the reflection light intensity of a sample point on the surface of an object is calculated, the curvature of the surface of the object at the sample point is calculated, and pattern data of each layer are compounded according to the visualization percentage corresponding to the curvature.例文帳に追加

物体表面上のサンプル点の反射光強度を求める際に、当該サンプル点における物体表面の曲率を求め、当該曲率に対応した可視割合に応じて、各レイヤーごとの絵柄データを合成して反射特性を決定する。 - 特許庁

The polarization (alpha)(an angle (alpha) from s-polarization) of light irradiated to a sample, an object under defect detection, is calculated by substituting the condition of the circuit pattern of the sample, and the azimuth angle, and incident angle of irradiation light into a prescribed formula.例文帳に追加

欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁

To provide a microscope device capable of realizing with a simple constitution an illumination means for illuminating a sample which is an observation object and a space filter for removing a specific space frequency component of a pattern on the sample, and its illumination method.例文帳に追加

本発明は観察対象である試料を照明する照明手段と、この試料上のパターンの特定の空間周波数成分を除去する空間フィルタとを簡単な構成で実現する顕微鏡装置及びその照明方法を提供する。 - 特許庁

When a parameter showing this shape (height, bottom width, volume) exceeds a predetermined range, the sample chamber is cleaned in combination with an existing cleaning method, whereby the pattern width of the observation sample can be accurately and stably measured.例文帳に追加

そして、この形状を表すパラメータ（高さ、底面の幅、体積）が所定の範囲を超えたとき、既存のクリーニング方法を併用して試料室内の清浄化を図ることにより、観察用試料のパターン幅を精度良く、安定的に計測可能にする。 - 特許庁

Polarization (alpha) (an angle (alpha) from s polarization) of light to be emitted on a sample which is an object for performing defect detection is calculated by substituting a condition of a circuit pattern of the sample, an azimuth angle and an incident angle of irradiation light in a predetermined formula.例文帳に追加

欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁

This system has a chamber for receiving a sample of the suspension while circulating the suspension in a mechanical system, and an interferometer for generating an interference pattern by combining a reference signal, and a signal emitted from the sample showing a characteristic in the suspension.例文帳に追加

懸濁液を機械的システム内に循環させながら、懸濁液のサンプルを受け入れるチェンバと、基準放射信号と、懸濁液内の特性を表すサンプル放射信号を組み合わせることにより、干渉パターンを生成する干渉計とを有する。 - 特許庁

To efficiently measure a distribution pattern of molecular weight of hyaluronic acid from a small amount (1 mL or smaller) of biological sample of mammal origin.例文帳に追加

ラジオアイソトープを用いることなく、１ｍＬ以下の少量の哺乳動物由来の生体液試料からヒアルロン酸の分子量の分布パターンを効率よく測定する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring device capable of projecting a pattern to a sample from an optional direction around an imaging optical axis by one projection optical system.例文帳に追加

１つの投影光学系により撮像光軸周りの任意の方向からパターンを標本に投影することができる３次元形状計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method for biochemical examination for accurately, quickly detecting a signal for indicating emission luminance in a micro pattern included in a sample image by simple processing.例文帳に追加

サンプル画像に含まれる微細パターンの発光輝度を示すシグナルを、簡易な処理で正確かつ迅速に検出できる生化学的検査用画像処理方法を提供できる。 - 特許庁

The device 9 prints white cloth with the color and the pattern on the basis of this information to generate a cloth sample through stages of postprocessing, washing, and drying.例文帳に追加

生地見本作成装置９はこの情報に基づき白色の生地に色、柄をプリントし、後処理、洗浄及び乾燥の各工程を経て生地見本を作成する。 - 特許庁

The pattern projection device includes a spatial light modulator (1) arranged at a position optically conjugate with a sample, and a controller for controlling the spatial light modulator (1).例文帳に追加

パターン投影装置は、標本と光学的に共役な位置に配置された空間光変調器（１）と、空間光変調器（１）を制御する制御装置を含んでいる。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for plasma processing where precision processing of fine pattern for a sample of large diameter is easy and the selective ratio in fine processing is improved.例文帳に追加

大口径の試料について微細パターンの精密な加工が容易で、また、微細加工時の選択比も向上させたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

In a learning device of classifier for classifying an input pattern into multiple classes C_y, a measure value d_y(x,Λ) that incorrectly classifies a sample x of C_y into other classes is defined.例文帳に追加

入力パターンを複数クラスC_ｙに分類する分類器の学習装置において、C_yの標本ｘが他のクラスに誤分類される測度値d_y(x,Λ)が定義される。 - 特許庁

Many ligands are patterned on the surface of the substrate in the form of arrays to analyze the binding pattern of a sample to the arrays, thereby enabling the taxonomic identification of microorganisms.例文帳に追加

基材表面に多くのリガンドをアレイ状にパターン化することによって、アレイに対する試料の結合パターンを分析すれば、微生物の分類学的同定が可能である。 - 特許庁

To provide a microscope device which arbitrarily changes a pattern of light irradiating a sample and its irradiation position, with high light utilization efficiency, under various device conditions.例文帳に追加

さまざまな装置条件下で、標本に照射する光のパターンやその照射位置を、高い光の利用効率で任意に変更する顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁

A statistic calculating part 101 finds the statistic of a feature vector extracted from the learning pattern of each class (average vector and sample covariance matrix of each class).例文帳に追加

統計量算出部１０１は、各クラスの学習パターンから抽出される特徴ベクトルの統計量（各クラスの平均ベクトルと標本分散行列）を求める。 - 特許庁

A spectacles model generation part 15 creates a spectacles model under the consideration of textures such as spectacles frame shapes and the shapes of eyeballs in a spectacles frame from the learning pattern of a sample image.例文帳に追加

眼鏡モデル生成部１５は、サンプル画像の学習パターンから眼鏡フレーム形状と眼鏡フレーム内部の眼球の形状などのテクスチャを加味した眼鏡モデルを生成する。 - 特許庁

Japanese paper (1), high-quality paper or a piece of cloth as a stamping real target is stuck on the upper flat surface (2) of a stamp wood base, and a pattern is printed thereon as a sample.例文帳に追加

スタンプ台木上部平面（2）に和紙（1）又は印を押す目的とする上質の紙類の実物又は布地、を見本としてスタンプ台木上部に貼付け印刷する。 - 特許庁

To eliminate an adverse influence on the accuracy at the time of loading wafers by vibration during the operation of a gate valve which is an entrance or exit of a sample chamber for pattern evaluation of wafers.例文帳に追加

ウェーハのパターン評価をする試料室の出入口となるゲートバルブ作動時の振動が、ウェーハをロードする際の精度に悪影響を与えないようにする。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of forming a repeated pattern, with high interval accuracy on the side surface of the sample to be exposed.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面に高い間隔精度で繰り返しパターンを形成できる露光方法を提供できるようにすることである。 - 特許庁

In the quality evaluating means 22, this reproduced test pattern data are sampled and taken in by an AD converter 23, the sample data are accumulated in a memory 24 to evaluate quality.例文帳に追加

品質評価手段２２では、ＡＤコンバータ２３でこの再生テストパターンデータをサンプリングして取り込み、そのサンプルデータを、品質評価のために、メモリ２４に蓄積する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can reduce the influence of electron beam leakage on a sample by dislocating a stage when a pattern-drawing process is suspended.例文帳に追加

描画処理が一時的に停止した場合に、ステージを移動して電子ビーム漏れによる試料への影響を低減することのできる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

In generating image used for collating in pattern recognition, contrast difference value about different combination of two pixel in a plurality of sample images are calculated.例文帳に追加

パターン認識における照合に用いられる画像を生成するにあたり、まず複数の見本画像において２つの画素の異なる組合せについての濃淡差分値を計算する。 - 特許庁

To accurately discriminate a defect at a pattern edge in a method for comparing a sample image with a target image and detecting the defect in the target image in units of pixel.例文帳に追加

サンプル画像とターゲット画像とを比較し、画素単位でターゲット画像の欠陥を検出する方法において、特にパターンのエッジ部における欠陥を正しく判別する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection technology enabling inspecting the surface shape by the inspection device of mirror electron projection type even though the resist material is formed on the sample.例文帳に追加

試料上にレジスト材料が形成されていても、その表面形状を、ミラー電子プロジェクション式検査装置によって検出可能にするパターン検査技術を提供する。 - 特許庁

By patterning a large quantity of ligand in an array on the surface of the base, the bonding pattern of a sample to an array is analyzed, thus identifying the microbe taxonomically.例文帳に追加

基材表面に多くのリガンドをアレイ状にパターン化により、アレイに対する試料の結合パターンを分析すれば、微生物を分類学的に同定ができる。 - 特許庁

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability.例文帳に追加

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。 - 特許庁