「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing a chip LED light emitting device comprises a step of forming a through hole board having a through hole part and mounting a chip LED on an electrode pattern and a reflecting plate covering an LED part including the pattern on the board, having a recess 7a formed to draw in its shape a part of a parabolic line and adhering a buffer material.例文帳に追加

スルーホール部を有し、電極パターン上にチップＬＥＤを搭載したスルーホール基板およびスルーホール基板上の電極パターンを含めたチップＬＥＤ部分を覆い、その形状が放物線の一部を描くように形成した凹所７ａを有し、緩衝材を貼り付けた反射板を作成する。 - 特許庁

The method is characterized in that: (a) a material is directed to a layer of a pattern generator device to form a coating on the layer; and (b) at least a part of the material is prevented from reaching the layer in the step (a) so as to generate a trapezoidal profile of reflected light from the coating on the pattern generator.例文帳に追加

（ａ）材料をパターンジェネレータ装置の層に向かって、該層上にコーティングを形成するように方向付け、（ｂ）パターンジェネレータ上のコーティングから反射する光の形状が台形になるようにステップ（ａ）の間に少なくとも前記材料の一部が層に到達するのを妨げることを特徴とする、方法。 - 特許庁

An output level when a level (considered as a midpoint (J1+J2)/2 here) between the actual measurement level J1 of the pattern image G1 with the highest density and the actual measurement level J2 of the pattern image G2 with the next highest density is considered as an input level is associated as K1 based on the correspondence relation (a step S6).例文帳に追加

対応関係に基づいて、最も濃度が高いパターン画像Ｇ１の実測レベルＪ１と次に濃度が高いパターン画像Ｇ２に対する実測レベルＪ２との間のレベル（ここでは中点（Ｊ１＋Ｊ２）／２とする）を入力レベルとした場合の出力レベルをＫ１として関連付ける（ステップＳ６）。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical device including a step of forming a pattern having ridge lines on a raw material by using a die, the raw material is softened and then the raw material in the softened state is pressurized to such a degree that the raw material does not intrude into the deepest part of the die corresponding to the ridge line so as to form the pattern.例文帳に追加

型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形する。 - 特許庁

The method further includes a step of setting to the change pattern for correcting the basic torque Tmbase so as to suppress the rotation of the engine when the crank angle θ is in a position exceeding a target stopping position, and setting the change pattern for correcting the basic torque Tmbase so as to accelerate the rotation of the engine when at a position not reaching the target stopping position.例文帳に追加

クランク角θが目標停止位置を超える位置である場合にはエンジンの回転を抑制するように基本トルクＴｍｂａｓｅを補正する変動パターンとし、目標停止位置に届かない位置である場合にはエンジンの回転を促進するように基本トルクＴｍｂａｓｅを補正する変動パターンとする。 - 特許庁

In the second stage, the pulse position information pertaining to each pulse width is generated (step S18), based on the first halftone data, using the pulse width-to-pulse position table where the pulse position to each pulse width value is written, as to the same pattern matrix as was used in the first stage and each reference No. in the pattern matrix.例文帳に追加

第２段階では、第１段階で用いたと同じパターンマトリクスと、パターンマトリクスの各参照番号について、各パルス幅値に対するパルス位置が書き込まれたパルス幅値対パルス位置テーブルを用いて、第１ハーフトーンデータに基づいて、各パルス幅値についてのパルス位置情報を生成する（ステップＳ１８）。 - 特許庁

To provide a method of forming a minute resist layer using a thin and uniform photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a metal pattern including: forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate, forming a plating resist layer through a pattern exposing and developing steps, and then performing a plating step.例文帳に追加

基板上に光架橋性樹脂層を形成し、パターンの露光工程、現像工程を経て、めっきレジスト層を形成した後にめっき工程を行う金属パターンの作製方法において、膜厚が薄く、均一な光架橋性樹脂層を用いて、微細なめっきレジスト層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the generation of nasty smell originated from a drying oil in a baking step of a coating material when manifesting a crepe-pattern by coating the crepe-pattern coating material obtained by formulating a curing agent resin and a curing catalyst with an alkyd resin using the drying oil such as tung oil on a metal can for storing cosmetics and foods.例文帳に追加

桐油などの乾性油を使用したアルキド樹脂に硬化剤樹脂と硬化触媒を配合したちぢみ塗料を、化粧料や食品の収納用金属缶に塗布して、ちぢみ模様を発現する際に、塗料の焼付け過程において乾性油に由来する異臭の発生を低減する。 - 特許庁

Then, the printer control unit detects a pattern for detecting displacement on the intermediate transfer belt, and corrects the detection result based on the inclination information of the optical spot array relative to the main direction (step S311).例文帳に追加

そして、プリンタ制御装置は、中間転写ベルト上の位置ずれ検出用パターンを検出し、その検出結果を、主方向に対する光スポット列の傾き情報に基づいて補正する（ステップＳ３１１）。 - 特許庁

In the step S12, a reproduction pattern showing which part to be skipped without being reproduced and which part to be reproduced is determined in the whole reproducing time of selected digital encoded data on the basis of a features file.例文帳に追加

ステップＳ１２において、特徴点ファイルに基づき、選択されたディジタル符号化データの全再生時間のうち、どの部分を再生せずにスキップし、どの部分を再生するかを示す再生パターンが決定される。 - 特許庁

The step difference accommodation layer 31 is formed at corners 53, 54 of the one chip area Q1 of the green sheet 11 opposite to a lead-out part 205 of the pattern 20.例文帳に追加

本発明は、セラミックグリーンシート１１上の一チップ領域Ｑ１のうち、少なくとも、内部電極パターン２０の引き出し部２０５と反対側の隅部５３、５４に段差吸収層３１を形成することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with high resolution, excellent in dry etching resistance, with reduced wear of the film and suitably used in a method for forming a resist pattern via an exposing step using a low-energy electron beam.例文帳に追加

高解像性で、ドライエッチング耐性に優れ、膜減りの低減された、低加速電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に好適に用いられるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The variation pattern of the potential in the evaluation objective delivery pulse is evaluated based on a relation between the interval from the evaluation objective delivery pulse to the following delivery pulse and the flying velocity of the liquid droplet, in the evaluation step.例文帳に追加

評価ステップでは、評価対象吐出パルスから後行吐出パルスまでの間隔と液体滴の飛行速度の関係に基づき、評価対象吐出パルスにおける電位の変化パターンを評価する。 - 特許庁

After that, with the start of re-fluctuation, the hammer is returned to its original position and after the additional lapse of the fluctuating period of re-fluctuation, the special pattern is stopped and displayed in a fluctuating area (step S102, S104, S109).例文帳に追加

その後、再変動を始めるとともにハンマーを原位置に復帰させ、さらに再変動の変動期間を経過すると変動領域に特別図柄を停止して表示する（ステップＳ１０２，Ｓ１０４，Ｓ１０９）。 - 特許庁

In step S104, information related to a surface structure of an intestinal tract or the like such as a gyrate pattern is decided based on the extracted luminance signal, and the possibility that the target pixel is the lesion part is evaluated.例文帳に追加

ステップＳ１０４において、脳回転状の模様など、腸管等における表面構造に関わる情報を抽出された輝度信号に基づき判定し、対象画素が病変部である可能性を評価する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric circuit carries out a step of printing a fluid containing a circuit pattern forming material, and thereafter heating the porous layer to cover at least a part of the pores.例文帳に追加

本発明の電気回路の製造方法は、前記基板の多孔質層に、回路パターン形成材料を含む流動体を印刷した後、多孔質層を加熱して孔の少なくとも一部を塞ぐ工程を行う。 - 特許庁

A method for forming an organic thin film comprises a step for forming an organic membrane having an end structure expressed in a formula (1) on a substrate, and transforming it into a chemical structure expressed in a formula (2) according to a required pattern shape, where R in the formula (2) is a hydrocarbon group.例文帳に追加

基板上に、下記式（１）で示される化学構造を末端に有する有機膜を形成し、所望のパターン形状に応じ、下記式（２）で示される化学構造に変換して、有機薄膜の形成をする。 - 特許庁

To provide a coil device which effectively utilizes a conductor pattern of a printed board while being able to flow a large current even if the winding number of coils is increased, and reduces its size while simplifying a production step.例文帳に追加

プリント基板の導体パターンを有効利用しつつ、コイルの巻数を多くしても大電流を流すことが可能であり、かつ小型化しつつ製造工程を簡略化することが可能なコイル装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer peripheral aligner which can perform accurate step-like exposures along an outer edge of a circuit pattern for a semiconductor wafer peripheral part and can realize easy maintenance and inspection of an exposure light projecting part and a wafer mounting stand.例文帳に追加

半導体ウエハ周辺部を回路パターンの外縁に沿って正確に階段状露光することができ、露光光出射部やウエハ載置台の保守点検が容易なウエハ周辺露光装置を提供する。 - 特許庁

Then, the sum total of the angle change quantities calculated with respect to the workpiece is compared with the sum total of the angle change quantifies calculated with respect to a predetermined standard pattern in the flaw detection step of detecting the flaw.例文帳に追加

そして、欠陥検出工程により、被検査物に対して算出される前記角度変化量の総和と、所定の基準パターンに対して算出される角度変化量の総和とを比較して、欠陥を検出する。 - 特許庁

An instance having the hierarchical structure is given to the newly inserted cell by hierarchical structure instance providing processing in Step S3, and the flat layout pattern data 103 (already optimized), which have been given the hierarchical structure instances, are generated.例文帳に追加

ステップＳ３における階層構造インスタンス付与処理により、新規挿入セルに対して、階層構造を持つインスタンスが付与され階層構造インスタンス付与後のフラットなレイアウトパターンデータ（最適化済）１０３が生成される。 - 特許庁

To provide a registering method of a plate in screen printing and a device therefor which facilitate rough registering at the initial step in the operation for registering a printing object with a printing pattern of a screen.例文帳に追加

印刷被写体とスクリーンの印刷パターンの位置合せ作業において、段取り初期の粗位置合せを容易に行なうことができるスクリーン印刷における版の位置合せ方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide: a convenient and economical metal plate press-forming step with a fine line pattern, capable of forming a fine line simultaneously with forming a housing; a press-formed metal housing thereby; and a method of forming a fine line of a forming die.例文帳に追加

筐体成形と同時に細線を形成できる便利かつ経済的な金属微細成形工程と、それにより作成された加圧成形金属筐体と、成形型の細線を形成する方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, when the step is formed on the hard mask layer, by making the hard mask layer remain so as to cover the surface of the substrate, the charging (charge up) of the substrate can be suppressed in the plurality of stages of pattern formation.例文帳に追加

また、ハードマスク層に段差を形成するにあたり、ハードマスク層を基板表面を覆うように残存させることにより、複数段のパターン形成において、基板の帯電（チャージアップ）を抑制することが出来る。 - 特許庁

The area is calculated by a highly precise model, when the minimum dimension of the mask pattern is lower than a prescribed threshold value set in the vicinity of an exposure wavelength, and the area other than the area is calculated by a fast model (STEP 5).例文帳に追加

マスクパターンの最小寸法が露光波長付近で設定される所定のしきい値を下回る場合に、その領域を高精度なモデルで計算し、それ以外の領域を高速なモデルで計算する（ＳＴＥＰ５）。 - 特許庁

To provide a resist application method for applying a resist to the whole of a surface of a semiconductor wafer having a high step pattern without causing application irregularity; and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、高段差パターンを有する半導体ウエハの表面に、塗布ムラなく全面にレジストを塗布することができるレジスト塗布方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a wiring board which has a low contact resistance between a circuit pattern and a bump and allows the manufacturing step and the manufacturing cost to be reduced, a manufacturing method thereof, and a composite wiring board.例文帳に追加

回路パターンとバンプとの間の接触抵抗が低く、製造工程の短縮及び製造コストの低減を図ることが可能な配線基板及びその製造方法並びに複合配線基板を提供する。 - 特許庁

When an alignment mark for positioning is marked on a glass substrate 2 before a step of forming a pattern on the glass substrate 2, an alignment mark is marked on the glass substrate 2 by use of a thermal printer 9.例文帳に追加

ガラス基板２上にパターンを形成する工程を実行する前に、ガラス基板２上に位置決め用のアライメントマークを刻印するに際して、サーマルプリンタ９を用いてアライメントマークをガラス基板２上に刻印する。 - 特許庁

The methods include the step of modeling the optical and electrical properties of the semiconductor, the gridlines, and the TCC to determine a pattern for the TCC that results in a low relative power loss for the photovoltaic cell.例文帳に追加

この方法は、光電池の比較的低い電力損失を結果として生じるＴＣＣのパターンを決定するために、半導体、グリッド線およびＴＣＣの光学的、電気的特性をモデル化するステップを含む。 - 特許庁

A replica signal generating section 105 and a propagation parameter estimating section 106 are configured to repeatedly estimate the propagation parameter of the arrival wave which arrives at an array antenna 101, at the same resolution as an angle step of the antenna pattern table.例文帳に追加

レプリカ信号作成部１０５および伝搬パラメータ推定部１０６は、アレーアンテナ１０１に到来する到来波の伝搬パラメータをアンテナパターンテーブルの角度ステップと同じ分解能で繰り返し推定する。 - 特許庁

To provide a multilayer printed circuit substrate which can form a highly fine pattern, which can be formed in a simple step and which does not have a problem of a waste liquid treatment.例文帳に追加

本発明は、高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ簡便な工程で形成ができ、さらに廃液処理といった問題のない多層配線基板を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The arrangement pattern 37 is applied with a voltage of 42V from a battery via an external connection terminal T1 and that voltage is applied via a high-voltage connection terminal T2 to a motor drive circuit section 38 and a step-down circuit section 39.例文帳に追加

配置パターン３７は外部接続端子Ｔ１を介してバッテリから４２Ｖの電圧を印加し、その電圧を高電圧接続端子Ｔ２を介してモータ駆動回路部３８及び降圧回路部３９に印加する。 - 特許庁

To provide a copper-clad laminate board in which a copper-plating film is formed without entirely using a heat resistant adhesive or the like, a fault does not frequently occur in a postprocessing step and which can form a fine wiring pattern.例文帳に追加

耐熱性接着剤等を全く使用することなく銅メッキ膜が形成されており、微細な配線パタ−ンが可能で後加工工程で不具合が発生することの少ない銅張り積層基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic lamination wherein step-difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated, and imperfect adhesion between the ceramic green sheets and delamination after baking can be prevented.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、セラミックグリーンシート間の密着不良並びに焼成後のデラミネーションを防止できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

In the step S201, a divided pattern selection unit 223 determines whether or not the number of users who are designated as the users (for example, the number of photographing persons) is larger than a predetermined number of persons (for example, four persons) which is called as "large number of persons".例文帳に追加

ステップＳ２０１において、分割パターン選択部２２３は、利用者に指定された利用者の人数（例えば撮影人数）が所定の人数（例えば４人）より多い「大人数」であるか否かを判定する。 - 特許庁

As shown by Figure 1(c), a process for forming a wiring 5 which covers the end portion 4a of the contact hole 4 and electrically connects metal wirings by stretching its end portion 5a up to above the step-difference pattern 2 is performed.例文帳に追加

図１（ｃ）に示すように、コンタクトホール４の端部４ａを覆うとともにその端部５ａが段差パターン２の上方まで拡張して金属配線間を電気接続する配線５を形成する工程を行う。 - 特許庁

To provide a phase-change structure which contains a phase-change substance layer pattern of a minute size, having a superior step coverage or gap-fill characteristics for keeping a resistance margin and maintenance characteristic, in HARS (high-aspect-ratio-structure).例文帳に追加

抵抗マージンと維持特性を確保しながら優秀なステップカバレッジ、又は、ギャップフィル特性を有する、微小サイズの相変化物質層パターンをＨＡＲＳ（Ｈｉｇｈ＿Ａｓｐｅｃｔ＿Ｒａｔｉｏ＿Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ、高縦横比構造）内に含む相変化構造物を提供すること。 - 特許庁

The buffer membrane formed by using a polymer composition having the above composition has an ashing property to reduce the step for forming a pattern of a semiconductor element and a capacitor and maximize the process efficiency.例文帳に追加

このような組成を有する高分子組成物で形成されたバッファ膜は半導体素子のパターン及びキャパシタを形成する工程の縮小及び工程効率を極大化させることができるアッシング特性を有する。 - 特許庁

The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加

少なくとも最小特徴サイズＦの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブＦワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁

In a design library construction step, an important portion which affects characteristics on a circuit operation of a macro cell is extracted as design intent information and a corresponding layout portion is extracted as a CP pattern (33).例文帳に追加

設計ライブラリ構築段階において、マクロ・セルの回路動作上で特性に影響する重要箇所を、設計インテント情報として抽出し、対応するレイアウト部分をＣＰパターン（３３）として抽出する。 - 特許庁

To provide a metal wire which has high barrier property to metal such as copper(Cu) even in a groove buried wiring pattern having a high aspect ratio where the high step coverage of a barrier metal cannot be expected, and to provide its information.例文帳に追加

バリアメタルの高いステップカバレッジが期待できない高アスペクト比の溝埋め込み構造配線パターンにおいても、銅（Ｃｕ）などの金属に対して高いバリア性を有する金属配線及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

In the third step, the heat treatment temperature, heat treatment time or heat-up pattern is set according to the quantity of solvent contained in the resist solution, so that the number of defects generated in the resist film can be reduced.例文帳に追加

この第３工程において、レジスト液に含まれる溶剤の量に応じて、熱処理温度または熱処理時間または昇温パターンを設定することによって、レジスト膜に生成する欠陥数を低減させる。 - 特許庁

To facilitate a repairing step of a semiconductor element by connecting a semiconductor element having salient poles such as plated bumps, gold wire bumps or the like to a circuit board having a metal pattern via a connecting member.例文帳に追加

回路基板から半導体素子を引き剥がす際、接続部材を回路基板側に残存しにくくして接続部材を除去し易くし、半導体素子のリペア工程を容易にできる半導体装置の実装構造。 - 特許庁

When the operator presses the start button 53 and a CPU 16 determines that a start condition is established, the CPU 16 operates and the start button 53 blinks with an illumination pattern (state) different from those of other buttons (step 3).例文帳に追加

作業者によってスタートボタン５３が押され、ＣＰＵ１６が起動条件成立していると判断すると、ＣＰＵ１６は動作し、スタートボタン５３が他のボタンと点灯パターン（状態）が異なり点滅する（ステップ３）。 - 特許庁

When a continuous prediction rendition is performed, a sub-CPU decides backward the figure pattern derived at the unit of each variation cycle per step in order toward the first variation cycle from the last variation cycle.例文帳に追加

サブＣＰＵは、連続予告演出が実行される場合、最終回の変動サイクルから初回の変動サイクルに向かって１段階ずつ順に各変動サイクル単位で導出する図柄を遡って決定する。 - 特許庁