「second step」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing Dim Sum comprises a first step s1 for wrapping ingredients with dough to make a wrapped body, a second step s2 for pressurizing the wrapped body 5 by a template 4, and a third step s3 for cooking the molded wrapped body 5.例文帳に追加

具材を生地に包むことで包体を形成する第一ステップｓ１と、この包体５を型版４により加圧して成型する第二ステップｓ２と、成型された包体５を加熱調理する第三ステップｓ３と、を経て点心を製造する。 - 特許庁

The second refrigerant filling step is a step of filling the liquid refrigerant in the refrigerant filling object parts from after the first refrigerant filling step until refrigerant amount filled in the refrigerant filling object parts reaches a predetermined amount.例文帳に追加

第２冷媒充填ステップは、冷媒充填対象部分に対して、第１冷媒充填ステップの後から冷媒充填対象部分に充填された冷媒量が所定の量になるまで、液状態の冷媒を充填するステップである。 - 特許庁

In concrete terms, the peripheral temperature is judged in a step S4, the second combustion chamber high in the combustion characteristic is ignited in a collision under an ordinary temperature condition (step S5), and then the first combustion chamber low in the combustion characteristic is ignited (step S6).例文帳に追加

具体的には、ステップＳ４で環境温度を判断し、常温条件下での衝突時には燃焼特性の大きい第２燃焼室を先に点火し（ステップＳ５）、次に燃焼特性の小さい第１燃焼室を点火する（ステップＳ６）。 - 特許庁

Then, a renewal processing in an X axial direction is performed so that a provisional setting value of the X axial parameter condition 'current' is renewed by one step (a step C10) and a marking position of the X axial direction is renewed by one row (from the first row to the second row) (a step C11).例文帳に追加

次いで、Ｘ軸方向における更新処理を行い、Ｘ軸パラメータ条件「電流」の仮設定値を１ステップだけ更新し（ステップＣ10）、Ｘ軸方向のマーキング位置を１列分（第１列から第２列へ）だけ更新する（ステップＣ11）。 - 特許庁

Image data at a position specified by the positional information acquired in the step 205 are then acquired from image data acquired by reading, the image data are encrypted (step 206), and second image data are acquired (step 207).例文帳に追加

次いで、読み取りを行い取得した画像データから、ステップ２０５にて取得された位置情報により特定される位置における画像データを取得するとともにこの画像データの符号化を行い（ステップ２０６）、第２画像データを取得する（ステップ２０７）。 - 特許庁

The connection part 15 is formed of a step part 28 which is formed along the outer circumference on the side of the tip 10A of the nozzle 10, and it is composed of a first taper face 30 and a second taper face 31 which are formed in a step manner by using the step part 28 as a boundary.例文帳に追加

連結部１５は、ノズル１０の先端１０Ａ側における外周に沿って設けられた段部２８によって形成され、この段部２８を境界として段階的に形成された第１及び第２のテーパ面３０，３１からなっている。 - 特許庁

With this structure, an operator uses the front guard plate 39 for the first step, and the step plate 43 for the second step, and the operator can do the maintenance of an engine 9 housed in an engine housing part 37 of the frame in the stable posture.例文帳に追加

これにより、オペレータは、前ガード板３９を１段目のステップとし、踏板４３を２段目のステップとして、安定した姿勢をもってフレーム３３のエンジン収容部３７に収容されたエンジン９等の保守整備を行うことができる。 - 特許庁

The three steps are the step of keeping a mold half storing the golf ball sub-assembly to which the cover layer is applied at a first temperature, the step of heating the mold half to a second temperature, and the step of keeping the mold half to a third temperature.例文帳に追加

斯かる３段階は、前記カバー層を付与したゴルフボールサブアセンブリを収容したモールドハーフを第１の温度に維持する段階と、前記モールドハーフを第２温度まで加熱する段階と、前記モールドハーフを第３の温度に維持する段階とを含む。 - 特許庁

The method for producing the novolak type epoxy resin comprises a first step of reacting the phenols with aldehydes in the presence of phosphoric acids in a heterogeneous system and a second step of reacting the novolak type phenol resin obtained in the first step with an epihalohydrin.例文帳に追加

フェノール類とアルデヒド類とをリン酸類の存在下で不均一系反応させる第一工程と、該第一工程で得られたノボラック型フェノール樹脂とエピハロヒドリンとを反応させる第二工程とを有するノボラック型エポキシ樹脂の製造方法。 - 特許庁

Then, a notice performance in the first step-up notice performance is changed at a prescribed change timing, and a notice performance in the second step-up notice performance is changed at timing differing from the change timing in the first step-up notice performance.例文帳に追加

そして、第１ステップアップ予告演出における予告演出を所定の変化タイミングで変化させるとともに、第１ステップアップ予告演出における変化タイミングとは異なるタイミングで第２ステップアップ予告演出における予告演出を変化させる。 - 特許庁

The pattern forming method which has the process step of previously forming the alignment markers on a first thick film in a first thick film forming process step and references the alignment markers in the exposing process step of a second thickness film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめ第１厚膜上にアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The correction step has the first sub-step for correcting the detected signal based on a correction value of the noise caused by the radiation detecting part, and the second sub-step for correcting the detected signal based on a correction value of the noise caused by the reading-out part.例文帳に追加

さらに、補正ステップは、放射線検出部に起因するノイズの補正値に基づいて検出信号を補正する第１サブステップと、読み出し部に起因するノイズの補正値に基づいて検出信号を補正する第２サブステップとを有する。 - 特許庁

The method of forming the package includes a step of stacking a second semiconductor chip 30 on a first semiconductor chip 10, a step of forming a spacer 20a on the side plane of the second semiconductor chip 30, and a step of forming a metal wire for electrically connecting both the first semiconductor chip 10 and the second semiconductor chip 30 on the spacer 20a.例文帳に追加

また、このパッケージの製造方法は、第１半導体チップ１０の上に第２半導体チップ３０を積層する段階と、前記第２半導体チップ３０の側面にスペーサ２０ａを形成する段階と、前記スペーサ２０ａの上に前記第１半導体チップ１０及び第２半導体チップ３０を電気的に接続する金属配線を形成する段階とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the thermion emission element includes a first step in which a base plate is provided, a second step in which a first electrode and a second electrode are arranged on the base plate, and a third step in which a carbon nanotube structural body is arranged so that it covers one of surfaces of the first electrode and the second electrode, separated with a predetermined distance from the base plate.例文帳に追加

本発明の熱電子放出素子の製造方法は、基板を提供する第一ステップと、前記基板に第一電極及び第二電極を設置する第二ステップと、前記基板と所定の距離だけで分離させて、前記第一電極及び第二電極の一つの表面を被覆するように、カーボンナノチューブ構造体を設置する第三ステップと、を含む。 - 特許庁

This method for manufacturing of a semiconductor device includes: a first step of carrying a silicon substrate into a processing chamber; a second step of supplying at least a first silane-based gas and a first etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate; and a third step of supplying at least a second silane-based gas and a second etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を処理室内に搬入する第一のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第一のシラン系ガスと第一のエッチングガスを供給する第二のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第二のシラン系ガスと第二のエッチングガスを供給する第三のステップと、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

This method for generating the geometric model constituted of two standard models by deforming the first standard model and the second standard model based on the measured data includes a first step (#1, 2) for deforming the first standard model based on the measured data and a second step (#3, 4) for deforming the second standard model by applying the deformation information obtained in the first step.例文帳に追加

第１の標準モデルおよび第２の標準モデルを計測データに基づいて変形させることにより、２つの標準モデルからなる形状モデルを生成する方法であって、第１の標準モデルを計測データに基づいて変形させる第１のステップ（＃１，２）と、第１のステップで得られた変形情報を適用して第２の標準モデルを変形させる第２のステップ（＃３，４）とを有してなる。 - 特許庁

The method includes a first step of extracting an objective region for an objective image (first resolution image) expressed by a first resolution, and a second step of adjusting a boundary in relation with position for the objective region obtained by the first step in an objective image (second resolution image) expressed by a second resolution higher than the first resolution.例文帳に追加

第１の解像度で表された対象画像（以下、「第１解像度画像」と呼ぶ。）において対象物の領域を抽出する第１工程と、第１の解像度より高解像度の第２の解像度で表された前記対象画像（以下、「第２解像度画像」と呼ぶ。）において、第１工程により得られた対象物領域の境界に対して位置調整を行う第２工程と、を備える。 - 特許庁

The first threshold value is such a value that a second threshold value used in a second image inspection step is corrected through an approximate expression indicating correlation between each contrast value acquired by taking the first image inspection step S3 for a plurality of optical modulators and each contrast value obtained by taking a second image inspection step for the plurality of optical modulators.例文帳に追加

第１閾値は、複数の光変調装置に対して第１の画像検査工程Ｓ３を実施することにより得られた各コントラスト値と、前記複数の光変調装置に対して第２の画像検査工程を実施することにより得られた各コントラスト値との相関関係を示す近似式を用いて第２の画像検査工程で用いられる第２閾値を補正した値である。 - 特許庁

The method for magnetizing the rare-earth magnets 22 fixed to the rotor 20 includes a first step of successively performing first magnetization on the magnets 22 with a relatively weak first magnetic field and a second step of performing second magnetization on the magnets 22 with a second magnetic field which is oriented in the same direction as that of and stronger than the magnetic field used in the first step.例文帳に追加

ロータ２０に固定された複数の希土類磁石２２に対して着磁を行なう方法は、複数の希土類磁石２２に対して、順次、相対的に弱い第1の磁界で第１の着磁を行なう第１工程と、複数の希土類磁石２２に対して、順次、第１の磁界と同一の向きを持ち、第１の磁界よりも強い第２の磁界で第２の着磁を行なう第２工程とを包含する。 - 特許庁

In a second exposure step following a first exposure and development step, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that a region d' with saturation exposure in the area irradiated with the irradiation light R2 in a second photoresist film 3' to be dissolved and removed in the succeeding second development step has a trapezoidal converged profile in the cross section as shown in the figure.例文帳に追加

第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁

The method of preparing such a sample comprises the step of producing such a preparation unit 1, the step of passing a predetermined volume of the liquid through the first membrane and through the second membrane 4 in order to collect a sample on the second membrane 4 and the step of retrieving the sample so collected on the second membrane 4.例文帳に追加

このようなサンプルを調製する方法は、このような調製ユニット１を得るステップと、サンプルを前記第２の膜４上に収集するために前記第１の膜を介しておよび前記第２の膜４を介して前記液体の所定の容積を通過させるステップと、前記第２の膜４上に上述のように収集された前記サンプルを回収するステップとを含む。 - 特許庁

The method for processing a semiconductor substrate includes a first processing step for polishing the metal layer on a barrier layer, a second processing step for oxidizing the metal layer left on the insulating layer by supplying an oxidizing processing liquid after the first processing step, and a third processing step for polishing the oxidized metal layer with a chemical/mechanical water system dispersing element after the second processing step.例文帳に追加

本発明の半導体基板の処理方法は、バリア層上の金属層を研磨する第１の処理工程と、前記第１の処理工程後において、前記絶縁層の上に残留する金属層を、酸化性の処理液を供給することにより酸化させる第２の処理工程と、前記第２の処理工程後において、酸化処理された金属層を、化学機械研磨用水系分散体を用いて研磨する第３の処理工程と、を含む。 - 特許庁

The HDMI input device includes: a first step of transmitting from an HDMI input part the signal indicating that transmission of PA information is enabled; a second step of further transmitting to a device connected to the HDMI input part a control command requesting PA information allocation processing; and a step of executing the first step and the second step at one or more all the HDMI input parts that the relevant device includes.例文帳に追加

ＨＤＭＩ入力機器は、ＰＡ情報の伝送が可能になったことを示す信号をＨＤＭＩ入力部より送信する第１のステップと、当該ＨＤＭＩ入力部に接続された機器に対して、さらに、ＰＡ情報割り当て処理を要求する制御コマンドを送信する第２のステップと、前記第１のステップと、第２のステップを、当該機器が有する１つ以上のすべてのＨＤＭＩ入力部において実行するステップとを含む。 - 特許庁

At a second positioning step, the second abutment portion 65 of a second positioning jig 61 is moved toward the first abutment portion 56 placed in the wire connection position P and the wire connection portion 33 is clamped by the second abutment portion 65 and the first abutment portion 56 from the circumferential direction.例文帳に追加

第２位置決め工程において、第２位置決め治具６１の第２当接部６５を、結線位置Ｐに配置された第１当接部５６に向けて移動させて第２当接部６５及び第１当接部５６にて結線部３３を周方向から挟持する。 - 特許庁

A method of transferring a signal from a first mode of a first waveguide to a second mode of a second waveguide, comprizes a step of adiabatically transferring the signal from a first region of the first waveguide to a second proximal region of the second waveguide.例文帳に追加

第１の導波路の第１のモードから、第２の導波路の第２のモードへ信号を遷移する方法であって、第１の導波路の第１の領域から、第２の導波路の第２の近接する領域へ信号を断熱的に遷移するステップを含む方法。 - 特許庁

A rugged portion 34 is formed at a step 33 between a first bottom 14 and a second bottom 15 of the resin package 11.例文帳に追加

凹凸部３４は、樹脂パッケージ１１の第一底部１４と第二底部１５との間の段差部３３に形成されている。 - 特許庁

A control part judges which state of a first direction D1 and a second direction D2 a lens unit is put into (a step S101).例文帳に追加

制御部は、レンズユニットが第１及び第２の向きＤ１、Ｄ２のいずれの状態にあるかを判断する（ステップＳ１０１）。 - 特許庁

Subsequently, the retainer is heated to a temperature between the Ac1 point to the Ac3 point in the heat treatment furnace, and is held therein (second step S2).例文帳に追加

このリテーナは、次に、熱処理炉内でＡｃ１〜Ａｃ３点間の温度まで昇温されて保持される（第２工程Ｓ２）。 - 特許庁

In step 160, the bird's-eye view image after movement is combined with the second bird's-eye view image to prepare a combined bird's-eye view image.例文帳に追加

ステップ１６０では、移動後鳥瞰図画像と第２鳥瞰図画像とを合成して合成鳥瞰図画像を作成する。 - 特許庁

Then, a second processing step is repeated so that the image data are written to each memory region m1, m2,... and read out.例文帳に追加

その後に、各々のメモリ領域ｍ１，ｍ２・・・に画像データを順次書き込んで読み出すという第２の処理を繰り返し行う。 - 特許庁

In the second upsetting step, part of a metal material is moved outward in the radial direction to form a supporting flange 7a.例文帳に追加

上記第二の据え込み工程では、一部の金属材料を径方向外方に移動させ、上記支持フランジ７ａを形成する。 - 特許庁

In a first read step, the second digest table and the electronic signature are read from the storage means to a memory of the authentication apparatus.例文帳に追加

第１読み出しステップにおいては、第２ダイジェストテーブルと電子署名とを記憶手段から認証装置のメモリに読み出す。 - 特許庁

The manufacturing method is provided also with the second process (step S120) for applying the antifreezing protein containing paste, onto a solid polymer electrolyte membrane.例文帳に追加

また、固体高分子電解質膜上に、不凍タンパク質含有ペーストを塗布する第２の工程（ステップＳ１２０）を備える。 - 特許庁

Subsequently, in the step S5, a still-standing treatment for forming a second emulsion by allowing the first emulsion to stand still at least 5 min is carried out.例文帳に追加

また、ステップＳ５において、第１エマルジョンを５分以上静置して、第２エマルジョンを生成する静置処理を実行する。 - 特許庁

A second step-up notice performance in such a form that it is easily recognized by the player compared to the mini character notice performance is executed.例文帳に追加

また、ミニキャラ予告演出と比較して遊技者に認識しやすい態様の第２ステップアップ予告演出を実行する。 - 特許庁

This step is repeated during a plurality of increment generated at the second sampling rate, and the discrete output signal is generated.例文帳に追加

第２のサンプリング速度で生じる複数回の増分の間この工程が繰り返され、離散出力信号値を生成する。 - 特許庁

Based on evaluation results on steps of first and second players, the number of step timing to be guided is varied.例文帳に追加

第１及び第２プレイヤのそれぞれのステップに対する評価結果に基づき、案内されるステップタイミングの数を変化させる。 - 特許庁

Pref., the movement of the drive part in the second step is performed at a speed sufficiently lower than a normal moving speed.例文帳に追加

好ましくは、前記第２のステップにおける前記駆動部の移動は正規の移動速度よりも十分に低速で行われる。 - 特許庁

In this case, it is informed to image processing apparatuses ranked second or less that the first-ranked apparatus itself will replace the function of the server hereafter (step S45).例文帳に追加

この場合は、自機がサーバの機能を以後代行することを順位２位以下の画像処理装置に報知する（ステップＳ４５）。 - 特許庁

After finishing the water sprinkling in the location of the second flowerpot, this self-traveling cleaner returns to a standby position in the first corridor in a Step S462.例文帳に追加

二つめの植木鉢の所在地での散水が終了したら、ステップＳ４６２にて最初の廊下での待機位置へと戻る。 - 特許庁

The tracking section sets the candidate region of the moving direction determined by the second determination as a scan region (step S108).例文帳に追加

追尾部は第２の判定により判定された移動方向の候補領域をスキャン領域として設定する（ステップＳ１０８）。 - 特許庁

The first transistor Q1 is turned off only for a predetermined time by the second step part S2 when starting power supply from the power supply terminal.例文帳に追加

第１のトランジスタＱ１は、電源端子からの給電開始時に、第２段部Ｓ２により所定時間だけターンオフされる。 - 特許庁

The step of placing the free end of the second element on the temporary drum may be conducted after the temporary drum is slightly rotated.例文帳に追加

第２のタイヤ構成要素の自由端を仮ドラム上に置く段階は、仮ドラムが僅か回転された後に行われてもよい。 - 特許庁

The acquired physical quantity of the first analytic model is applied to the second analytic model where the tire to be analyzed is modeled (step S40).例文帳に追加

解析対象のタイヤをモデル化した第２解析モデルに、取得した第１解析モデルの物理量を付与する（ステップＳ４０）。 - 特許庁

In a second step, the positions of the respective defective regions of the web materials and the flange materials are specified on the basis of the determined three-dimensional shapes.例文帳に追加

第２の工程：求めた三次元形状に基づいてウェブ材およびフランジ材それぞれの欠陥部位の位置を特定する。 - 特許庁