「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the organic electroluminescent display device 1 comprises a microlens forming step of forming a lens pattern corresponding to the microlens 17 that refracts the light from the organic luminescent layer 14 by photolithographic treatment on a first transparent resin deposited on a substrate 11 and forming the microlens 17 by reflow treatment on the lens pattern.例文帳に追加

基板１１上に成膜した第１の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、有機発光層１４からの光を屈折するマイクロレンズ１７に応じたレンズパターンを形成し、レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、マイクロレンズ１７を形成するマイクロレンズ形成ステップ、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造方法。 - 特許庁

In a manufacturing step of the photomask, a crack assembly area 17 comprising a crack 16 distribution is formed in the mask 6 by irradiation with a femto-second pulse laser, the flatness of the mask 6 is improved by a tensile stress operated thereto and, thereby, the precision of drawing position of the circuit pattern 5 and the yield of the semiconductor wafer on which the circuit pattern is formed can be improved.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程において、フェムト秒パルスレーザを照射することによりマスク６内にクラック１６の分布からなるクラック集合領域１７を形成させ、そこに働く引張応力によってマスク６の平坦度を改善することで、回路パターン５の描画位置精度および回路パターンが形成される半導体ウエハの歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

In the multi-wiring film forming step, a dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed in a region other than the dicing region in the scribe line region, and no dummy pattern formed by vertically linking together the wirings and the vias is formed at least on an upper part of the interlayer insulating film in the dicing region.例文帳に追加

そして、前記多層配線膜を形成する工程において、前記スクライブライン領域における前記ダイシング領域を除く領域には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成し、前記ダイシング領域における前記層間絶縁膜の少なくとも上部には、前記配線及び前記ビアを上下方向に連結させたダミーパターンを形成しない。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by photolithography in which a resist coating material of an unexposed part removed in a developing step is reutilized to reduce the consumption of an alkali developing solution used for washing the photoresist coating material off as well as to avoid waste of the photoresist coating material and to provide a pattern forming apparatus.例文帳に追加

現像工程で除去されていた未露光部分のレジスト塗料を再利用することにより、当該フォトレジスト塗料の無駄を小さく抑えるとともに、当該フォトレジスト塗料を洗い流すために用いられているアルカリ現像液の消費量も低下させることが可能なフォトリソグラフィー法によるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

The step of maximizing the ILS values further includes: calculating ILS values at the ILS evaluation points; determining a minimum ILS value; calculating changes in the ILS values as a result of associating fragments with a different exposure pattern; determining a maximum change of the ILS values; and associating fragments associated with the maximum change with a different exposure pattern.例文帳に追加

ＩＬＳ値を最大化するステップは、更に、ＩＬＳ評価点におけるＩＬＳ値を算出すること、最小ＩＬＳ値を求めること、フラグメントを異なる露光パターンに関連付けた結果としてのＩＬＳ値の変化を算出すること、ＩＬＳ値の最大の変化を決定すること、最大の変化に関連したフラグメントを異なる露光パターンに関連付けることを含む。 - 特許庁

The photomask defining a STAR (step asymmetry recess) gate region includes a transparent substrate 101 and a light-shielding pattern 103 defining a zigzag recess W-STAR (waved STAR) gate region, wherein a waved portion of the light-shielding pattern partially overlaps a gate region and a storage electrode contact region of an active region disposed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

ＳＴＡＲゲート領域を定義するフォトマスクにおいて、透明基板１０１とジグザグ形態のリセスＷ−ＳＴＡＲゲート領域を定義する遮光パターン１０３とを含み前記遮光パターンの屈曲部は半導体基板に備えられた活性領域のゲート領域および格納電極コンタクト領域と部分的に重畳されることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁

Productivity is thereby enhanced while saving the cost by skipping the photographic step in a process for producing a semiconductor package being used for driving an LCD, reliability of a product is improved by preventing occurrence of a defect in the process for forming the circuit pattern 110 of metallic material and a circuit pattern having a fine line width is produced more efficiently.例文帳に追加

したがって、ＬＣＤ駆動用として使われる半導体パッケージの配線基板を製造する過程で写真工程を省略してコスト節減及び生産性の向上効果が得られ、金属材質の回路パターン１１０を作る過程で発生する欠陥を防止して製品の信頼性を改善し、微細線幅を有する回路パターンをさらに効率的に作られる。 - 特許庁

When polishing a tungsten film and a silicon oxide film 3, a polishing condition is determined so that the predetermined remaining step is below the predetermined remaining difference in level h determined by a pattern density of plugs 8a to 8c at the polishing process and the required predetermined remaining difference in level on the basis of the relationship between the obtained remaining difference in level and the pattern density.例文帳に追加

タングステン膜とシリコン酸化膜３に研磨処理を施す際に、研磨条件を変えることによってあらかじめ求められた残存段差とパターン密度との関係に基づいて、この研磨工程におけるプラグ８ａ〜８ｃのパターン密度と、要求される所定の残存段差とから、この所定の残存段差ｈを超えないように研磨条件が決定される。 - 特許庁

This method for forming the pattern coating film comprises a step for forming an irregular and discontinuous pattern on the surface of a base material precoated with undercoating by bringing the flocked coating roller, which has an uneven surface impregnated with topcoating having a hue different from that of the undercoating, into contact with the surface of the base material to tumble the same.例文帳に追加

１）予め下塗り塗料が塗装された基材表面に、前記下塗り塗料とは異なる色調の上塗り塗料を表面に凹凸を有する植毛された塗装ローラーに含ませた後、前記塗装ローラーを接触転動させることにより、不規則で非連続的な第１の模様を形成するステップからなることを特徴とする模様塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

In the third step, a first etching is made to the extent that the resin remains on the part of the second layer corresponding to the pattern and the rest part of the first layer is exposed and a second etching is made to the remaining resin and the exposed first layer.例文帳に追加

第３ステップでは、パターンに対応する部分の第２の層上に樹脂が残存し、かつ他の部分の第１の層が露出した状態となるまで第１のエッチングを行い、残存した樹脂と露出した第１の層に対して第２のエッチングを行う。 - 特許庁

Without using a constant test sequence at all times when a test pattern to be set in a shift register at the test is scanned in and the results of the test to be observed are scanned out, by limiting clock phases to be effective in each shift step into one, the problem of the skews are avoided.例文帳に追加

テスト時のシフトレジスタに設定するテストパタンをスキャンインしたり、観測すべきテスト結果をスキャンアウトする際に、常に一定のシフトシーケンスを用いるのではなく、各シフトステップで有効とするクロック相を１つに限定することで、スキューの問題を回避する。 - 特許庁

According to the present invention, even when a resist film is made thick enough to form a flat film, the aspect ratio of a resist pattern finally formed can be decreased, because the surface layer of the resist film is exposed with a low dose in the first step.例文帳に追加

本発明の構成によれば、レジスト膜が平坦となるように充分にレジスト膜を厚くした場合であっても、第一のステップによりレジスト膜の表層が低ドーズ量で露光されるため、最終的に形成されるレジストパターンのアスペクト比を低くすることが出来る。 - 特許庁

If the logic circuit includes a circuit having an n-th (1≤n≤N) logic and an m-th (1≤m≤M) current supply capacity in step S30, the circuit connection information and the layout pattern are created using the n-th logic cell and the m-th current supply cell.例文帳に追加

ステップＳ３０において、論理回路が第ｎ（１≦ｎ≦Ｎ）の論理と第ｍ（１≦ｍ≦Ｍ）の電流供給能力を有する回路を含む場合には、第ｎの論理セルと第ｍの電流供給セルを用いて回路接続情報及びレイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

To realize two-dimensional distribution of the ion implantation amount in a surface in response to a shape corresponding to a non-uniform pattern in the surface, which is likely to be generated in a process of utilizing plasma and in an annealing process when ion implantation is performed without using step rotation of a wafer.例文帳に追加

ウエハのステップ回転を用いることなくイオン注入を行う場合に、プラズマを利用した工程及びアニール工程で発生しやすい面内不均一パターンに対応した形状に対応した２次元イオン注入量面内分布を実現する。 - 特許庁

The surface position control for the substrate following the detection of the position information on the substrate surface, and frequency response characteristics are executed, while permitting the mask and the substrate to be moved in a synchronous fashion, and a mask pattern is transferred to each shot region which is to be an object of exposure (in step 425).例文帳に追加

そして、マスクと基板とが同期移動されつつ、基板表面の位置情報の検出及び周波数応答特性に従った基板の面位置制御が実行され、露光対象となる各ショット領域にマスクパターンがそれぞれ転写される（ステップ４２５）。 - 特許庁

To configure a mount frame, having an adhesive tape joined over a surface of a wafer where a circuit pattern is formed and a ring frame, such that the adhesive tape is rejoined to a wafer back surface side and an adhesive tape on the front surface side is peeled before conveyance to a dicing step.例文帳に追加

ウエハの回路パターンの形成された表面とリングフレームとにわたって粘着テープを貼付けて成るマウントフレームにおいて、ウエハ裏面側に粘着テープを貼り直すとともに、表面側の粘着テープを剥離してダイシング工程に搬送可能な状態にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium preventing deterioration of a substrate surface in a manufacturing step, suppressing variation of worked shape and a loss time until discharge is stabilized and having a stable worked pattern shape and excellent reliability.例文帳に追加

製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After a positive type resist is coated on a test substrate and it is brought into a focus by using a mask original plate for a test pattern to expose at a plurality of parts, development is carried out to form the test patterns composed of remaining patterns at the plurality of parts on the test substrate, respectively (step S11).例文帳に追加

テスト基板上にポジ型レジストを塗布し、テストパターン用マスク原版を用いてフォーカスを振って複数個所に露光した後、現像を行なって、テスト基板上の複数個所にそれぞれ残しパターンからなるテストパターンを形成する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

A wiring pattern is formed on a flexible insulation film and it is covered with a second flexible insulation film in a manner that an electrode pad may be exposed, and this step is repeated for required times to form a wiring conductor, and then the coil is connected with the electrode pad of the wiring conductor.例文帳に追加

可撓性絶縁膜上に配線パターンを形成て電極パッドが露出するように第２の可撓性絶縁膜で覆い、この工程を所要回数繰り返して配線導体を製造し、この配線導体の電極パッドにコイルを電気的に接続する。 - 特許庁

In the developing step, part of the conductive layer 20 is exposed and a contact hole 27 is formed in the inorganic insulating layer 22 by removing an area exposed from the resist pattern 30B' within the inorganic insulating layer 23 using the developer as an etching solution.例文帳に追加

現像工程では、この現像液をエッチング液として用いて、無機絶縁層２３の内のレジストパターン３０Ｂ’から露出した領域を除去することによって導電層２０の一部を露出させて、無機絶縁層２２にコンタクトホール２７を形成する。 - 特許庁

To restrict the occurrence of a large dead space located on the light receiving surface of a solar energy module with the shade of the solar energy module located at the upper side of the roof flow direction relative to the solar cell modules laid to a step pattern on the roof surface of the house.例文帳に追加

住宅の屋根面に段葺きされる太陽電池モジュールに対し、屋根の流れ方向の上側に位置する太陽エネルギモジュールの影が下側の太陽エネルギモジュールの受光面上に位置して大きなデッドスペースが生じてしまうことを抑制する。 - 特許庁

A controller calculates fluctuation information of wavefront aberration of an optical system accompanying irradiation with an energy beam (step 222), and calculates adjustment data of the optical system based on the calculated fluctuation information of the wavefront aberration and information about a pattern (steps 208 to 216).例文帳に追加

制御装置が、エネルギビームの照射に伴う光学系の波面収差の変動情報を算出（ステップ２２２）、その算出された波面収差の変動情報と、パターンに関する情報とに基づいて、光学系の調整データを算出する（ステップ２０８〜２１６）。 - 特許庁

Changing the pattern of the marker, providing a step or a tilt to the mount of the marker, and changing the lightness of the marker or the light source corresponding to the reading operation can distinguish the lightness from other lightness to prevent wrong detection and missing detection of a fault in the exclusive light source.例文帳に追加

マーカ部の模様や取付け方に段差や傾斜をもたせること、さらには読取り動作と対応してマーカあるいは光源の明るさに変化をつけることにより、他の明るさと区別し専用光源の異常について誤検知と検知漏れを防止する。 - 特許庁

In the step S3, when a change in number of customers is input from a customer bracket input device provided in a circular sushi counter shop, a pattern of kinds and amounts of sushis according to the input number of customers is extracted from a storage part of the circular sushi counter management system.例文帳に追加

ステップＳ３において、回転ずし店舗に設けられた客層入力装置より、客数の変化が入力されると、ステップＳ５で、回転ずし管理システムの記憶部から、入力された客数に応じたすしの種類および量のパターンが抽出される。 - 特許庁

In the first step, a first resin is interposed between a first stamper having, in its transfer surface, pattern-shaped recessed parts corresponding to first magnetic parts of a plurality of servo regions in a BPM to be manufactured and a magnetic film 5 and the first stamper is pushed to the first resin.例文帳に追加

第１工程では、製造目的のＢＰＭにおける複数のサーボ領域の第１磁性部に対応したパターン形状の凹部を転写面に伴う第１スタンパと磁性膜５の間に第１樹脂を介在させて第１スタンパを第１樹脂に押し付ける。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a thin film pattern, in which the performance in removal of residues after laser beam machining or depositions on a substrate is enhanced, a poor thin film is prevented from being generated by preventing the removed materials from being stuck again on the substrate and a step to manufacture the thin film is simplified.例文帳に追加

レーザ加工残渣または基板付着物の除去性能の向上と、除去物の基板への再付着を防止して薄膜の不良発生の防止を図り、さらに製造工程の簡素化を図った薄膜パターン形成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

Uneven deflection of the upper surface of the top plate of the step part 3a is eliminated by the reinforcement pipe or the reinforcement bar to give the feeling of stability, storage of rain is eliminated by the inclination of the upper surface of the top plate, and the excellent slip-proof effect is demonstrated by the uneven pattern.例文帳に追加

補強パイプ又は補強棒で踏台部３ａの天板上面の撓みをベコツキを無くして安定感を付与し、天板上面の傾斜により雨水の滞溜をなくすと共に、凹凸模様によって良好な滑り止め作用を発揮させる。 - 特許庁

The method comprises a step of forming a ceramic pattern 5 by depositing ceramic paste which includes a solvent and a caking additive formed of at least a mixture of ceramic powder, a polymer of low polymerization and a polymer of high polymerization, between conductor patterns 3 on a ceramic green sheet 1.例文帳に追加

セラミックグリーンシート１上の導体パターン３間に、少なくともセラミック粉末、低重合度の高分子と高重合度の高分子との混合物からなる粘結剤および溶剤とを含有するセラミックペーストを塗布して形成されたセラミックパターン５を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric paste for printing which is suitable for thinly forming a margin pattern layer for absorbing a step difference between internal electrodes by a printing method in a manufacturing method of laminated ceramic components such as a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック部品の製造方法に際して、内部電極間の段差を吸収するための余白パターン層を印刷法により薄く形成するのに適した印刷用誘電体ペーストを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a metallic wiring of a semiconductor element using a titanium aluminum nitride anti-reflection film for preventing reflection effectively and forming a minute metallic wiring pattern more accurately in an exposing step with short-wavelength light like DUV.例文帳に追加

ＤＵＶのような短い波長の光で実施する露光工程で效果的に反射を防止して微細金属配線パターンをより正確に形成できる、チタニウムアルミニウムナイトライド反射防止膜を利用した半導体素子の金属配線の形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board capable of simplifying a manufacturing step and achieving a fine circuit pattern by simultaneously forming circuit patterns on both sides of a base substrate by adopting trenches to the both sides of the base substrate.例文帳に追加

ベース基板の両面にトレンチを形成することにより、両面に回路パターンを同時に形成することができるため、製造工程を単純化することができるとともに、微細回路パターンを実現することができるプリント基板の製造方法の提供。 - 特許庁

A second step patterns a second resist layer with the image of the gate pads and local interconnect and then etching the polysilicon with the pattern of the gate pads and local interconnect, thereby reducing the number of diffraction and other cross-talk from different exposed areas.例文帳に追加

第二の工程で、ゲートパッドと局所相互接続との画像で第二のレジスト層をパターン形成し、次にゲートパッドと局所相互接続とのパターンで多結晶シリコンをエッチングし、それによって異なる露光区域からの回折およびその他のクロストークの数を減らす。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and electronic equipment having improved yields by equipping a conductive pattern formed appropriately without any step caused disconnection from the upper portion to the lower portion in a high stepped part, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

高い段差の上方から下方に掛けて段切れすることなく良好にパターン形成された導電性パターンを備えたことにより歩留まりの向上が図られた半導体装置および電子機器、さらには半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gradation photomask substrate on which a fine pattern can be formed with high precision by wet etching of high productivity while an etching solution and manufacturing steps such as a film forming step and a photoprocess are reduced as much as possible, the gradation photomask, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

エッチング液、成膜工程、フォトプロセス等の製造工程をできるだけ少なくして、生産性の高い湿式エッチングにより微細なパターンを高精度に形成可能な階調フォトマスク基板及び階調フォトマスク、並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

It is desirable that the linear patterns are formed after the bulge-inducing patterns are formed, and therefore, the method may further involve the step for forming bulge-confirming patterns for confirming the bulge generation positions by previously applying droplets of the composition to regions other than the pattern formation regions.例文帳に追加

バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 - 特許庁

When the notice flag YF is set, the notice performance number F2 is reset to control execution of the jackpot notice in the next game performance by determining a performance content pattern without jackpot notice (step S51, S53).例文帳に追加

そして、統括制御基板は、予告フラグＹＦが設定されている場合、予告演出回数Ｆ２をリセットし、大当り予告なしの演出内容パターンを決定することにより（ステップＳ５１，Ｓ５３）、次回の遊技演出における大当り予告の実行を規制する。 - 特許庁

When the value of the broken display state flag is other than '0' (step S462; No), the setting in a preceding special pattern game is used as intact for the decoration figures for the big wins, decoration figures for ready to win and decoration figures for varying the display state.例文帳に追加

また、破砕表示状態フラグの値が「０」以外のときには（ステップＳ４６２；Ｎｏ）、大当り用の飾り図柄、リーチ用の飾り図柄、及び表示状態を変化させる飾り図柄の設定について、前回の特図ゲームにおける設定をそのまま使用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board for COF by which fine wiring can be formed as well as to provide a photosensitive resin laminate in which inclusion of air in a laminating step is suppressed, little abnormality in a resist and a conductor pattern occurs, and an edge fusion is reduced.例文帳に追加

本発明は、ラミエアーを抑制し、レジスト・導体パターン異常の発生が少なく、エッジフューズが低減さる感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、微細配線形成可能なＣＯＦ用配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A method for forming the wiring pattern includes a step (A) of dropping a droplet having a diameter smaller than the first width and larger than second width onto the first area to form the conductive material layer covering both first and second areas.例文帳に追加

そして、配線パターン形成方法は、前記第１の幅以下かつ前記第２の幅以上の直径の液滴を前記第１領域に向けて吐出して、前記第１領域と前記第２領域とを覆う前記導電性材料層を形成するステップ（Ａ）を含む。 - 特許庁

To provide an imprint mold structure having high releasability, an imprint method that reduces the breakage of a pattern transferred to a resist in releasing the mold from the resist after the transferring step, a magnetic recording medium having improved signal quality, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

剥離性が高いインプリント用モールド構造体、転写工程後にレジストからモールドを剥離する際、レジストに転写されたパターンの破損を低減するインプリント方法、並びに信号品位を向上させた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

When the frequency N of varying the pattern is affirmatively above the specified value, a high probability flag Fg and the value of the frequency N of varying are both reset to '0' (steps S540-S550) while a processing is executed to return a yes/no judging value to '1' only (step S560).例文帳に追加

図柄変動回数Ｎが所定値Ｍ以上との肯定判断が為されると、高確率フラグＦg及び変動回数Ｎの値が共に「０」にリセットされると共に（ステップＳ５４０〜Ｓ５５０）、前記当否判定値を「１」のみに戻す処理が実行される（ステップＳ５６０）。 - 特許庁

To suppress a coverage defect of a reflective pixel electrode which is caused at a step part at a pattern end of a ground metal film covering a contact hole formed in an inter-layer insulating film by suppressing degassing from the inter-layer insulating film in a translucent type liquid crystal display device.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置において、層間絶縁膜からの脱ガスを抑制し、層間絶縁膜に設けられたコンタクトホールを覆う下地金属膜のパターン端の段差部において発生していた反射画素電極のカバレッジ不良を抑制する。 - 特許庁