「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The next step in the domestic violence pattern例文帳に追加

家庭内暴力の 次の段階のパターンは - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

The error correction method includes a synchronization pattern detecting step, a demodulation step, a reverse demodulation step, an error pattern estimating step, and a correcting step.例文帳に追加

誤り訂正方法は、同期パターン検出ステップと、復調ステップと、逆向復調ステップと、誤りパターン推定ステップと、訂正ステップとを具備する。 - 特許庁

If the shift pattern is other than the second pattern, in a step S5, the shift pattern is changed from the present first pattern to the second pattern.例文帳に追加

第２パターン以外であればステップＳ５へ進み、変速パターンが現在の第１パターンから第２パターンへ変更される。 - 特許庁

In the error pattern estimation step, an estimation error pattern is output.例文帳に追加

誤りパターン推定ステップでは、推定誤りパターンが出力される。 - 特許庁

Because the final step in the domestic violence pattern例文帳に追加

家庭内暴力の 最終段階のパターンは - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT HAVING STEP PATTERN例文帳に追加

段差パターンを有する光学素子の製造方法 - 特許庁

An alignment device uses a pattern formed prior to a preceding a step of aligning the pattern of a current step in the exposure step of the pattern.例文帳に追加

位置合わせ装置は、パターンの露光工程における現行工程のパターンの位置合わせを直前工程よりも前に形成されたパターンを用いて行う。 - 特許庁

In pattern step-up 3, the left pattern or the right pattern is changed from the design of the pattern 3 to the design of a pattern 4 in the pattern table (S207).例文帳に追加

図柄ステップアップ３では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける３のパターンのデザインから４のパターンのデザインに変更する（Ｓ２０７）。 - 特許庁

STEP POSITION CORRECTING METHOD OF PATTERN VARIABLE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

図柄可変表示装置のステップ位置補正方法 - 特許庁

A forming method comprises the step of laminating a first pattern 512 and a second pattern 512a.例文帳に追加

第１パターン５１２と第２パターン５１２ａとを積層して形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus which can prevent misalignment of a pattern position from a pattern in the preceding step, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

前工程パターンとの位置ずれ防止を可能とするパターン形成装置、パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

The change gear ratio B or the change gear step pattern B, which is greater in a change gear step in comparison with the change gear ratio pattern A or the change gear step pattern A, is selected.例文帳に追加

そこで、変速比パターンＡあるいは変速段パターンＡに比較して変速比ステップが大きい変速比パターンＢあるいは変速段パターンＢを選択する。 - 特許庁

The line width of the pattern of the film is measured (Step S2).例文帳に追加

被処理膜のパターンの線幅を測定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

Next, color pattern setting processing is carried out (step S23).例文帳に追加

次に、色パターン設定処理を実行する（ステップＳ２３）。 - 特許庁

The hole-making step is conducted from a side opposite to the circuit pattern forming face, and the cut step is conducted from the circuit pattern face.例文帳に追加

穿設工程は、回路パターン形成面の反対側から行い、切断工程は回路パターン面から行う。 - 特許庁

(3) The outline pattern is cured by an ultraviolet beam at the step S4.例文帳に追加

（３）その輪郭パターンを紫外線で硬化する（Ｓ４）。 - 特許庁

As the step unit, at least one special step unit not matched with the range of a step corresponding to each pattern (the step unit corresponding to the pattern, hereafter) is set.例文帳に追加

前記ステップ単位として、各図柄に対応するステップの範囲（以下図柄対応ステップ単位という）と一致しない特殊ステップ単位を、少なくとも１つ設けた。 - 特許庁

A partial pattern is sewn in accordance with the pattern data corrected at the Step S70 (S80).例文帳に追加

Ｓ７０で補正された模様データに従って部分模様が縫製される（Ｓ８０）。 - 特許庁

Then, the pattern for color shift correction is detected (a step S6).例文帳に追加

そして、色ずれ補正用パターンを検出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

Then, the pattern for color shift correction is detected (a step S14).例文帳に追加

そして、色ずれ補正用パターンを検出する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

The resist pattern is formed on a wafer for inspection (step S1), and a first linewidth of the resist pattern is measured (step S2).例文帳に追加

検査用ウェハ上にレジストパターンを形成し（ステップＳ１）、当該レジストパターンの第１の線幅を測定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The step transferring the second mask pattern includes a step transferring the second mask pattern to another part 47 of the pixel.例文帳に追加

第２のマスクパターンを転写する工程は、画素内の他の部分４７に第２のマスクパターン部分を転写する工程を含む。 - 特許庁

A step for forming a pattern and a step for forming an original die by the use of the pattern are provided.例文帳に追加

原型を形成するステップおよび前記原型を用いて電鋳により元金型を作成するステップを有すること。 - 特許庁

After the mask is produced (step ST1), the pattern position of the mask and flatness in measuring of the pattern position is measured (step ST2).例文帳に追加

マスク作製後（ステップＳＴ１）、マスクのパターン位置と、パターン位置の測定時における平面度を測定する（ステップＳＴ２）。 - 特許庁

A captured image is created by capturing an image of the pattern that was projected at Step S50 (Step S60).例文帳に追加

Ｓ５０で投影された模様を撮影した撮影画像が作成される（Ｓ６０）。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes a pattern formation step and an opening formation step.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、パターン形成工程と、開口部形成工程とを含む。 - 特許庁

The method includes a step wherein a pattern collapse measuring pattern including an evaluation pattern and a fixation pattern is exposed on a resist formed on a wafer, a step to develop the resist, and a step to find the presence or absence of pattern collapse of the evaluation pattern by measuring the change of the position of center of gravity in a pattern collapse measuring pattern developed on the resist.例文帳に追加

ウェハ上に形成されたレジストに、評価パターンと固定パターンを含むパターン倒れ測定パターンを露光する工程と、レジストに対して現像プロセスを行う工程と、レジストに現像されたパターン倒れ測定パターンの重心位置の変動を測定して評価パターンのパターン倒れの有無を調べる工程とを有する。 - 特許庁

In the pattern forming step, the connection pattern 25 is formed to have a larger thickness than the antenna pattern 21.例文帳に追加

パターン形成工程では、接合用パターン２５の厚みをアンテナ用パターン２１の厚みよりも大きく形成する。 - 特許庁

In the first pattern formation step, the first pattern which is smaller than a design pattern corresponding to the design data is formed.例文帳に追加

第１のパターン形成工程では、デザインデータに対応するデザインパターンより小さい第１のパターンを形成する。 - 特許庁

In the step S_6, the first and the second pattern data are synthesized to output as pattern data 3.例文帳に追加

Ｓ_６ で第１と第２のパターンデータを合成し、パターンデータ３として出力する。 - 特許庁

(Step S3) The density of the dummy pattern and the design pattern is calculated for every division region.例文帳に追加

ダミーパターンと設計パターンとの密度を分割領域毎に算出する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The partial pattern is sewn in accordance with the pattern data corrected at Step S100 (S110).例文帳に追加

Ｓ１００で補正された模様データに従って、部分模様が縫製される（Ｓ１１０）。 - 特許庁

Thereafter, the pattern formation method includes a step S70 of forming a bus wiring pattern 71 with the second nozzle 57.例文帳に追加

その後、第２ノズル５７によってバス配線パターン７１を形成する（ステップＳ７０）。 - 特許庁

In the step S_4, the assembled pattern data are divided to a plurality of new pattern data and job decks.例文帳に追加

ステップＳ_4 で、合成パターンデータを新たな複数個のパターンデータ及びジョブデックに分割する。 - 特許庁

Next, the center coordinates of the pattern is measured by turning the pattern face downward (a step S2).例文帳に追加

次に、当該パターンの中心座標を、パターン面を下向きにして測定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The waveform of the measured pattern is made to match that of a DIW pattern (step T13).例文帳に追加

その計測パターンの波形をＤＩＷパターンの波形にパターンマッチングさせる（ステップＴ１３）。 - 特許庁

An alignment device performs alignment by a pattern formed before a current step to align the pattern of the current step in pattern exposure.例文帳に追加

位置合わせ装置は、パターン露光における現行工程のパターンの位置合わせを現行工程よりも前に形成されたパターンを用いて位置合わせを行う。 - 特許庁

In a profile pattern division step, the profile pattern extracted by the profile pattern extraction step is divided into a plurality of subpatterns not overlapping to each other.例文帳に追加

輪郭図形分離ステップは、前記輪郭図形抽出ステップによって抽出された輪郭図形を重ならない複数の子図形に分割する。 - 特許庁

The binary-coding pattern creating method of this invention includes: a basic pattern shape creating step F10 of creating a basic pattern shape of a binary-coding pattern; a lighting sequence determining step F20 of determining the lighting sequence of pixels configuring the basic pattern; and a rectangular pattern creating step F30 of creating a rectangular pattern acting like the binary-coding pattern on the basis of the basic pattern.例文帳に追加

二値化用パターンの基本パターンの形状を演算により作成する基本パターン形状作成ステップＦ１０と、基本パターンを構成するピクセルの点灯順序を決定する点灯順序決定ステップＦ２０と、基本パターンに基づいて、二値化用パターンとして機能する矩形状パターンを作成する矩形状パターン作成ステップＦ３０とをそなえる。 - 特許庁

This method of forming a hole pattern includes: a step S1 of forming an exposure pattern on resist on a first substrate by an exposure device; a step S2 of developing the exposure pattern to form a pattern of a hole on the resist; a measurement step S3 of measuring the shape of the hole; a determination step S4; and an adjustment step.例文帳に追加

ホールパターンの形成方法は、露光装置で、第１の基板上のレジストに露光パターンを形成するステップＳ１と、露光パターンを現像し、レジストにホールのパターンを形成するステップＳ２と、ホールの形状を測定する測定ステップＳ３と、判定ステップＳ４と、調整ステップと、を有する。 - 特許庁

The step difference pattern includes a first step difference pattern 11, formed by digging down a principal surface of a substrate 2; and a second step difference pattern 13, formed by further digging down the principal surface of the substrate 2, in continuation with the first step difference pattern 11 below the first step difference pattern 11 formed by digging down the principal surface of the substrate 2.例文帳に追加

段差パターンは、基板２の主面を掘り下げて形成された第１段差パターン１１と、基板２の主面を掘り下げた第１段差パターン１１の下方に、第１段差パターン１１に連続して更に基板２の主面を掘り下げて形成された第２段差パターン１３と、を有している。 - 特許庁

In a step-up notice 3, a pattern of a window is displayed overlappingly in front of a pattern 121 of a window of a step-up notice 2 in a semitransparent color, a pattern of a conversation of the step-up notice 3 is displayed in a state that the pattern is positionally displaced from a pattern 123 of a conversation of the step-up notice 2.例文帳に追加

ステップアップ予告３ではウィンドの絵柄が半透明な色彩でステップアップ予告２のウィンドの絵柄１２１の前方に重ねて表示され、ステップアップ予告３の会話の絵柄がステップアップ予告２の会話の絵柄１２３に対して位置的にずらして表示される。 - 特許庁

When pattern data matched with recognition pattern data is not detected in a step ST5, candidate characters being pattern data similar to recognition pattern data are selected and displayed in a step ST7.例文帳に追加

ＳＴ５において認識パターンデータに対する一致パターンデータが検出されないときには、ＳＴ７で認識パターンデータと類似するパターンデータである候補文字を選択して表示する。 - 特許庁

A conductor pattern is printed on the ceramic green sheets (step S3).例文帳に追加

次に、セラミックグリーンシートに導体パターンを印刷する（ステップＳ３）。 - 特許庁

To suppress torque step generated at a time of injection pattern change over.例文帳に追加

噴射パターンの切り替え時に生じるトルク段差を抑制する。 - 特許庁