「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

When the jack pot game state occurs, the CPU of the main board determines whether the performance pattern in the lottery performance display should be operable or non-operable (step S202).例文帳に追加

大当り遊技状態が発生するときに、主基板のＣＰＵは、抽選演出表示における演出パターンを操作可能パターンとするか操作不能パターンとするかを決定する（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

In step S1, an area of an input image having a high degree of similarity to a template is detected by matching using a projection pattern so as to extract a center of the detected area as a candidate point.例文帳に追加

ステップＳ１において、投影パターンを用いたマッチングにより、テンプレートと類似度の高い入力画像の領域を検出し、検出した領域の中心を候補点として抽出する。 - 特許庁

Next, the device divides the input picture into small areas and retrieve an area having the closest pattern from positional vicinities on the reference picture calculated by the examined correspondence to perform mapping (step A3).例文帳に追加

次に、入力画像を小領域に分割し、調査した対応により算出される基準画像上の位置付近から、もっとも近いパターンを持つ領域を検索して写像する（ステップＡ３）。 - 特許庁

The featured values are indexed according to the positional relation of each of the arrangement standard of the index points (a step S6), and a preliminarily obtained already known pattern is compared with the corresponding relation of indexes (steps S7, S8).例文帳に追加

この特徴量をインデックスポイントの配置基準ごとの位相関係に応じてインデックスづけし（ステップＳ６）、予め求めておいた既知のパターンとインデックスの対応関係を比較する（ステップＳ７、Ｓ８）。 - 特許庁

In a next crystallization step, the intensity of the laser light 50 is optically modulated, so that a cyclic light and dark pattern can be projected onto the region R, the first division region D in the upper left of the substrate 0 is irradiated with the modulated pattern, the identical region D is again irradiated with the pattern so as not to overlap therewith at least once by shifting the region R.例文帳に追加

次の結晶化工程では、照射領域Ｒに周期的な明暗のパタンを投影可能な様にレーザ光５０の強度を光学変調して、基板０の左上にある最初の分割領域Ｄを照射し、更に少なくとも一回該明暗のパタンが重複しない様に照射領域Ｒをずらして同一の分割領域Ｄを再度照射する。 - 特許庁

To provide a method/device which can accurately discriminate an edge of a a circuit pattern even when a constant contrast of background faces is not secured between the circuit pattern and a substrate base, when a luminance level is not set as a step-like or pulse-like change at a part equivalent to the edge of the circuit pattern or when the image data include the noise.例文帳に追加

回路パターンと基板基体の背景面間の明暗のコントラストが一定にならない場合、画像データにおける回路パターンの縁辺に相当する部分の輝度レベルがステップ状またはパルス状の変化として得られない場合または画像データにノイズが存在する場合であっても、回路パターンの縁辺を正確に判別することのできる方法およびその判別装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the plane antenna as one claim of this invention which is formed by covering a dielectric with a conductor and has a pattern which is not covered with the conductor in a part of a conductor coating face of the dielectric, has a step for integrally molding the dielectric and the pattern through injection molding by using a metal die having the pattern.例文帳に追加

本発明の一側面としての平面アンテナの製造方法は、誘電体を導体で被覆してなる平面アンテナにおいて前記誘電体の導体被覆面の一部に前記導体で覆われないパターンを有する平面アンテナの製造方法であって、前記パターンを有する金型を用いて前記誘電体と前記パターンとを射出成形法により一体に成形するステップを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium includes a step for forming a pattern of a magnetic film having ruggedness corresponding to a track part, a servo part or a data part on the substrate having a shape having a hole at its center and a step for jetting a gas stream generated by diffusing a liquidized gas to the center hole of the substrate before or after the pattern of the magnetic film is formed.例文帳に追加

中心に孔を有する形状を持つ基板上に、トラックあるいはサーボ部あるいはデータ部に対応する凹凸をなす磁性膜のパターンを形成する工程と、 前記磁性膜のパターンの形成前または形成後に、液状化したガスを拡散させることで生じたガス流を前記基板の中心孔に対して噴射する工程とを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: a coating step to apply paste containing AlN powder, glass frit and a solvent on a substrate; a drying step to dry the paste applied and to form a dry coating film; a laser drawing step to draw conductive patterns on the dry coating film by irradiation of laser beams; and a development step to remove unirradiated part of laser light out of the dry coating film by using a developer.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成方法によれば、ＡｌＮ粉末、ガラスフリット及び溶剤を含むペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー光の照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー描画工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザー光の未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

An electromagnetic wave shielding material manufacturing method comprises the first step of collecting a laser beam onto a conductive sheet constituted by forming a conductive layer comprising a conductive substance on a first base, removing the conductive layer, and forming a conductive pattern; and the second step of filling a portion between the conductive patterns with resin.例文帳に追加

第１の基材上に導電性物質を含んでなる導電性層を形成してなる導電性シートに、レーザを集光させて前記導電性層を除去し、導電性パターンを形成する第１の工程と、前記導電性パターン間に、樹脂を充填する第２の工程とを含む電磁波遮蔽材の製造方法。 - 特許庁

The process for producing a transfer mask comprises a step for forming a stress control layer for canceling variation in the stress of a thin film layer being generated before a resist layer is formed, and an etching step using the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加

転写用マスクの製造工程において、前記レジスト層の形成前に、マスクの製造工程において発生する薄膜層の応力変化を相殺する応力制御層を前記薄膜層上に形成する工程と、前記レジストパターンをエッチングマスクとしてエッチングする工程とをさらに含むことを特徴とする転写用マスクの製造方法。 - 特許庁

When receiving an opening specifying command from a main CPU (step S10), a general CPU starts execution of processing during a big winning and determines whether or not the big winning game specified by the opening specifying command of this time is the big winning game based on a variation pattern for the big winning performance of a big winning 2R (step S11).例文帳に追加

統括ＣＰＵは、オープニング指定コマンドをメインＣＰＵから受信すると（ステップＳ１０）、大当り中処理の実行を開始し今回のオープニング指定コマンドに指定される大当り遊技が大当り２Ｒの大当り演出用の変動パターンに基づく大当り遊技であるか否かを判定する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

A method for evaluating an arteriosclerosis lesion includes: a step of detecting a marker protein that shows a characteristic expression pattern (variation of an expression) on a specific disease stage of an arteriosclerosis lesion on a subject; and a step of evaluating the arteriosclerosis lesion of the subject based on the detection result.例文帳に追加

被験体において、動脈硬化病変において特定の疾患ステージに特徴的な発現パターン（発現の変動）を示すマーカータンパク質を検出するステップと、 その検出結果に基づいて被験体における動脈硬化病変を評価するステップとを含む、動脈硬化病変の評価方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a step S2, a filter discrimination section analyzes the high speed image signal to detect a marking of a border area, in a step S3, a type of spectral filter placed before and after the marking is discriminated on the basis of a pattern of the detected marking, a corresponding filter discrimination signal is generated and outputted to a sort section.例文帳に追加

ステップＳ２で、フィルタ判別部は、高速画像信号を解析することによって境界領域のマーキングを検出し、ステップＳ３で、検出したマーキングのパターンに基づき、マーキングの前後に配置されている分光フィルタの種類を判別し、対応するフィルタ判別信号を生成して仕分け部に出力する。 - 特許庁

To provide a micro bead automatic identification method which includes the step of acquiring an image of a circular surface of the cylindrical micro bead having the identification pattern and a plurality of reference points formed on the circular surface and the step of acquiring information about both sides and/or tilting of the micro bead based on the positions of the reference points in the acquired image.例文帳に追加

識別パターンと複数の基準点を円形面に形成した円柱形のマイクロビーズの円形面の画像を取得するステップと、取得された画像において、基準点の位置に基づき、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報を取得するステップと、を含むマイクロビーズ自動識別方法を提供する。 - 特許庁

This micro-bead automatic identifying method comprises a step of acquiring an image of a circular surface of the cylindrical micro-bead having the identification pattern and a plurality of reference points formed on the circular surface, and a step of acquiring information about both sides and/or tilting of the micro-bead based on the positions of the reference points in the acquired image.例文帳に追加

識別パターンと複数の基準点を円形面に形成した円柱形のマイクロビーズの円形面の画像を取得するステップと、取得された画像において、基準点の位置に基づき、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報を取得するステップと、を含むマイクロビーズ自動識別方法を提供する。 - 特許庁

After acquiring images for the whole surface of the photomask in the orthogonal state, the photomask is rotated by 90° (step S2), and a direction to reciprocate the irradiation spot of the laser within the micro range is set parallel to the main direction of the pattern to acquire an image (step S3, inspection in a 90° direction).例文帳に追加

この直交させた状態でフォトマスクの全面に対して画像を取得した後、フォトマスクを９０°回転させて（ステップＳ２）、微小範囲でレーザーの照射スポットを往復させる方向がパターンの主たる方向に対して平行になるようにして画像を取得する（ステップＳ３、９０°の向きでの検査）。 - 特許庁

This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加

感光性材料１１１が塗布された原盤１０８に露光光１１２を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程（Ｓ１）と、その露光された原盤１０８を現像することで露光量に応じた深さの３次元パターン形状を形成する工程（Ｓ２）と、を備える。 - 特許庁

In the manufacturing method of the plane heating element in which an aluminum foil laminated on the insulating board is etched in a given pattern, carbon paste is printed, current input terminals are coupled in parallel, and the aluminum foil laminated on the insulating board is etched by tempering step by step.例文帳に追加

絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを所定のパターンでエッチングし、カーボンペーストをプリンティングした後、電流入力端子を並列に連結する面状発熱体の製造方法において、絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを段階的にテンパリングしてエッチングすることを特徴とする面状発熱体の製造方法。 - 特許庁

When the original having an exposure pattern that is carried in the aligner is aligned by observing an alignment mark on the original by an observation means, the alignment mark on the original is observed by the observation means for measuring the position in advance (step 51), and the measured result is stored as data accompanying the original (step 52).例文帳に追加

露光装置に搬入された露光パターンを有する原板を、該原板上のアライメントマークを観察手段により観察してアライメントする場合に、あらかじめ、観察手段により原板のアライメントマークを観察してその位置を計測し（ステップ５１）、この計測結果を原板に付随するデータとして記憶しておく（ステップ５２）。 - 特許庁

A source ID selected as input is identified in a step S401, and whether the input source (or the combination thereof) is viewed in the past, that is, whether it is present in a viewing pattern history data base, is checked on the basis of the attribute data of the selected input source in the next step S402.例文帳に追加

ステップＳ４０１で、入力として選択されたソースＩＤの識別を行い、次のステップＳ４０２で、選択された入力ソースの属性データに基づき、その入力ソース（またはその組合せ）が過去に視聴されているか否か、すなわち視聴パターン履歴データベースに存在するかをチェックする。 - 特許庁

This layout design method includes: an error discrimination step S6 for discriminating an error of the layout wiring after a power source is wired in a grid pattern; and a stack via erasure step S20 for, when there is a layout wiring error, designating an erasure range based on error coordinates, to remove a stack via in the erasure range.例文帳に追加

本発明のレイアウト設計方法は、格子状の電源配線を配置し、配置配線した後、配置配線のエラーを判定するエラー判定ステップＳ６と、配置配線のエラーがある場合には、エラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くスタックビア削除ステップＳ２０とを有する。 - 特許庁

A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light.例文帳に追加

プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面４３０の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン４００を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。 - 特許庁

This method for performing the calibration of the camera for photographing an object from different directions has a 1st step to obtain the projection matrix of the camera and a 2nd step to a photograph a chart for calibration where a dot pattern is displayed from the different directions by the camera, so that the previous projection matrix is corrected by using the obtained image.例文帳に追加

対象物を異なる方向から撮影するためのカメラのキャリブレーションを行う方法であって、カメラの投影行列を求める第１のステップと、ドットパターンが表示された校正用チャートを異なる方向からカメラで撮影し、得られた画像を用いて先の投影行列を修正する第２のステップとを有してなる。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

By a CMP step for forming a first plug, and an etching step for forming a following second plug so as to fill a part where an insulating material film is lost by depositing the attack prevention film all over the surface after cleaning, spreading of loss of the attack prevention film to a lower part of a conductive pattern is prevented.例文帳に追加

第１プラグ形成のためのＣＭＰ工程及び洗浄後にその全面にアタック防止膜を蒸着して絶縁性物質膜が損失された部分を埋め込むようにして後続する第２プラグを形成するためのエッチング工程でアタック防止膜が導電パターンの下部に損失が広がることを防止する。 - 特許庁

The pattern-forming method comprises: the first film-forming step of forming the first metallic film 28 containing a sulfur component on a substrate 18; and the second film-forming step of electroless-plating the second metallic film 42 on the first metallic film 28 while using the first metallic film 28 as a catalyst.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、基板１８上に、硫黄成分を含有する第１金属膜２８を形成する第１金属膜形成工程と、第１金属膜２８を触媒として無電解めっき処理を施し、第１金属膜２８上に第２金属膜４２を形成する第２金属膜形成工程と、を有する。 - 特許庁

In the case that the timing after the end of the final round is selected by the pattern/performance specifying command (Y in step S626), a microcomputer 100 for performance control inhibits the reporting of upgrade to the probability variable big winning in a first re-drawing performance during the round (N in step S958 and S960).例文帳に追加

演出制御用マイクロコンピュータ１００が、図柄／演出指定コマンドで最終ラウンドの終了後のタイミングが選択された場合は（ステップＳ６２６のＹ）、ラウンド中における第１再抽選演出において確変大当りへの昇格を報知することを禁止する（ステップＳ９５８のＮ，Ｓ９６０）。 - 特許庁

To provide a game machine capable of enhancing the interest of a player to the game easily by recognizing a specified pattern at a specified position as a 'ready-to-win' state and by complicatedly raising the expectation to the winning flag formation step by step.例文帳に追加

特定図柄の特定の停止位置での停止を、いわゆるリーチ目として、容易に認識することができ、また、入賞フラグ成立の報知手段として、複雑且つ段階的に入賞フラグ成立への期待感を高揚させることができて、遊技を面白く興味溢れるものにすることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

Also in the selection of the special treasure box 401, if the player operates the additional betting control part 302 and selects the desired special treasure box 401, the content of the special privilege related to the special treasure box 401 is announced step by step based on the number of times of selection of announcement and the announcement pattern of the special treasure box 401.例文帳に追加

この特別宝箱４０１の選択においても、追加ベット操作部３０２の操作、所望の特別宝箱４０１の選択を行うことで、当該特別宝箱４０１の報知選択回数、報知パターンに基づいて、当該特別宝箱４０１に係る特別特典内容が段階的に報知される。 - 特許庁

To provide a printing method that can form a pattern of contrasts only by a monochrome dye and can simplify a production process, by using both an ink jet printing step for printing a highly precise ink image on a fabric made of a synthetic fiber and a dyeing step for dyeing the whole fabric.例文帳に追加

合成繊維製の布帛に対して高精細なインク像を印刷するインクジェット印刷工程と布帛全体を染色する染色工程を併用することで、単色の染料のみでもコントラストによる模様形成が可能になり、しかも製造工程を簡略化することが可能な捺染方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes a step of forming a seed layer 13, and a conductor layer 14 on a seed layer 13 to fill the inside of the via hole VH and the aperture (wiring groove) OP; and a subsequent step of grinding the surface of the conductor layer 14 to be flat until the photosensitive permanent resist layer 12 is exposed, to form the wiring pattern 15.例文帳に追加

次に、全面にシード層１３を形成し、ビアホールＶＨ及び開口部（配線溝）ＯＰの内部を充填するようにしてシード層１３上に導体層１４を形成した後、感光性永久レジスト層１２が露出するまで導体層１４の表面を研磨して平坦化し、配線パターン１５を形成する。 - 特許庁

When the player hits the Pachinko machine at a specified timing not notified to the player (Yes in a step S13), the vibration sensor detects the vibration of the Pachinko machine thereby and sets an occasion executing a performance which is not executed generally (a high-speed re-variation of symbols in a pattern display region in the center) (a step S16).例文帳に追加

遊技者には告知されていない特定のタイミングで遊技者がパチンコ機をどづいた場合には（ステップＳ１３でＹＥＳ）、それに伴うパチンコ機の振動を振動センサが検知して、通常は行われないような演出（中央の図柄表示領域１２Ｃの図柄の高速再変動）が行われる場合がある（ステップＳ１６）。 - 特許庁

This method comprises a step to input and register the inter-product priority information based on the constraint conditions on production of the plurality of types of products and a step to calculate the inter-product priority based on the priority information, and to repeat this procedure to create the production order pattern of each of the plurality of types of products.例文帳に追加

この方法は、複数機種の生産上の制約条件に基づき製品相互の間の優先度合い情報を入力し登録するステップ、この優先度合い情報に基づいて製品相互の優先度を演算し、これを繰返し、複数品種の製品のそれぞれの生産順位パターンを作成するステップを含む。 - 特許庁

The concrete curing method comprises the cure preparation step of forming a cover 12 around the placed concrete body 11 so as to leave a specified space between them and the air control step of allowing the atmosphere temperature of the cover 1 to follow the concrete body 11 temperature pattern which changes as the result of the concrete hydration reaction.例文帳に追加

コンクリート打設後のコンクリート躯体１１の周囲に所定間隔を有してカバー部１２を覆設する養生準備工程と、セメント水和反応に伴って変動するコンクリート躯体１１の温度パターンにカバー部１２の雰囲気温度を追随させる空気調整工程と、を有するコンクリートの養生方法である。 - 特許庁

The carbo-nitriding process is to perform the carbo-nitriding by heating a work consisting of steel containing ≥0.8 mass% carbon in an atmosphere containing ammonia, carbon monoxide, carbon dioxide and hydrogen, and comprises an atmosphere control step 50 and a heating pattern control step 60.例文帳に追加

浸炭窒化方法は、０．８質量％以上の炭素を含有する鋼からなる被処理物を、アンモニア、一酸化炭素、二酸化炭素および水素を含む雰囲気中で加熱することにより浸炭窒化する浸炭窒化方法であって、雰囲気制御工程５０と、加熱パターン制御工程６０とを備えている。 - 特許庁

The initial value setting step sets a data recording rate to be adopted by an optical recording apparatus, the number of types of recording strategy data, the maximum number of steps of a time parameter which is applied to the recording strategy data, and a step interval by which a value of the time parameter is changed within the maximum number, and generates an EFM pattern.例文帳に追加

初期値の設定段階は、光記録装置が適用しようとするデータ記録速度、記録戦略データの種類別の数、記録戦略データに適用されるタイムパラメータのステップの最大数、及び該最大数の範囲内でタイムパラメータの値を変更させるステップの間隔を設定し、ＥＦＭパターンを発生させる。 - 特許庁

In case where the image data are of VRAM type (Step S12: Yes), the image data are stored in the VRAM, and in case where they are of a main memory type (Step S12: No), the image data are stored in the main memory transmitting only the lines of the pattern image needed to be displayed to the VRAM.例文帳に追加

画像データは、所定の高さを１ラインとしたラインで管理し、画像データがＶＲＡＭ型の場合（ステップＳ１２：Ｙｅｓ）は、画像データをＶＲＡＭに格納し、メインメモリ型の場合（ステップＳ１２：Ｎｏ）は、画像データをメインメモリに格納するとともに、表示に必要なパターン画像のラインのみＶＲＡＭに転送する。 - 特許庁

When a prescribed pattern is not reproduced by the reproduction (N in step S5), since write software discriminates that the optical disk is a copied optical disk wherein dummy data are recorded in place of the prescribed pattern, a series of processes are terminated and processing on the basis of the program recorded on the optical disk is not conducted.例文帳に追加

この再生により所定のパターンが再生されなかったときは（ステップＳ５のＮ）、書込みソフトにより所定のパターンに代えてダミーのデータが記録されたコピーの光ディスクであることが判明するから、一連の処理を終了し、光ディスクに記録されているプログラムに基づく処理を行なわない。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加

ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The step of forming the groove 1a comprises steps of forming a silicon nitride film 3, for example, on the semiconductor substrate 1, forming a resist pattern 50 on the silicon nitride film 3, and forming the groove 1a by using the resist pattern 50 as a mask and by carrying out the anisotropic etching of the silicon nitride film 3 and the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

溝１ａを形成する工程は、例えば半導体基板１上に窒化シリコン膜３を形成する工程と、窒化シリコン膜３上にレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして窒化シリコン膜３及び半導体基板１を異方性エッチングすることにより、溝１ａを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

To provide a dry etching method with which no undercut occurs and a working shape difference hardly occurs between an isolate pattern and a congestion pattern, in the step of selectively removing a chemical compound semiconductor layer containing neither Al nor In and laminated on a chemical compound semiconductor layer containing either Al or In.例文帳に追加

ＡｌもしくはＩｎを含む化合物半導体層の上に積層されたＡｌもしくはＩｎを含まない化合物半導体層を選択的に除去する工程において、アンダーカットが生じず、且つ、孤立パターン部と密集パターン部における加工形状差の生じにくい、ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A notice content pattern is configured such that the rank of a notice image to be executed does not become lower in the succeeding variation cycle than in the previous variation cycle before and after an object variation cycle and the rank of the notice image to be executed in each variation cycle can be specified regardless of the number of the variation cycles configuring the step notice performance by one pattern.例文帳に追加

予告内容パターンは、対象とする変動サイクルの前後で後の変動サイクルで前の変動サイクルよりも実行させる予告画像のランクが低くならない、且つ１つのパターンで段階予告演出を構成する変動サイクル数にかかわらず各変動サイクルで実行させる予告画像のランクを特定可能にした。 - 特許庁

This method for forming the fine wiring comprises a step of (a) treating at least one side of a wiring pattern to be formed on a base substrate with alkali metal hydroxide solution, and (b) treating hydrophobic ink in accordance to the wiring pattern to be formed.例文帳に追加

本発明の一側面によれば、（ａ）アルカリ金属水酸化溶液によってベース基材上に形成しようとする配線パターンの少なくとも一側を処理する段階、及び（ｂ）上記形成しようとする配線パターンに沿って疎水性インクを処理する段階を含む微細配線の形成方法が提供される。 - 特許庁