「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

According to this invention, the problems in an etching step performed in the existing top-down system thin film manufacturing process are remarkably reduced, and further, the pattern of the nanostructure can be freely controlled in the nano-thin film structure.例文帳に追加

本発明によると、既存のトップ-ダウン方式の薄膜製造工程で行われている蝕刻工程の問題点を著しく減少させ、さらにナノ薄膜構造においてナノ構造の模様を自由に制御することができる。 - 特許庁

In a 1st step S1, the double exposure processes, i.e., a pattern exposure process by which respective resist patterns with prescribed widths are obtained and respective whole image exposure processes with different exposure values, are carried out and then a development process is carried out to form the respective resist patterns.例文帳に追加

第１ステップＳ１において、所定幅のパターンが得られるパターン露光と、露光量を変化させた各全面露光との各二重露光を行い、その後現像処理を行うことによって各レジストパターンを形成する。 - 特許庁

As a result, the density of the polymer of a resin raw material for the yarn can be partially changed, and the separately colored pattern with the deeply dyed part and the lightly dyed parts can be formed in one yarn in a dyeing step of the yarn carried out later.例文帳に追加

これにより、糸の樹脂原料の高分子密度を部分的に変更することができ、その後に行われる糸の染色工程において、一つの糸に、濃い染色部分と、淡い染色部分との色分け模様を形成できる。 - 特許庁

Each morpheme and its appearance frequency and each translation pattern and its appearance frequency are extracted from the bilingual document, and document knowledge obtained by previously determined grammatical rules is extracted from the whole bilingual document (step S2).例文帳に追加

これにより、対訳文書から、形態素とその出現回数、翻訳パターンとその出現回数を抽出し、かつ、対訳文書の全体から予め決められた文法規則によって得られる文書知識を抽出する（ステップＳ２）。 - 特許庁

In a first step of etching a semiconductor substrate 3, anisotropic deep reactive ion etching is performed using a resist mask 59 having a large number of openings 88 of the same pattern at positions opposing to etching regions 87 independently partitioned to each other.例文帳に追加

半導体基板３をエッチングするに際し、まず、それぞれ独立に区画されたエッチング領域８７に対向する位置に同一パターンの開口８８を多数有するレジスト５９をマスクとして、異方性の深掘り反応性イオンエッチングする。 - 特許庁

This method includes an electrolytic plating step wherein a conductor pattern is formed on a base metal film formed on an insulation substrate, by using a plating liquid containing a plating accelerating additive agent for reducing deposit overvoltage of plating metal.例文帳に追加

絶縁基板上に形成された下地金属膜上に、めっき金属の析出過電圧を小さくするめっき促進添加剤を含むめっき液を用いて、導体パターンを電解めっきによって形成する電解めっき工程を備える。 - 特許庁

Next, in an electroless plating step, an electroless plating layer 5 (a metal layer) is formed on the polymer complex layer 4 by the electroless plating by bringing the electroless plating liquid into contact with the polymer complex layer 4, and thereby constituting the metal pattern 7.例文帳に追加

次に、無電解めっき工程では、無電解めっき液を高分子錯体層４に接触させて高分子錯体層４上に無電解めっき層５（金属層）を無電解めっきにより形成し、金属パターン７を構成する。 - 特許庁

Then coordinates of a predetermined reference point in the actual coordinates system are calculated, the substrate is photographed by a high magnification camera 28 placed at the position indicated by the coordinates, to identify the pattern of a structural member formed on the substrate in the preceding step.例文帳に追加

次に、所定の基準点の本座標系における座標を算出し、その座標が示す位置に高倍率カメラ２８を配置して撮影を行ない、前の工程で基板上に形成された構造部材のパターンを識別する。 - 特許庁

Thereafter, the adjustment and the replenishment of the liquid are performed based on the replenishing pattern selected and set in accordance with the capacity of the developing tank and the PS plate to be processed, so that the desired quantity of liquid and target electric conductivity are obtained (step 216).例文帳に追加

この後に、現像槽内の容量や処理するＰＳ版に応じて選択されて設定された補充パターンに基づいて調整補充を行い、所望の量及び目標の電導度となるようにする（ステップ２１６）。 - 特許庁

Since a step can be obtained without forming a metal pedestal pattern by this method, preferred effect of the auxiliary column is obtained, as well as, prevention of adverse effects by the capacitive coupling on signal transfer or a short circuit with another electrode.例文帳に追加

これにより金属の台座パターンを形成することなく段差を確保することができるため良好な補助柱効果が得られると共に、容量結合による信号伝達への悪影響や他の電極とのショートを防止できる。 - 特許庁

In this way, when the result of determination in the step S601 is affirmative, a management computer is notified that an abnormality occurs (S604), and such an announcement process as blinking a top lamp 17 in a pattern set for announcing abnormalities is executed (S605).例文帳に追加

よって、Ｓ６０１で肯定判断なら、異常発生として、管理コンピュータに通知し（Ｓ６０４）、例えばトップランプ１７を異常報知用に設定されているパターンで点滅させるなどの報知処理を実行する（Ｓ６０５）。 - 特許庁

Further, the track reporting method may have an allocation step (S109) wherein the position registration area managing device compares the reported identifier with a previously stored pattern and allocates a position registration area to the user terminal based upon the result of the comparison.例文帳に追加

また、前記位置登録エリア管理装置が、報告された識別子を予め格納されているパターンと比較し、前記の比較に基づいて、前記ユーザ端末に位置登録エリアを割り当てる割り当てステップ（Ｓ１０９）を有してもよい。 - 特許庁

Another embodiment provides a manufacturing method for a solar cell module including: (a) a step of preparing a solar cell including an electrode pattern on at least one surface; and (b) a step of forming a light-transmitting passivation film by performing parylene coating on at least a front surface of the solar cell.例文帳に追加

また、他の実施形態によると、（ａ）少なくとも一面に電極パターンが形成された太陽電池セルを準備する段階と、（ｂ）太陽電池セルの少なくとも前面上にパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）コーティングを行って光透過性パッシベーション膜を形成する段階と、を含んでなる太陽電池モジュールの製造方法が提案される。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

In the case of generating the simulation test bench of a digital LSI circuit with plural input signal lines, test patterns are generated for every input signal line (a step 10), the test patterns with the same input timing are connected by bit connection for at least two or more input lines and the test pattern file to which the data compression is performed is generated (a step 11).例文帳に追加

複数の入力信号線を持つデジタルＬＳＩ回路のシミュレーションテストベンチを生成する場合において、各入力信号線ごとにテストパターンを作成し（ステップ１０）、それらを少なくとも２本以上の入力信号線について、入力するタイミングが同じものをビット連接により接合し、データ圧縮したテストパターンファイルを生成する（ステップ１１）。 - 特許庁

This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加

投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも１つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes an element placing step of placing the semiconductor element 1 in the recess of a mold 10 having the recess, and a connecting step of electrically connecting the wiring pattern 5 connected to the semiconductor element 1 to the wiring terminal of a display unit 20 of an object to be connected with the state that the semiconductor element 1 is placed in the mold 10 as it is.例文帳に追加

半導体素子１を、凹部を有してなる型１０のその凹部に載置する素子載置工程と、半導体素子１が型１０に載置された状態のままで、その半導体素子１に接続されている配線パターン５と接続対象である表示体２０の配線端子とを電気的に接合する接合工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

This deterioration rate prediction method for the underwater structure installed in water has a step for determining a corresponding deterioration state of the underwater structure out of deterioration environmental patterns a, b, c classified into a plurality of numbers in response to differences in deterioration states, and a step for calculating the deterioration rate pursuant to a prediction expression corresponding to the corresponding deterioration environmental pattern.例文帳に追加

水中に設置された水中構造物の劣化速度予測方法であって、劣化状況をその違いに応じて複数に分類した劣化環境パターン(a)(b)(c)のいずれに、水中構造物の劣化状態が該当するかを判別するステップと、該当する劣化環境パターンに対応する予測式で劣化速度を算出するステップとを有している。 - 特許庁

When a decoration mode is set, two sheets of a flash photographed image of flash-on and an external light photographed image of flash-off are obtained (a step S312), and a plurality of external photographed images are generated and overlapped so that one optional point in each of the external light photographed images becomes each one different point on a predetermined pattern (a step S315).例文帳に追加

デコレーションモードが設定されている場合には、フラッシュオンのフラッシュ撮影画像とフラッシュオフの外光撮影画像との２枚を得て（ステップＳ３１２）、外光撮影画像中の任意の１点が所定の模様上の互いに異なる各一点となるように複数枚の外光撮影画像を生成し重ね合せる（ステップＳ３１５）。 - 特許庁

The step of forming the trench etching pattern on the substrate substantially further includes depositing the silicon nitride film on the substrate on which a pad oxidation film is formed, patterning, and forming a thermal oxidation film on the inner wall surface by an annealing so as to repair etching damages between the step of forming the trench and the liner.例文帳に追加

本発明で、基板にトレンチエッチングパターンを形成する段階は、通常、パッド酸化膜が形成された基板にシリコン窒化膜を積層し、パターニングして実施され、トレンチを形成する段階とライナを形成する段階の間に、トレンチの内壁にエッチング損傷を修復するためのアニーリングによって熱酸化膜が形成される段階をさらに含むことができる。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device which can improve a yield when a product is conveyed to next step by eliminating a warp at a copper wiring pattern layer forming time and a warp at a heat curing time of a thermosetting type solder resist, and which can improve the working efficiency of a product processing treatment in next step and the dimensional quality of the product.例文帳に追加

銅配線パターン層形成時の反りと熱硬化型ソルダレジストの熱硬化時の反りを無くすことによって、製品を次工程へ搬送する際の歩留まりを向上させることができ、次工程における製品加工処理の作業効率および製品の寸法品質を向上させることができる半導体装置用テープキャリアを提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a layer pattern includes a step (a) for, by forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer, forming a sectioned area on the substrate by the first and second layers and step (b) for discharging liquid material onto the area from a discharging part of a discharging device.例文帳に追加

層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁

This method comprises a step for executing a selective etching process using TMAH (Tetra-Methyl-Ammonium-Hydroxide) to form a plurality of trenches with slow inclination of the side surface, and a step for forming a gate pattern at the top of the substrate so that at least the inclination part of the trench acts as a part of a channel.例文帳に追加

本発明は、ＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ａｍｍｏｎｉｕｍ−Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を用いた選択的エッチング工程を実施し、側面の傾斜が緩慢な複数のトレンチを形成するステップと、少なくとも前記トレンチの傾斜部分がチャネルの一部になるように前記基板上部にゲートパターンを形成するステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method for a layer pattern comprises a step (a) forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer thereby forming a region partitioned by the first layer and the second layer on the substrate, and a step (b) discharging a liquid material from the discharge part of a discharge device to the above region.例文帳に追加

層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate with the spacers comprises a pattern forming step for forming ink-philic regions 3b exhibiting an ink-philic property and ink repellent regions 3a exhibiting an ink repellent property on a substrate 1 and an ejection step for ejecting a liquid material 11 containing a spacer forming material on the ink-philic regions 3b by a liquid drop ejection method.例文帳に追加

本発明のスペーサー付き基板の製造方法は、基板１上に親インク性を示す親インク領域３ｂと、撥インク性を示す撥インク領域３ａとを形成するパターン形成工程と、前記親インク領域３ｂ上に、液滴吐出法によりスペーサー形成材料を含む液状体１１を吐出する吐出工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The irregular pattern forming method comprises a step (1) of pressing a mold having the fine irregular patterns in room temperature against the surface of a film formed of a fluorine-containing polymer which is derived from fluoroethylene, whose monomeric unit is 50 mass% or more, and which is in a solid condition in room temperature, and a step (2) for separating the mold from the film in room temperature.例文帳に追加

フルオロエチレンに由来する単量体単位が５０質量％以上であり室温で固体状態である含フッ素重合体からなる膜の表面に、微細な凹凸パターンを有するモールドを室温で圧着させる工程（１）と、上記モールドを室温で上記膜から脱離する工程（２）とを含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。 - 特許庁

Especially, such a method forms the secondary active regions (14a and 14b) through a step to crystallize the secondary single-crystal semiconductor material from a pattern composed of the secondary polycrystal and/or amorphous semiconductor materials as well as an interface region between the pattern and the preselected primary active regions (1a and 1b).例文帳に追加

そのような方法は、特に、多結晶および／またはアモルファス形態の第２の半導体材料から成るパターンおよび前記パターンと予め選択された第１の活性領域（１ａ，１ｂ）との間の界面領域から単結晶形態で第２の半導体材料を結晶化させるステップにより第２の活性領域（１４ａ，１４ｂ）を形成することから成る。 - 特許庁

A method for locally forming or modifying a pattern of specific magnetization modification in an at least potentially ferromagnetic surface includes a step for forming a prescribed pattern of discrete magnetization regions on the magnetic surface preferably by exposing the magnetic surface to the bombardment of activated subatom corpuscles directed toward the magnetic surface in the form of electron beams.例文帳に追加

少なくとも潜在的に強磁性の表面内において、局所的に特定の磁気変異のパターンを生成または変異する方法が、前記磁気面をそれに向けて制御される、好適には電子放射の形態の活性化亜原子粒子の衝突に晒すことにより、前記磁気面上に離散的磁化領域の所定のパターンを生成するステップを含む。 - 特許庁

Then, a third special-purpose finish paint in an arbitrary color is coated on the second special-purpose finish paint by means of a roller or the trowel, or sprayed on the same by means of a gas compressor, and immediately thereafter, pattern spraying for producing a pattern on a painted portion or a sprayed portion is carried out (at a step 17).例文帳に追加

その後、下吹きと同様にして第２の専用仕上げ塗材の仕上げ吹きを行った後（ステップ１６）、第２の専用仕上げ塗材上に、任意の色の第３の専用仕上げ塗材をローラやコテで塗り付け、又は圧送機で吹き付け、その直ぐ後から塗り付けた又は吹き付けた部分に模様付けを行う模様吹きを行う（ステップ１７）。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient pattern form even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude.例文帳に追加

薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A flexible wiring board includes: an insulating substrate having a wiring pattern, including connector terminal patterns, formed on a principal surface; a conductive layer covering the connector terminal patterns; and an insulating protective layer covering a part of the wiring pattern; wherein through-holes are formed, between the connector patterns of the insulating substrate and in step portions formed of the insulating protective layer and insulating substrate.例文帳に追加

コネクタ端子パターンを含む配線パターンが主面に形成された絶縁性基板と、コネクタ端子パターンを覆う導電層と、配線パターンの一部を覆う絶縁性保護層とを備え、絶縁性基板のコネクタ端子パターン間であって、絶縁性保護層と絶縁基板とにより形成される段差部に貫通孔が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the test mask includes steps of forming a pattern of a light shielding film on a glass substrate and of changing the film thickness of the light-shielding film in the pattern, wherein the step of changing the film thickness of the light-shielding film is repeated to produce a test mask.例文帳に追加

テストマスクは、数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するようにしたものであり、テストマスクの製造方法は、ガラス基板上の遮光膜のパターン形成を行う工程と、パターンの遮光膜の膜厚を変える工程と、を備え、前記遮光膜の膜厚を変える工程を繰り返し、テストマスクを作製する。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor device includes a step of forming a pattern by using a mask for exposure having a frame-like light shielding film 2 formed on the peripheral portion of the surface of the side, where the pattern is to be formed of a substrate 10, where the film 2 is divided into square light shielding portions by slits 3.例文帳に追加

基板１０のパターンが形成されている側の面の面上の周辺部に枠状の遮光膜２を有し、該周辺部の枠状の遮光膜をスリット３によって分割したことにより、該遮光膜を四角形の遮光膜部分に区画してなる露光用マスクを用いてパターンを形成する工程を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In a photoetching process step for forming gate wiring having a first compensation pattern, data wiring to define a pixel region formed to intersect with the gate wiring and the source/drain electrode, the capacitor electrode having the second compensation pattern formed on the prescribed region of the gate wiring is inclusively constituted.例文帳に追加

本発明は、第１補償パターンを有するゲート配線と、前記ゲート配線と交差されるように形成されて画素領域を定義するデータ配線と、ソース／ドレイン電極形成のためのフォトエッチング工程時、絶縁膜を間に置き、前記ゲート配線の所定領域上に形成され第２補償パターンを有するキャパシタ電極を包含して構成される。 - 特許庁

Since a glass fiber fabric is exposed on the bottom faces of grooves by forming the grooves by baking off a resin layer formed on a circuit pattern by projecting a laser beam upon the resin layer before the circuit pattern is ink-jet plotted on a substrate, a circuit composed of a metallic layer formed in the succeeding electroless plating step can be bonded firmly to the substrate.例文帳に追加

基板上に回路パターンをインクジエット描画する工程の前に、あらかじめレーザー照射により回路パターン上の樹脂層を焼き取って溝を作りガラス繊維織物を溝の底面に露出させておくことにより、後続の無電解メッキ工程において形成される金属層の回路は基板に強固に接着される。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a process of forming a resin layer on a substrate, a process of pressing a mold with a pattern on the resin layer and a process of separating the mold from the substrate, and the process of forming the resin layer includes the step of forming at least two electrolyte layers on the substrate by adsorption.例文帳に追加

基板の上に、樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、パターンの形成されたモールドを押しつける工程と、前記モールドを前記基板から引き離す工程と、を備えたパターンの形成方法において、樹脂層を形成する工程として基板に２層以上の電解質膜を吸着させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

The magnetization method of the servo pattern of a perpendicular recording discrete track medium using a master disk includes a step for transferring the servo signal composed of two magnetization groups whose directions are perpendicular to a substrate and opposed to each other to a servo region by using a magnetic field leaked from a soft magnetic layer provided on the master disk in a position corresponding to the servo pattern.例文帳に追加

マスターディスクを用いる垂直記録ディスクリートトラックメディアのサーボパターン磁化方法であって、マスターディスクにサーボパターンに対応する位置に設けられた軟磁性層からの漏れ磁界によって、サーボ領域に、基板に垂直で、かつ反対向きの２種の磁化の組からなるサーボ信号を転写する工程を含むことを特徴とするサーボパターン磁化方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of further improving uniformity of a mask pattern size on the entire wafer surface and lowering variation in opening width of a contact window on the entire wafer surface when forming the contact window to improve the product yield and quality even when a higher step and a large area pattern are formed.例文帳に追加

高段差で大面積のパターンが形成される場合でも、ウェハ全面でのマスクパターン寸法の均一性をさらに向上させることができるとともに、コンタクト窓形成の際にウェハ全面でコンタクト窓の開口幅ばらつきを低減することができ、製品歩留を改善しかつ製品品質をより向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

When the big win prediction is performed in a preceding symbol combination game (the prediction flag YF is 1), and also when a big win rendition is acquired in a present picture pattern combination game, the general control board determines the rendition contents pattern having the big win prediction even when the predicting rendition times F2 is not set (step S53).例文帳に追加

そして、統括制御基板は、前回の図柄組み合わせゲームで大当り予告が実行され（予告フラグＹＦ＝１の場合）、かつ、今回の図柄組み合わせゲームが大当り演出となる場合には、予告演出回数Ｆ２が設定されていない場合であっても大当り予告ありの演出内容パターンを決定する（ステップＳ５３）。 - 特許庁

To provide a membrane pattern formation method capable of suppressing a material for forming the membrane pattern from being wastefully consumed and easily discriminating a defective article and an acceptable article in a post-step, a production method for an elastic surface wave device, a liquid drop delivery apparatus, an elastic surface wave device, an elastic surface wave oscillation apparatus and an electronic instrument.例文帳に追加

膜パターンを形成する材料が無駄に消費されることを抑制できると共に、後工程において、不良品を良品と区別し易くすることができる、膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器を実現する。 - 特許庁

To provide a transfer film for curved surface printing which is free from the generation of cracks in an image layer constituting a pictorial pattern and capable of performing the curved surface printing with outstanding design characteristics, during a transfer processing step using a curl fit process for applying an activator to the transfer film for curved surface printing having a formed image layer constituting the pictorial pattern.例文帳に追加

絵柄を構成する画像層を形成した曲面印刷用転写フィルムに活性剤を塗布して行うカールフィットによる転写加工工程に際して、絵柄を構成する画像層のひび割れが発生せず、意匠性に優れた曲面印刷を行うことのできる曲面印刷用転写フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

Further, when the second step portion 19 is formed in the hard mask layer 12, the hard mask layer 12 remained so as to cover a surface of the substrate 11 can reduce charging (charge-up) of the substrate 11 in a plurality steps of pattern formation.例文帳に追加

また、ハードマスク層１２に２段目の段差部１９を形成するにあたり、ハードマスク層１２を基板１１の表面を覆うように残存させることにより、複数段のパターン形成において、基板１１の帯電（チャージアップ）を抑制出来る。 - 特許庁

A pattern detection means 23 and a data conversion means 24 execute a smoothing processing in binary data obtained by the binarization processing means 21 based on the position flag generated by the position flag generation means 22 and the step of the image is corrected.例文帳に追加

パターン検出手段２３およびデータ変換手段２４は、位置フラグ発生手段２２により発生された位置フラグに基づいて２値化処理手段２１により得られた２値データにおいてスムージング処理を行って画像の段差を補正する。 - 特許庁

Next, a spiral-like wiring pattern 20 for wiring the IC chip is formed with a thin film on the surface of the disk substrate 10 so that the edges 20a and 20b are located to be superimposed on the bumps 13a and 13b, respectively (step S11).例文帳に追加

次に、ＩＣチップの配線用のスパイラル状の配線パターン２０を、その端部２０ａおよび２０ｂがバンプ１３ａおよび１３ｂ上にそれぞれ重なって配置されるように、ディスク基板１０の表面に薄膜形成する（ステップＳ１２）。 - 特許庁