「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stamper for making optical recording media which utilizes a negative type resist permitting the pattern exposure suitable for a higher recording density, eliminates the need for a transfer process step to a stamper for molding and is excellent in productivity.例文帳に追加

高記録密度化に適したパターン露光を行い得るネガ型レジストを利用し、且つ成形用スタンパーへの転写工程を不要とし、生産性に優れた光記録媒体作製用スタンパーを提供する。 - 特許庁

To improve a wiring density, to improve an opening positional accuracy, to improve reliability and to improve the yield of a pattern plating step in manufacture of a flexible printed circuit board of a double access type having a one-side conductor circuit.例文帳に追加

片面導体回路を有するダブルアクセスタイプのフレキシブルプリント配線板の製造において、配線密度の向上、開口位置精度の向上、信頼性向上およびパターンめっき工程の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

When DC erase processing is started, a system controller 111 controls each part of an optical head part 116, or the like, so as to write a predetermined pattern in a processing target RUB (recording unit block) with predetermined peak power in step S131.例文帳に追加

DCイレース処理を開始すると、システムコントローラ１１１は、ステップＳ１３１において、光学ヘッド部１１６等の各部を制御して、処理対象RUBに所定のパターンを所定のピークパワーで書き込み（ライト）させる。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

The HLAC feature quantity extracting method includes: a step of mapping one dimensional signal in a time-frequency plane; a step of accumulating the HLAC by moving a two dimensional local mask pattern in a block region for each segmented block by dividing its time axis and frequency axis; and a step of extracting and combining each term from the HLAC feature quantity calculated from blocks which are lined up along the frequency axis.例文帳に追加

１次元信号を時間−周波数平面に写像するステップ、その時間軸及び周波数軸を分割して区分けされたブロック毎に、その領域内で２次元局所マスクパターンを移動させてＨＬＡＣを累積するステップ及び周波数軸に沿って並ぶブロックから求めたＨＬＡＣ特徴量から各次数項を抜き出して結合するステップを含むＨＬＡＣ特徴量の抽出方法 - 特許庁

The method for forming laminating patterns comprises a first step of printing a part except a predetermined pattern with an ink composition containing an aqueous solvent type resin on a base, a second step of laminating two or more layers of a coating agent composition permeable in an aqueous solvent with a component different from the ink composition, and a third step of removing the composition with the solvent.例文帳に追加

基材上に、水性溶剤可溶型樹脂を含有するインキ組成物で所定パターン以外の部分を印刷する第一の工程、該印刷面上に、該インキ組成物と異なる成分で水性溶剤が浸透可能なコーティング剤組成物を２層以上積層する第二の工程、水性溶剤でインキ組成物を除去する第三の工程をこの順に有することを特徴とする積層パターン形成方法。 - 特許庁

The ink jet nozzle comprises a first step for forming an electrically insulating resist pattern 2a on an electroforming supporting substrate 1, a second step for electroforming a basic body of nozzle 3 on the electroforming supporting substrate 1, and a third step for forming an ink repellent treatment layer 4 on the basic body of nozzle 3 by ink repellent surface treatment while connecting the electroforming supporting substrate 1 with the basic body of nozzle 3.例文帳に追加

本発明のインクジェットノズルの製造方法は、電鋳支持基板１上に電気絶縁性のレジストパターン２ａを形成する第１の工程と、電鋳により電鋳支持基板１上にノズル基体３を形成する第２の工程と、電鋳支持基板１とノズル基体３を接続したまま撥インク表面処理によりノズル基体３上に撥インク処理層４を形成する第３の工程とを有する。 - 特許庁

In a step of forming the semiconductor deposition layer 150 having the columnar parts, a predetermined pattern of isolating semiconductor layer 130 is formed in a boundary region of the chip; in a step of forming the embedded insulating layer 120, at least the upper surface of the isolating semiconductor layer 130 is exposed; and in a step of forming the chip, the isolation semiconductor layer 130 is used to realize this isolation.例文帳に追加

そして、柱状部を有する半導体堆積層１５０を形成する工程において、チップの境界領域に所定パターンの分離用半導体層１３０を形成し、埋込み絶縁層１２０を形成する工程において、分離用半導体層１３０の少なくとも上面を露出させ、かつ、チップを形成する工程において、分離用半導体層１３０を用いて前記分離が行われる。 - 特許庁

This dry etching method repeatedly executes a step of generating plasma in a vacuum tank to etch a substrate and a step of sputtering a sold material disposed oppositely to the substrate to form a protective film on the side wall of an etching pattern, wherein a mixed gas obtained by adding a reaction gas for forming a protective film to a noble gas is used as a sputter gas in the protective film forming step.例文帳に追加

本発明のドライエッチング方法は、真空槽内でプラズマを発生させて、基板をエッチングする工程と、基板に対向して配置された固体材料をスパッタして、エッチングパターンの側壁部に保護膜を形成する工程を、交互に繰り返して行うドライエッチング方法であって、保護膜の形成工程では、スパッタガスとして、希ガスに保護膜形成用の反応ガスを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

The method for manufacturing a ferroelectric memory 1000 includes a step (a) wherein a lower electrode layer 20, a ferroelectric layer 30, and a first upper electrode layer 40 are stacked in sequence on a substrate 10; a step (b) to anneal the ferroelectric lamination; and a step (c) to pattern the ferroelectric lamination into a specified shape.例文帳に追加

本発明にかかる強誘電体メモリ１０００の製造方法は、（ａ）基体１０の上方に下部電極層２０、強誘電体層３０、および第１の上部電極層４０を順次積層することにより強誘電体積層体を形成する工程と、（ｂ）前記強誘電体積層体にアニール処理を行う工程と、（ｃ）前記強誘電体積層体を所定の形状にパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

The record mask encoding method which encodes the mask data for recording a predetermined region of image data in N-steps includes an acquisition step for acquiring the mask data, and a formation step for forming index data in which a recording pattern of each pixel is expressed with the code data using the code data of the number of bits smaller than N assigned to the record pattern showing whether the pixel is recorded by what time scanning of the acquired mask data.例文帳に追加

画像データの所定の領域をＮ回に分けて記録するためのマスクデータを符号化する記録マスク符号化方法において、前記マスクデータを取得する取得工程と、前記取得したマスクデータの何回目の走査で画素を記録するかを示す記録パターンに対して割り振られたＮより小さいビット数の符号データを用いて、各画素の記録パターンを前記符号データで表したインデックスデータを生成する生成工程とを有する。 - 特許庁

A pair of structures for relative position measurement formed from the first conductor and the second conductor in laminated wiring is formed in a first conductor pattern forming step for forming first wiring and a portion of second wiring and in a second conductor pattern forming step for forming the second wiring, respectively, and an overlapping state of the structures formed in each forming process is optically detected.例文帳に追加

積層型配線において、前記第１導体、および前記第２導体から形成される相対位置測定用の一対の構造体を、それぞれ第１配線および第２配線の一部を構成する第１導体パターンの形成工程、および第２配線を構成する第２導体パターンの形成工程で形成し、各形成工程で形成される構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for producing the semiconductor substrate includes a step of forming the printed layer by printing a pattern with a coating solution containing copper nano-particles and then a step of forming the pattern of the semiconductor layer by baking the printed layer, wherein the printed layer is baked by exposing the printed layer to the surface-wave plasma generated by an application of a microwave energy under an atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

基材上に、銅ナノ粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成した後、この印刷層を焼成処理してパターン状の半導体層を形成する半導体基板の製造方法であって、酸素を含む雰囲気下、マイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマに前記印刷層を晒すことにより、該印刷層の焼成処理を行うことを特徴とする半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

The overlap evaluation method of the patterns uses an overlap evaluation pattern, acquires an image of the overlap evaluation pattern using electron microscopes 10, 109 (S1), compares the acquired image with layout information in which the overlap evaluation pattern registered in a storage part 111 is to be arranged to calculate the amount and the direction of displacement of each exposure step (S2) and displays an evaluation result (S3).例文帳に追加

重ね合わせ評価パターンを用いるパターンの重ね合わせ評価方法であって、重ね合わせ評価パターンの画像を、電子顕微鏡１０、１０９を用いて取得し（Ｓ１）、取得した画像と、記憶部１１１に登録されていた、重ね合わせ評価パターンが配置されるべきレイアウト情報とを比較して、各露光ステップのずれ量と方向とを算出（Ｓ２）し、評価結果を表示（Ｓ３）する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter substrate by which patterning processes such as pattern exposure and development are performed to form alignment controlling protrusions by using an exposure mask having a pattern exposure region where transmittance is changed stepwise in an alignment controlling protrusion forming step for forming the alignment controlling protrusions by performing the patterning processes such as pattern exposure and development to a transparent photosensitive resin layer.例文帳に追加

透明感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成する配向制御突起形成工程において、段階的に透過率が変化するパターン露光領域を有する露光マスクを用いて、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method for producing a circuit board by pasting a reinforcing plate to one side of a flexible film through a UV-curing organic matter layer, forming a circuit pattern on the other side of the flexible film and then stripping the flexible film having the circuit pattern from the reinforcing plate, the UV-curing organic matter layer is irradiated with UV-rays prior to a step for forming the circuit pattern.例文帳に追加

可撓性フィルムの片面に補強板を紫外線硬化型有機物層を介して貼り合わせ、次いで、該可撓性フィルムの他の面に回路パターンを形成してから、回路パターン付き可撓性フィルムを補強板から剥離する回路基板の製造方法において、該回路パターンを形成する工程の前に該紫外線硬化型有機物層に紫外線を照射することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

According to history information on a driver's driving behavior pattern, an optimum braking operation start point and an optimum vehicle speed at a pre-curve fixed decelerated speed point are set for travel through a curve on a course (Step S1 to S10).例文帳に追加

運転者の運転行動パターンの履歴情報に基づき、進路上の曲路を走行する際の、ブレーキ操作開始地点の適値と減速後曲路手前速度一定地点での車速の適値とを設定する（ステップＳ１〜Ｓ１０）。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alkaline developing solution capable of preventing the occurrence of fixed matter in a developing equipment as an alkaline developing solution for a photoresist for forming a circuit pattern and a photoresist for protection in a step for producing a printed wiring board or the like.例文帳に追加

プリント配線板などの製造工程において回路パターン形成用ホトレジストおよび保護用ホトレジストのアルカリ性現像液において、現像装置内で発生する固着物が防止できるアルカリ性現像液を提供すること。 - 特許庁

In a second step, a first evaluation value for evaluating a degree of the dispersion of the appearance frequency of the phoneme, and a second evaluation value for evaluating a degree of the dispersion of the appearance frequency of the accent pattern in the example sentence of the subset.例文帳に追加

第２ステップでは、子集団の例文について音素の出現頻度の分散の程度を評価する第１の評価値およびアクセントパターンの出現頻度の分散の程度を評価する第２の評価値をそれぞれ求める。 - 特許庁

To provide an external connection structure of a semiconductor package with high reliability by eliminating a step difference between a conductor pattern connected with external connection terminals and a surrounding insulation layer, so as to avoid variations in heights of the external connection terminals.例文帳に追加

外部接続端子が接続する導体パターンと周囲の絶縁層との間に段差をなくして、外部接続端子の高さのばらつきを解消し、信頼性の高い半導体パッケージの外部接続構造を提供する。 - 特許庁

To provide a sealing agent for liquid crystal dropping method which does not cause break of a seal pattern in the case of omitting a temporary curing step by ultraviolet irradiation, and a manufacturing method of liquid crystal display using the sealing agent for liquid crystal dropping method.例文帳に追加

紫外線照射による仮硬化工程を省略してもシールパターンの破れが発生しない液晶滴下工法用シール剤、及び、該液晶滴下工法用シール剤を用いた液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The control part 2 includes an application step setting part 2b which repeats the application action and the drying action more than once so that the desired coating pattern is obtained and which sets the number of times of the application actions and an operation condition of the heating action.例文帳に追加

制御部２は、所望の塗布パターンとなるように、塗布動作と乾燥動作とを複数回繰り返して行い、かつ塗布動作の回数と乾燥動作の動作条件とを設定する塗布工程設定部２ｂを備えている。 - 特許庁

In addition, moving step of a linear actuator for moving the magnetizing head is configured so that, during magnetizing, the head stops and magnetizes one magnetizing pattern on the neodymium metal piece by facing a magnetizing surface of a yoke to the piece for a plurality of times.例文帳に追加

そして、着磁ヘッドを移動させるリニアアクチュエータは、着磁の際には停止すると共に、ネオジム金属片上の一つの着磁パターンをヨークの着磁面が複数回対面して着磁処理するように、リニアアクチュエータの移動ステップを構成した。 - 特許庁

The control means detects a rising edge and a falling edge of the pattern based on the differential profile, and creates mask data of a multi-step structure based on data of the edges and the image data created by the image processing means.例文帳に追加

制御手段は、微分プロファイルを基に検出したパターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成する。 - 特許庁

When it is the variation pattern for executing the relief performance (step S812;Yes), execution timing of the discharge performance is determined to be the execution timing of the relief performance, and the discharge performance is executed instead of the relief performance.例文帳に追加

救済演出を実行する変動パターンである場合（ステップＳ８１２；Ｙｅｓ）、放出演出の実行タイミングを救済演出の実行タイミングに決定し、救済演出に代えて放出演出を実行するようにした。 - 特許庁

Then, when the execution of the step-up notice performance is selected, the game machine executes the notice steps in the plurality of stages in a selected notice performance form in each re-variation display which is executed in a re-variation display pattern.例文帳に追加

そして、ステップアップ予告演出を実行する選択がされたときに、再変動表示パターンで実行される再変動表示の各々において、選択された予告演出態様で複数段階の予告ステップを実行する。 - 特許庁

On an optical disc, a test pattern including a first test mark longer than the shortest mark in the modulation code by one recording unit length and a second test mark longer than the shortest mark by two recording unit lengthes or more is recorded with plural of recording conditions (step S2).例文帳に追加

光ディスクに、変調符号における最短マークより１記録単位長い第１テストマークと、最短マーク長より２記録単位長以上長い第２テストマークとを含むテストパターンを複数の記録条件で記録する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The side wall of a transistor in a circumferential region is protected from plasma etching in a gate etching step by forming a protection pattern 102a in the circumferential region before a tunnel oxide film 103 is formed on the face of a semiconductor substrate 101.例文帳に追加

半導体基板１０１の表面にトンネル酸化膜１０３を形成する前に周辺領域で保護用パターン１０２ａを形成し、ゲートエッチング工程時に周辺領域のトランジスタの側壁をプラズマエッチングから保護する。 - 特許庁

To provide a wiring board and a manufacturing method thereof, and an element mount board and a manufacturing method thereof whereby the low profile and the uniformized thickness of an insulating member of a body to be transferred are attained together with a transfer step of a conductor pattern.例文帳に追加

導体パターンの転写工程時に、合わせて被転写体である絶縁材の薄型且つ厚さの均一化が図れる配線基板及びその製造方法、素子実装基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a key switch that can remove the necessity for arranging numerous apertures for limiting layout of pattern in a switch element in the shape of sheet such as membrane switch, and efficiently cope with poor operation of a cross-linked body in an assembling step.例文帳に追加

メンブレンスイッチ等のシート状スイッチ素子に引き廻しパターンのレイアウトを制約する多数の孔を設ける必要がなく、かつ組立段階でクロスリンク体の動作不良に効率よく対応できる、キースイッチを提供すること。 - 特許庁

When the scanner receives the read instruction, reading of a micro image and reading of the image mark depending on a designated pattern are executed in a step S33 and the read image data and the read image mark information are registered to a RAM of a host computer.例文帳に追加

読み取り指示があるとステップＳ３３において指定パターンに応じたマイクロ画像の読み取りとイメージマークの読み取りを実行し、ホストコンピュータのＲＡＭに読み取り及び画像データ、読み取ったイメージマーク情報を登録する。 - 特許庁

In the crystallization step, the crystallization direction is controlled based on a temperature gradient according to the pattern, and the region R is shifted slightly within crystallization range with a single irradiation to repeat the irradiation.例文帳に追加

結晶化工程では、明暗のパタンに応じた温度勾配を利用して結晶化の方向を制御すると共に、一回の照射で結晶化する範囲以内で照射領域Ｒを少しづつずらして繰り返し照射を行なう。 - 特許庁

When number of received orders regarding one commodity shelf exceeds an operation limit quantity, the whole operation quantity is distributed in a distribution pattern B that a sorting operation quantity exceeding the operation limit quantity is distributed to other operators (step S22).例文帳に追加

そして、一の商品棚に係る受注個数が作業限度量を超える場合は、作業限度量を超えた分の仕分け作業量を他の作業員に配分する配分パターンＢで全体作業量を配分する（ステップＳ２２）。 - 特許庁

When thick line regions and thin line regions exist at inspection of a resist pattern 3a formed on the surface of a wafer for size distribution (step ST14), the scanning waveform of an ion implantation unit on the surface of the wafer is controlled according to information on the size distribution.例文帳に追加

ウエハ面内のレジストパターン３ａの寸法分布の検査の際に（ステップＳＴ１４）、太い領域と細い領域とがあった場合に、その寸法分布情報に応じて、イオン注入機のウエハ面内スキャン波形を制御する。 - 特許庁

The method for manufacturing the resin film with the periodic structure formed comprises a step of contracting a resin film having a periodic dot pattern.例文帳に追加

また、周期的な微細凹凸を有する樹脂フィルムを形成する方法において、樹脂フィルムの材質や、樹脂フィルムに周期的な構造を形成する材質を、多様な材料から選択することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes a step of forming the magnetically isolated magnetic recording pattern by reacting part of a magnetic layer formed on the nonmagnetic substrate with ozone and reducing the magnetic characteristics of a region of the magnetic layer.例文帳に追加

この製造方法は、磁気記録パターンの形成を、磁性層とオゾンとの反応により磁性層の磁気特性を部分的に非磁性化等により磁気特性を低下させ、その低下させた領域により磁性層を分離する方法である。 - 特許庁

The high-quality pattern is provided because the homopolymer included in the monomer having the functions of becoming alkali-soluble by leaving a protective group of an ester by an acid, as an impurity is removed by the development by an alkali solution at a step for producing a semiconductor.例文帳に追加

酸によりエステルの保護基が脱離しアルカリ可溶となる機能を持つモノマーに不純物として含まれるホモポリマーは半導体製造工程でのアルカリ液での現像により除かれるため高品位のパターンが得られる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation and having such a development margin that desirable pattern configuration is formed even when the optimum development time is exceeded in the development step.例文帳に追加

放射線に対する高い感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the dual gate forming method of a semiconductor device for removing a photoresist film pattern for use as an ion implantation mask film without a residue and preventing a water mark generated in a cleaning step for the removal of a natural oxide film.例文帳に追加

イオン注入マスク膜として用いられるフォトレジスト膜パターンを残留物なしに除去し、自然酸化膜除去のための洗浄工程で発生するウォーターマークを防止する半導体素子のデュアルゲート形成方法を提供する。 - 特許庁

In addition, before the working with the working roller, the rotational origin of the working roller is automatically detected and the working roller during its ascent is rotated at the step (S 315) to a pattern located at the position rotated by the predetermined angle from the origin.例文帳に追加

そして、加工ローラによる加工の前に、加工ローラの回転の原点が自動的に検出され、その原点から所定角度回転した位置の模様に、上昇中の加工ローラが自動的に回転される（Ｓ３１５）。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask with a light shielding frame disposed on a halftone material film around an effective region including a main pattern without adding a photomask producing step and to provide a method for producing the phase shifting mask.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程を増やさないで、メインパターンを含む有効領域周辺のハーフトーン材料膜上に遮光性の枠を設けたハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus, a pulse pattern of compression/decompression can be applied to each patient at each different step of treatment, and it herewith conduces the improvement of treatment efficiency in association with the optimization of blood flow and avoidance of the damage inside of the body.例文帳に追加

このようにして、圧迫／減圧のパルスパターンを治療の異なる段階で個々の患者に適応させることができ、これにより、血流の最適化と身体内部損傷の回避の両方に関する治療効果の改善が導かれる。 - 特許庁

Then, while changing the intensity of the electric field actually, the sample where a pattern which is a length measuring object is formed is irradiated with an electron beam, and the quantity of the electrons emitted from the sample is detected by the electron detector (step S4).例文帳に追加

そして、実際に、電界の強度を変化させながら、測長の対象であるパターンが形成された試料に電子線を照射し、電子検出器により試料から放出された電子の量を検出する（ステップＳ４）。 - 特許庁