「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

Second exposure wherein the area including the cord electrode pattern is made to be an unexposed portion is carried out to expose an area where a surface of the spherical base is irradiated obliquely with exposure light up to an energy amount needed for a developing step.例文帳に追加

すだれ状電極パターンを包括する領域を非露光部とする二度目の露光を行うことにより、球面基体の表面に対し露光光が斜めに照射される領域を現像工程に必要なエネルギー量まで露光することが出来る。 - 特許庁

And each of the set positional relationships is used to position the defect output by the inspection equipment 1 and the design data, and a local pattern of the site at which the defect is positioned is extracted from the design data for every positional relationship (step S6).例文帳に追加

そして、設定された位置関係の夫々を用いて検査装置１が出力した欠陥位置と設計データとを位置合わせし、設計データから欠陥位置が位置合わせされた部位の局所パターンを位置関係毎に抽出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

In the first corrected data generation process (step S40), according to a first correction rule, first corrected data are generated, by adding first correction pattern data for making the end part of the first wiring thick, at least in the width direction to the first wiring data.例文帳に追加

第１補正後データ生成工程（ステップＳ４０）では、第１の補正ルールに従って、第１配線データに、第１配線の端部を少なくとも幅方向に太らせるための第１の補正パターンデータを付加して第１補正後データを生成する。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition having high sensitivity and high resolving power, giving a rectangular photoresist, having good wettability with a developing solution, nearly free from development defects and ensuring a slight dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

高感度及び高解像力で、矩形形状を有するフォトレジストを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少なく、更に酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写時に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を得る。 - 特許庁

To provide a probe test device and its method which can easily analyze a main cause of fail bit by obtaining information of fail bit for each step in which a different test pattern is given to a semiconductor device such as a semiconductor memory and the like.例文帳に追加

半導体メモリ等の半導体装置に対して異なるテストパターンを与えるステップ毎にフェイルビットの情報を取得し、フェイルビットになった要因を容易に解析できるようにしたプローブテスト装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming a second resin film as the acid transfer resin film on a first resin film containing a resin having an acid dissociable group and not containing a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁

In the second step, a second resin 13 is interposed between a second stamper 30 having, in its transfer surface 30a, pattern-shaped recessed parts 32 corresponding to second magnetic parts of user data regions and the magnetic film 5 and the second stamper 30 is pushed to the second resin 13.例文帳に追加

第２工程では、ユーザデータ領域の第２磁性部に対応したパターン形状の凹部３２を転写面３０ａに伴う第２スタンパ３０と磁性膜５の間に第２樹脂１３を介在させて第２スタンパ３０を第２樹脂１３に押し付ける。 - 特許庁

In this case, a changing pattern displaying the big hit is determined in a different way from usual (Step C17), then, the display for a big hit is different from usual, and it is recognized that the big hit is made according to the ceiling condition.例文帳に追加

このとき、大当たり図柄を表示する変動パターンを通常と異なるように決定するので（ステップＣ１７）、大当たり表示が通常と異なることにより、大当たりは天井条件が成立したことにより発生したことが分る。 - 特許庁

Relating to the game machine such as a Pachinko game machine, when a ready-to-win pattern (required timing) is reached, a plurality of movable members (movable bodies) are moved to enter the display area of an image display part and a character (image) is made to appear in the image display part (step S84).例文帳に追加

パチンコ機等の遊技機に関し、リーチ（所要のタイミング）に達すると、複数の可動部材（可動体）を動かして画像表示部の表示領域内に入り込ませるとともに、画像表示部にキャラクタ（画像）を出現させる（ステップＳ８４）。 - 特許庁

When receiving a variation pattern command for both of a regular big win and a probability variable big win from the game control microcomputer 560, the performance control microcomputer 100 determines stationary symbols for ornamental symbols based on a symbol information specification command (step S625).例文帳に追加

演出制御用マイクロコンピュータ１００が、遊技制御用マイクロコンピュータ５６０からの通常大当り／確変大当り兼用の変動パターンコマンドを受信したときは、図柄情報指定コマンドから飾り図柄の停止図柄を決定する（ステップＳ６２５）。 - 特許庁

The pattern superimposing method superposes patterns having predetermined shapes in the paper or the document data which can be printed in the paper, and includes a superposition step for superposing on ends of the paper to be printed without losing shapes of the patterns.例文帳に追加

所定の形状を有するパターンを、紙あるいは紙への印刷可能な文書データに重畳するパターン重畳方法であって、印刷される前記紙の端部に前記パターンの形状を欠くことなく重畳する重畳段階を有する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming the second resin film as the acid transfer film on a first resin film which contains a resin including acid dissociation groups but does not contain a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an acrylic plate for electric decoration molded using a press mold made through the corrosion processing step, which displays a decoration pattern with 3D feeling only by a decorative acrylic plate.例文帳に追加

腐食加工工程により作成した押し型を利用して成形される電飾用アクリル板の製造方法であって、装飾アクリル板のみで立体感のある装飾模様を表示可能にした電飾用アクリル板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of processing the semiconductor wafer includes a step of sticking a surface protection tape to the pattern surface of the semiconductor wafer whose backside is stuck to a tape for wafer processing and which has the origins of dicing or cutting formed by a chip unit.例文帳に追加

裏面がウエハ加工用テープに貼合されており、チップ単位にダイシングあるいは切断の起点が形成された半導体ウエハのパターン面に、表面保護テープを貼合する工程を備えることを特徴とする半導体ウエハの加工方法を用いる。 - 特許庁

Pattern writing by the electron beam lithography system is controlled by single proximity effect control function and fogging effect control function coupled in one data processing step using the same algorithm as that being executed in a standard proximity correction unit.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。 - 特許庁

Assist patterns are generated in the original layout by deducting the assist pattern layout from the original layout, whereby the scum in the exposure step of transferring the layout having assist patterns generated therein, onto a semiconductor substrate is suppressed.例文帳に追加

原本レイアウトから補助パターンのレイアウトを差引して原本レイアウトに補助パターンを生成させて、補助パターンが生成されたレイアウトを半導体基板上に露光過程によって転写する露光過程中のスカムを抑制するリソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

The exposure treatment is carried out by making a step pitch (c) times as long as the chip pattern dimension (however, (a) is a divisor of (a) and a positive integer smaller than (a)), and making one shot S exposure (c/a) times as much as the exposure necessary for the photosensitive coloring resist layer.例文帳に追加

ステップピッチをチップパターンの寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であり、かつａより小さい正の整数）とし、１ショットＳの露光量を、感光性着色レジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとして露光処理を行う。 - 特許庁

The method for production comprises carrying out a step of discharging a pressure-sensitive adhesive forming a basis of the pressure-sensitive adhesive layer from nozzles and forming the pattern in a prescribed planar shape on the surface of the substrate near positions where the belt-like substrate is continuously slit while being transported.例文帳に追加

製造方法は、感圧粘着層のもとになる粘着剤をノズルから吐出させて、基材の表面で所定の平面形状にパターン形成する工程を、帯状の基材を搬送しながら連続的にスリットする位置の近傍で行う。 - 特許庁

To provide a method and equipment for measurement using a charged particle beam by which connection deviation of a pattern having an optional shape can be measured without drawing step of patterns for measurement to measure the connection deviation and the measurement reproducibility is made high.例文帳に追加

接続ズレを測定するために測定用のパターンの描画工程を必要とせず、また、任意形状のパターンの接続ズレの測定も可能で、測定再現性にも優れた荷電粒子ビームを用いた測定方法および装置を実現する。 - 特許庁

The game machine determines whether or not the combination of symbols shown one line (for example an effective line 8) connecting specified pattern showing positions (for example middle step positions) in each of a plurality of showing positions is the combination relating to the provision of the bonus.例文帳に追加

遊技機は、複数の表示部の各々における特定の図柄表示位置（例えば、中段位置）を結ぶ一のライン（例えば、有効ライン８）に表示された図柄の組合せが特典の付与に係る図柄の組合せであるか否かを判別する。 - 特許庁

A CPU for administrative control determines whether the execution of an operation performance should be made or not from a variation pattern designation command and the random number for operation performance while determining the contents of the jackpot advance notice performance showing the expectations felt for the jackpot (step SS 32).例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、変動パターン指定コマンドと操作演出用乱数に基づき、操作演出の実行可否を判定するとともに、大当りへの期待感を示す大当り予告演出の演出内容を決定する（ステップＳＳ３２）。 - 特許庁

The processing continues to a step S24, where specific value (j) (0≤j<N) not included in the array r(i) are selected at random as the addresses causing no specific replacement pattern, and the processing to replace p(r(i)) with the p(j) is conducted with respect to all the arrays r(i).例文帳に追加

ステップＳ２４に進み、特定の置換パターンを生じさせないような位置としてｒ［ｉ］に含まれない所定の値ｊ（０≦ｊ＜Ｎ）がランダムに選択され、ｐ［ｒ［ｉ］］とｐ［ｊ］を入れ替える処理が、全てのｒ［ｉ］に関して行われる。 - 特許庁

The horizontal length of the lane marker in an image obtained by imaging the discrete lane marker of the metal tack, etc., by a camera 1 is calculated and a marker pattern of density values '1' corresponding to pixels the number of which corresponds to the length is set (step S1).例文帳に追加

金属鋲等の離散的なレーンマーカを、カメラ１によって撮像した場合の撮像画像上におけるレーンマーカの水平方向の長さを算出し、この長さに相当する数の画素に対応する濃度値“１”のマーカパターンを設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁

To obtain a fabrication method of semiconductor device comprising a step for etching a metal film using a resist pattern as a mask in which resist used as a mask at the time of patterning the film can be removed easily along with reaction products produced at the time of patterning the film.例文帳に追加

レジストパターンをマスクに使用して金属膜をエッチングする工程を含む半導体装置の製造方法に関し、膜のパターニングにマスクとして使用されたレジストと膜のパターニングの際に発生した反応生成物を容易に除去すること。 - 特許庁

Then, an opening 7 for the through- holes is made simultaneously as with the formation of openings 6 for the formation of connecting terminal parts 9 of the pattern 3, and subsequently the conductor piece 4 is removed in a final step to made the required through-holes.例文帳に追加

そして、回路配線パタ−ン３の接続用端子部９を形成する為の開口部６の形成と同時に貫通孔の為の開口部７を形成した後、最終工程で導体片４を除去して所要の貫通孔を形成する。 - 特許庁

When deciding that the end coordinates are inputted, the CPU advances to a step S195, sets a rectangular area on the upper side in the figure of a straight line whose end points are the inputted start coordinates and end coordinates and plots a prescribed pattern in the rectangular area.例文帳に追加

終了座標が入力されたと判定すると、CPUは、ステップＳ１９５に進み、入力された開始座標と終了座標を端点とする直線の、図中上側に矩形領域を設定し、その矩形領域に所定の絵柄を描画する。 - 特許庁

To improve productivity of a circuit board by increasing the absorptivity of laser light of a resin film, in a method for manufacturing the circuit board including a step of forming a circuit pattern by irradiating the resin film formed on an insulating substrate surface with laser light.例文帳に追加

絶縁基材表面に形成した樹脂皮膜にレーザ光を照射して回路パターンを形成する工程を含む回路基板の製造方法において、樹脂皮膜のレーザ光の吸収率を高くし、回路基板の生産性の向上を図る。 - 特許庁

In the exposure step, a light dot of a predetermined size is projected on the photosensitive film such that the light dot is repeatedly projected on the photosensitive film while being dislocated by a distance smaller than the diameter of the light dot, whereby the total pattern is exposed.例文帳に追加

露光工程では、感光膜に対して所定の大きさの光ドットを投影すると共に、光ドットを光ドットの径よりも小さい距離ずつずらしながら感光膜に対して重ねて投影することにより全体パターンを露光する。 - 特許庁

A directional axis going though the central point of a finder pattern, the central point of an inner direction module and the central point of an outer direction module is assumed, and the position information and the graphic information of a data module on the directional axis are calculated (step S401).例文帳に追加

ファインダーパターンの中心点、内側方向モジュールの中心点および外側方向モジュールの中心点を通る方向軸を想定し、方向軸上のデータモジュールの位置情報および図形情報を算出する（ステップＳ４０１）。 - 特許庁

An electrode of at least one power semiconductor element and an electrode of at least one control IC element for controlling the power semiconductor element are electrically connected to a wiring pattern selectively disposed on a wiring support substrate (step S1).例文帳に追加

配線支持基材に選択的に配置された配線パターンに、少なくとも一つのパワー半導体素子の電極、並びにパワー半導体素子を制御する少なくとも一つの制御用ＩＣ素子の電極を電気的に接続する（ステップＳ１）。 - 特許庁

As shown by Figure 1(b), a process for forming a contact hole 4 by a dimension exceeding he same degree as the thickness d1 of the CVD oxide film 10 in which hole an end portion 4a which is bored at a distance L1 in a lateral direction from the step-difference pattern 2 is arranged is performed.例文帳に追加

図１（ｂ）に示すように、ＣＶＤ酸化膜１０の膜厚ｄ１の同程度を超える寸法で段差パターン２から横方向の間隔Ｌ１をおいて開孔する端部４ａが配置されるコンタクトホール４を形成する工程を行う。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

This mask pattern verifying device is provided with a processor 1, a keyboard 2, a mouse 3, a storage device 4, and a display device 5, and configured to advance the retrieval of a current path with a constant potential only for prescribed current path length in one step.例文帳に追加

処理装置１と、キーボード２と、マウス３と、記憶装置４と、表示装置５とを備え、同一電圧の電流経路を検索するマスクパターン検証装置は、１ステップで所定の電流経路長だけ検索を進めるようになっている。 - 特許庁

The semiconductor random access memory having a complex shape is provided with a ROM device storing an all latent row data pattern to be input to a memory cell array during test procedure, a variable step address generator, a comparing device, and a control device.例文帳に追加

複雑な形状を持つ半導体ランダムアクセス・メモリが、試験手順の間に記憶セル・アレイに入力すべき悉くの潜在的な行データ・パターンを記憶するＲＯＭ装置、可変ステップ・アドレス発生器、比較装置及び制御装置を備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing a touch sheet comprises the step of directly forming, in an elastic body 123 which conducts electricity due to the pressurization in a predetermined region, conductive pattern wirings 121, 122 so as to be in the lattice form on front and back surfaces of the elastic body 123.例文帳に追加

本発明のタッチシートの製造方法は、所定の領域の加圧によって電気的に導通する弾性体１２３において、前記弾性体１２３の表裏に互いが格子状になるように直接導電パターン配線１２１、１２２を形成する。 - 特許庁

Then, the time frequency analysis of the transition part is displayed by a topographic plot (S7), comparison is made with the topographic plate for each grounding fault cause by pattern recognition in a step S8, a judgment value is calculated, and this procedure is repeated for increasing the number of learning times.例文帳に追加

次に、過渡部分の時間周波数分析を等高線画像で表示し（Ｓ７）、ステップＳ８では、地絡故障原因毎の等高線画像とパターン認識により比較し、判定値を算出し、これを繰り返して学習回数を重ねる。 - 特許庁

The defect correction method of the color filters comprises a pattern transfer step of transferring at least a portion of two or more colors of color patterns on a colored image missing area on a substrate by using a transfer film having the color patterns.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing paper that embosses a pattern after printing or printed matter includes, in a step for producing paper, coating the surface of paper with an aqueous solution of iron sulfate containing iron (II) sulfate or iron (III) sulfate to produce paper and printing the paper using dampening water containing an oxidizing substance such as a nitrate, chlorate, perchlorate, or permanganate, a part of peroxide, in a printing step.例文帳に追加

紙を製造する工程において、硫酸鉄（ＩＩ）あるいは硫酸鉄（ＩＩＩ）を有する硫酸鉄水溶液を紙の表面に塗布して紙を製造した後、印刷工程で硝酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過マンガン酸塩、一部の過酸化物などの酸化性物質を有する湿し水を用いて印刷する、印刷後に模様の浮き出る紙または印刷物の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the parallax barrier 5A includes a pattern forming step of forming an aperture 53 to allow light to pass, and a light shielding part 52 configured to block the light on a thermally contracted barrier substrate 51 so that the plurality of the apertures 53 and the plurality of the light shielding parts 52 are alternately arranged at least in one direction, and a thermal contraction step of contracting the barrier substrate 51 by heating.例文帳に追加

この視差バリア５Ａは、熱収縮性を有するバリア基板５１に、光を通過させる複数の開口部５３、及び光を遮断する複数の遮光部５２が少なくとも一方向に交互に配列するように開口部５３及び遮光部５２を形成するパターン形成工程と、バリア基板５１を加熱して収縮させる加熱収縮工程とを備える。 - 特許庁

It includes, prior to the ashing, a step of removing a surface layer or a surface modified layer deposited on the surface of the resist pattern by the processing step under a low temperature.例文帳に追加

被処理基体表面に、レジストのパターンを形成し、このレジストのパターンをマスクとして、所定の処理を行う処理工程と、アッシングにより、前記レジストのパターンを剥離するレジスト剥離工程とを含む半導体装置の製造方法であって、前記アッシングに先立ち、低温下で、前記処理工程によりレジストのパターンの表面に堆積された表面層あるいは、表面変質層を除去する工程を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.例文帳に追加

抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも（ａ）絶縁性基板１上にパターニングされた抵抗層２を形成する工程、（ｂ）前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン３を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

The method for testing a semiconductor integrated circuit having a novolatile memory element and a peripheral circuit part other than the novolatile memory element comprises a first step for applying a high voltage to all memory cells in the novolatile memory element and a second step for imparting a test pattern to the peripheral circuit part other than the novolatile memory element while applying a high voltage wherein both steps are performed simultaneously.例文帳に追加

不揮発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備えた半導体集積回路の試験方法において、不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する第１のステップと、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印加しながら試験パターンを付与する第２のステップとを有し、上記両ステップを同時に実施する。 - 特許庁

The method for forming an alignment layer to align liquid crystal molecules includes: a plasma polymerization film forming step of forming a plasma polymerization film 86a on a substrate by using a plasma chemical vapor phase method; and a UV ray irradiation step of irradiating the plasma polymerization film 86a with UV rays to form a rugged pattern and rendering the plasma polymerization film as an alignment layer.例文帳に追加

液晶分子を配向する配向膜の形成方法であって、プラズマ化学気相法を用いて基板上にプラズマ重合膜８６ａを形成するプラズマ重合膜形成工程と、紫外光を照射することによって上記プラズマ重合膜８６ａに凹凸を形成し、これによって上記プラズマ重合膜を上記配向膜とする紫外光照射工程とを有する。 - 特許庁