「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

The trench substrate includes a base substrate 102; an insulating layer 112 formed on one or both surfaces of the base substrate 102 and having a circuit region therein and having a trench formed in a dummy region of a product edge; and a circuit layer 124 including a circuit pattern and a via formed in the interior of the trench formed in the circuit region by a plating step.例文帳に追加

ベース基板１０２、前記ベース基板１０２の一面または両面に積層され、回路領域を含み製品縁部のダミー領域にトレンチが形成された絶縁層１１２、及び前記回路領域に形成されたトレンチの内部にメッキ工程で形成された回路パターン及びビアを含む回路層１２４を含む。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor capable of effectively preventing occurrence of a pattern formation fault due to defocusing caused by a foreign matter adhered to a rear surface of a semiconductor wafer in an exposure device used when the surface of the wafer is patterned in a step of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体の製造工程において半導体ウエハー表面にパターニングを行う際に用いられる露光装置に関するものであり、半導体ウエハーの裏面に付着した異物に起因するフォーカスずれによるパターン形成不良の発生を有効に防止する事の出来る半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor device comprises a step of mounting a semiconductor chip 30 having a plurality of bumps 32 on a wiring board 10 having a plurality of recesses 20 and provided with a wiring pattern 12 having a plurality of electric connection portions 14, and making each electric connection portion 14 enter any bump 32.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、複数の凹部２０を有し、複数の電気的接続部１４を有する配線パターン１２が設けられた配線基板１０に、複数のバンプ３２を有する半導体チップ３０を搭載して、それぞれの電気的接続部１４をいずれかのバンプ３２に入り込ませることを含む。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A microcomputer 560 for game control can select the time during a prescribed round (during a big winning game) or the time after the end of a final round (after the end of the big winning game) when variation is ended as the timing of reporting a probability variable big winning (step S112), and transmits a pattern/performance specifying command specifying the reporting timing.例文帳に追加

遊技制御用マイクロコンピュータ５６０が、確変大当りを報知するタイミングとして、変動終了時、所定のラウンド中（大当り遊技中）または最終ラウンドの終了後（大当り遊技の終了後）のいずれかを選択可能であり（ステップＳ１１２）、報知タイミングを指定する図柄／演出指定コマンドを送信する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity photosensitive siloxane composition which suppresses pattern drooping in heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after a heat curing step, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

熱硬化中に発生するパターンだれを抑制し、熱硬化工程後において高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度の感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new high sensitivity initiator which can produce a color filter for liquid crystal display having high color reproducibility in a short time exposure step and also provides color pixels having a good pattern profile even in a color filter for high resolution solid-state image sensing device, a pigment dispersion, and a colored photocurable composition.例文帳に追加

高色再現性の液晶表示装置用カラーフィルタを短時間の露光工程で製造でき、また高解像度の固体撮像素子用カラーフィルタでもパターンプロファイルが良好な着色画素を提供する新規高感度開始剤、顔料分散液および着色光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The method of making the falsification-preventing mark on a flat base plate includes the step of mounting a particle 7 forming a random pattern 4 of the code on the base plate 1, wherein a flexible wire piece or fiber piece 7 is mounted on a mark area 8 corresponding to the falsification-preventing mark 3 on the base plate 1.例文帳に追加

平らな基体上に偽造防止マークを製造する方法であって、暗号のランダムパターン４を形成する粒子７を、基体１上に設ける形式の方法において、フレキシブルなワイヤ片又は繊維片７を、偽造防止マーク３に対応するマーク領域８において、基体１上に設ける。 - 特許庁

To reduce unevenness in resist patterns on a mask due to a fogging effect in an exposure step in mask production (difference in dimension due to pattern density irregularity) and to provide a mask having high dimensional accuracy required for photolithography by which dimension equal to or below the wavelength of light for exposure (with a large numerical value of MEEF (mask error enhancement factor)) is formed on a wafer.例文帳に追加

マスク製造の露光工程においてFogging効果によるマスク上レジストパターンのばらつき（パターン疎密による寸法差）を低減し、ウェハ上で露光波長以下の寸法を加工する（ＭＥＥＦの数値が大きい）光リソグラフィで要求されるレベルの高寸法精度マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

The production process comprises a step to form a first area comprising an inorganic material on a substrate precursor so as to form the substrate, wherein at least a part of the inorganic material is exposed on the surface of the substrate, and the first area makes a pattern on the substrate precursor.例文帳に追加

当該製造方法は、基板を形成するため無機材料からなる第一の領域を基板前駆物質上に形成する工程を有し、前記無機材料は少なくともその一部が基板表面上で露出し、前記第一の領域は前記基板前駆物質上でパターンを形成していることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing platens for linear motors includes the steps of: forming platen dots arranged in a matrix pattern on a plate-like magnetic material by screen printing using magnetic ink; after the platen dot formation step, filling lattice-shaped grooves between platen dots with nonmagnetic resin material; and, after the resin material filling step, flattening the surface of the work piece with a surface grinding machine.例文帳に追加

板状の磁性体に磁性材インクを用いたスクリーン印刷によりマトリックス状に配列形成したプラテンドットを形成するプラテンドットの形成工程と、このプラテンドットの形成工程後にプラテンドット間の格子状溝に非磁性材製の樹脂材を埋め込む樹脂材の埋め込み工程と、この樹脂材の埋め込み工程後に表面を平面研削盤で表面を平坦に加工する表面平坦加工工程とでリニアモータ用プラテンの製造方法を構成している。 - 特許庁

In this case, the method also includes a step to apply plasma dry etching surface treatment to the exposed polyimide surface of the film substrate 1 made of polyimide resin that is not covered with the wiring pattern 6 after the wiring pattern 6 is formed.例文帳に追加

ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１上にシード層２を形成してなる基板の表面に配線パターン６を形成する工程と、前記配線パターン６の表面にめっき層７を形成する工程とを有する半導体装置用テープキャリアの製造方法であって、前記配線パターン６を形成した後、当該配線パターン６で覆われておらず露出している部分の前記ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１のポリイミド表面にプラズマドライエッチング表面処理を施す工程を含んでいる。 - 特許庁

A distribution shape pattern is divided into a plurality of rectangular sections in the form of a grid for a plane of defined analysis target data, and a density value capable of taking a multiple value in a certain numeral range is defined for each of the rectangular sections so that the density value indicates a relative magnitude relationship to characteristic values of the analysis target data (step S101).例文帳に追加

分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、各矩形領域毎に、解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。 - 特許庁

To provide a metal-ceramic circuit board that can prevent the discoloration of the surface of a copper circuit plate used as a circuit pattern without rust proofing using a rust preventive agent formed of an organic substance or plating and improve solder wettability or weather resistance such as heat resistance or the like in a soldering step, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

有機物からなる防錆剤を用いた防錆処理やめっき処理を行わずに、回路パターンとなる銅回路板の表面の変色を防止するとともに、半田付け工程における半田濡れ性や耐熱性などの耐候性を向上させることができる、金属−セラミックス回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring composition for a color filter which has high luminance, of which the lightness is only slightly reduced in a step to form the color filter, of which the color difference ΔEab* is small, which has high heat resistance, and further which has an excellent pattern shape of a filter segment, and to provide a color filter with high luminance by using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下、及び色差ΔＥａｂ＊が小さい高耐熱性のカラーフィルタ、かつフィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供すること、及びこれを用いた高輝度のカラーフィルタを提供することである。 - 特許庁

The method for fabricating an integrated circuit on a semiconductor wafer preferably comprises a step for designing a reticle including a pattern composition member having relatively small critical dimensions in order to form a corresponding circuit composition member based on an overlapped region formed using a plurality of exposing steps, through shift, such that the circuit composition member has relatively small necessary critical dimensions.例文帳に追加

好適には、上記方法は、下記のステップ、すなわち、回路構成部材が、必要な、比較的小さな臨界寸法を持つように、その間のシフトにより、複数の露出ステップを使用して形成した重畳領域に基づいて、対応する回路構成部材を形成するために、臨界寸法を持つパターン構成部材を含むレティクルを設計するステップを含む。 - 特許庁

Thread parts 20 of a stitch pattern ST are formed by changing the color of the front face 12 of a base material 10 and needle hole parts 22 engraved into a recessed recess shape from the front face 12 are formed in the end parts of the thread parts 20 by casting laser light onto the front face of the synthetic resin made base material 10 shaped into a desired shape in a prior step.例文帳に追加

前工程において所要形状に成形した合成樹脂製の基材１０の表面に向けレーザー光を照射して、基材１０の表面１２を変色させてステッチ模様ＳＴの糸部２０を形成すると共に、糸部２０の端部には表面１２から陥凹状に彫り込んだ針穴部２２を形成する。 - 特許庁

The control method for the sensor system includes the step of determining whether to activate the specific function by the size of a first total pattern to be detected, wherein whether to activate the specific function is determined by the size of the first total image to be detected and the length of the time of detecting the first total image.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明では、検出する第一総画像のサイズにより特殊機能を起動するかないか判断する前記ステップと、検出する第一総画像のサイズと第一総画像を検出する時間の長さにより特殊機能を起動するかないか判断するセンサーシステム用制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk of high quality satisfying a BD standard and a low price capable of maintaining high transferability of a signal recording pattern in duplication of the optical disk and reducing a material cost and the number of manufacturing steps since the use of an expensive polycarbonate film is not needed and a hard coat film forming step can be omitted; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、光ディスクの複製において、信号記録パターンの高い転写性を維持でき、且つ、高価なポリカーボネイトフィルムを使用する必要がなく、ハードコート成膜工程が省けるので、材料費及び製造工程数が削減でき、ＢＤ規格をもクリアする高品質・低価格の光ディスクおよびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

This method also includes a step for etching the predetermined region of the inter-layer insulating films, and then for stopping the etching process at the etching stop films to form a damascene pattern.例文帳に追加

所定の構造が形成された半導体基板１０１の上部に誘電定数が低い物質を用いたエッチング停止膜１０２，１０４を形成し、層間絶縁膜１０３，１０５を形成する段階;及び上記層間絶縁膜の所定領域をエッチングし、上記エッチング停止膜でエッチング工程が停止するようにしてダマシンパターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

In a slice step of realizing circuit specifications required by a user according to multilayer wirings, one special purpose mask of contact forming an element, one stationary mask pattern of commonly using all via hole dispositions between wiring layers of thereafter multilayer wiring layer, wiring layer special purpose mask of the respective multilayer wirings, and a special purpose mask of the protective film, are prepared.例文帳に追加

ユーザーの要求する回路仕様を多層配線によって実現するスライス工程では、素子のコンタクト形成に関する専用マスク一つ、その後の多層配線層の配線層間における全てのビアホール配置が共通化される固定的なマスクパターン１つ、各多層配線それぞれの配線層専用マスク、及び保護膜の専用マスクが準備される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To solve the following problems: in creating an interconnection pattern data, making an increment of the width and interval of the interconnection a minimum dimensonal unit increases the data volume of the OPC (Optical Proximity Correction) voluminous, causes a step of its setting and verification substatial, increases the OPC processing time to enlarge the processing system.例文帳に追加

半導体装置における配線パターンデータ作成において、配線幅および配線間隔の変更の刻みを最小寸法単位とすると、ＯＰＣ（Optical Proximity Correction）のデータ量が膨大なものとなり、その設定および検証に工数が多大なものとなり、また、ＯＰＣ処理時間を増大すると共に処理システムの肥大化を招くことにもなる。 - 特許庁

The color filter substrate 100 has a plurality of color filters through patterning processes, such as pattern exposure, by the use of exposure mask having the transflective region at the end of the transmissive region, development, and post baking so that an overlap step-like portion of the color filter formed on a black matrix 21a can be reduced to a height of 0.5 m or smaller.例文帳に追加

本発明のカラーフィルタ基板１００は、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成しているので、ブラックマトリクス２１ａ上に形成される着色フィルタのオーバーラップ（重なり）段差を０．５μｍ以下にすることができる。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

When the determination results in steps SC13 and SC15 in special symbol start processing are negative, a CPU for main control determines whether a losing symbol is a second losing symbol between first and second losing symbols in step SC17, and determines the second losing symbol and a variation pattern P5 for specified losing variation when the determination result is affirmative.例文帳に追加

特別図柄開始処理におけるステップＳＣ１３，ＳＣ１５の判定結果が否定の場合、主制御用ＣＰＵは、ステップＳＣ１７においてはずれ図柄を第１，第２はずれ図柄のうち第２はずれ図柄とするか否かを判定するとともに、この判定結果が肯定の場合に第２はずれ図柄、及び特定はずれ変動用の変動パターンＰ５を決定する。 - 特許庁

To provide plating with proper selectivity in minute pattern and without the possibility of deposition of a ceramic insulating body, even when electroless Ni plating is carried out again on a ceramic board in a pre-treatment step, in which the lowest-layer Ni plating is treated, with respect to a plating method for multi-layer electroless Ni plating on a sintered wiring conductor on a ceramic board.例文帳に追加

本発明は、セラミック基板の焼結配線導体上に無電解Ｎｉめっきを多階層に行う際のめっき方法に係わり、特に最下層の無電解Ｎｉめっきの前処理で、その上層に再度、無電解Ｎｉめっきを施す際もセラミック絶縁体上に析出しない、微細パターンへの選択性の高いめっきを提供するものである。 - 特許庁

The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.例文帳に追加

この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

A terminal capable of having communications via a network receives an ADF storing the attribute information of data, and whether the ADF is an allowed transition pattern or not is determined based on a communication system (normal/SSL) used when receiving the ADF and a communication system used when receiving Jar storing the substance of the data (step S10).例文帳に追加

ネットワークを介して通信可能な端末では、データの属性情報を格納したＡＤＦが受信され、このＡＤＦの受信時に使用された通信方式（通常／ＳＳＬ）と上記データの実体を格納したＪａｒの受信時に使用される通信方式とに基づいて、許容された遷移パターンであるか否かが判定される（ステップＳ１０）。 - 特許庁

It has been found that a substrate having protrusions for controlling alignment having a high definition pattern can be manufactured at low costs and in a short step as compared with the case by photolithography, when the protrusions for controlling alignment of the liquid crystal display is formed by a printing method using a coating liquid having a specified composition by which burning is prevented and printability is heightened.例文帳に追加

液晶表示装置の配向制御用突起を、焼きつきを防止し、印刷性を高めた特定の組成を有する塗工液を用いて印刷法により形成した場合、フォトリソグラフィーによる場合と比べ低コストかつ短い工程で、精細パターンの配向制御用突起を有する基板を製造できることを見出した。 - 特許庁

Pixel electrodes 31 with hexagonal outline enables to eliminate the moire fringe and the step-like edge of the display image because they form a zigzag pattern of edge arrangement instead of a lattice of rectangular pixel electrodes when they are arranged repeatedly.例文帳に追加

外形が六角形の各画素電極３１が繰り返しパターンで配列形成されているので、矩形の画素電極を配列した場合とは異なり、画素電極３１のエッジの配列を格子状ではなくジグザグ状にすることができ、画面に表示される画像にモアレ縞が観察されることや画像のエッジが階段状に観察されることが解消される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The organic electroluminescence element and its manufacturing method are such that by thin forming an inorganic pixel defining film layer having an opening exposing at least a part of the upper part of a first electrode by a vapor deposition method, breakage of the formed organic film layer pattern caused by the step between the first electrode and the inorganic pixel defining film can be prevented.例文帳に追加

前記有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法は、第１の電極の上部の少なくとも一部を露出させる開口部を具備する無機画素定義膜を蒸着法を用いて薄く形成することにより、形成される有機膜層パターンが第１の電極と無機画素定義膜との段差によって切れることを防ぐといった効果がある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

As a main control part 200 transmits a command to a special pattern displaying apparatus 100 side by the timing of transmission set in accordance with a value determined by drawing a lot again (a step S1830) when e.g. lots with the same values are continued, it is possible to improve randomness of the timing of transmission when the timing of transmission is determined by lot.例文帳に追加

主制御部２００は、例えば同一値の抽選が連続した場合等に再抽選（ステップＳ１８３０）された値に応じて設定されている送信タイミングでコマンドを特別図柄表示装置１００側に送信するので、送信タイミングを抽選によって決定するに際して送信タイミングのランダム性を高めることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold structure includes a transfer step to press the projecting and recessing pattern side of a master disk against an imprint resist layer formed on one surface of a substrate to be worked and composed of an electron beam resist so as to transfer the projecting and recessing pattern to the imprint resist layer.例文帳に追加

原盤の凹凸パターン側を、被加工基板の一方の表面に形成された電子線レジストからなるインプリントレジスト層に押し付け、凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写する転写工程を含み、凹凸パターンにおける１ビットの面積Ｓｂｉｔと、１ビットの４つの角部に前記電子線レジストが到達していない欠け部の面積Ｓｃｈｉｐとの比率〔（Ｓｃｈｉｐ／Ｓｂｉｔ）×１００）〕が２％以上である場合には、原盤における１ビットの角部の形状を変化させるモールド構造体の製造方法である。 - 特許庁

A polycrystalline silicon thin film for a display device is featured in that adjoining primary crystal grain boundaries are not parallel and an area enclosed by primary crystal grain boundaries is larger than 1 μm^2, and also characterized by a step of crystallizing amorphous silicon using a laser beam, through the use of a mask having a mixed structure of a laser-transparent line-shaped pattern and a laser-opaque pattern.例文帳に追加

本発明は多結晶シリコン薄膜、これの製造方法及びこれを利用して製造された薄膜トランジスタに係り、隣接したプライマリ結晶粒境界が平行せずにプライマリ結晶粒境界に囲まれた面積が１μｍ^２より大きいことを特徴とするディスプレーデバイス用多結晶シリコン薄膜及びレーザーが透過するライン形態のパターンとレーザーが透過することができないパターンが混合された構造を有するマスクを用いて非晶質シリコンをレーザーを利用して結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of producing a patterned body includes an energy irradiation step for forming a wettability change pattern having a reduced contact angle with water on a resin substrate by arranging a photocatalyst containing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst containing layer of a substrate on the photocatalyst containing layer side having a base, and a resin base material having water repellency to face each other and then radiating energy in a pattern.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の光触媒含有層と、撥水性を有する樹脂製基材とを対向させて配置し、パターン状にエネルギーを照射することにより、前記樹脂製基材上に水との接触角が低下した濡れ性変化パターンをパターン状に形成するエネルギー照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device has a protective film forming step of forming the protective film on a plurality of first resist patterns formed on a substrate, forming a second resist pattern on this protective film between the plurality of first resist patterns, and forming the protective film by dividing into at least two layers by using the different methods, respectively.例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法は、基板上に形成された複数の第１のレジストパターンの上に保護膜を形成し、この保護膜の上であって複数の第１のレジストパターンの間に第２のレジストパターンが形成され、夫々異なる方法を用いて少なくとも２層に分けて保護膜を形成する保護膜形成工程を有する半導体デバイスの製造方法を有する。 - 特許庁

The method for controlling the surface topography of an adhesion plane comprises a step in which a microreplicated topography is formed from contacting a microembossed pattern to a layer of an adhesive so that the topography of the adhesive surface controls the performance of the adhesion interface when the adhesion interface is established between the layer of an adhesive and a supporting substrate.例文帳に追加

接着面の表面形態を制御する方法であって、接着剤層と支持基材との問に接着界面が確立されると、接着面の表面形態がその接着剤と前記支持基材との間の接着界面の性能を制御するように、微細エンボスパターンを接着剤層に接触させて、微細複製接着面を形成するステップを含む方法を開示する。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for mounting a semiconductor chip 30 having a plurality of electrodes 32 in a semiconductor chip mounting region 31 of a wiring board 10 including a wiring pattern 12 having a plurality of electrical connections 14 and a base substrate 20, and connecting each electrical connection 14 electrically with any one electrode 32 while opposing each other.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、複数の電気的接続部１４を有する配線パターン１２とベース基板２０とを含む配線基板１０の、半導体チップを搭載するための領域３１に、複数の電極３２を有する半導体チップ３０を搭載して、それぞれの電気的接続部１４といずれかの電極３２とを対向させて電気的に接続することを含む。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with a high-density fine circuit pattern, by forming a high-density circuit by forming circuits in a portion where lands occupy to form a larger number of circuits in an insulating substrate with the same area, and a method capable of manufacturing the printed circuit board at low cost which makes signal transformation between layers smooth without requiring a complicated step.例文帳に追加

ランドが占める部分に回路を形成することができるようにして高密度の回路形成を可能とし、同一の面積の絶縁基板にさらに多い回路を形成して密集度の高い微細回路パターンの印刷回路基板を提供すること、層間の信号伝逹を円滑にし、複雑な工程を要せず安価な費用で印刷回路基板を生産できる製造方法を提供する。 - 特許庁