「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.例文帳に追加

高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Note data NDe having a pitch the same as that of note data NDp, having a pitch name the same as that of it and an octave different from it, or separated by a set step is superposedly generated by a performance data adding function Ne on the note data NDp of an arpeggio performance AR or a pattern performance PS.例文帳に追加

この発明では、演奏データ付加機能（ＮＥ）により、アルペジオ演奏（ＡＲ）又はパターン演奏（ＰＳ）のノートデータ（ＮＤｐ）に対して、同じ音高であるか、同じ音名でしかもオクターブが異なるか又は設定した音程だけ離れているノートデータ（ＮＤｅ）を重ねて発生させる。 - 特許庁

To prevent an undercut of a lower wiring layer caused at a bottom of an opening when the opening down to the lower wiring layer is formed in an oxide silicon-based insulating film with an etching gas containing fluorocarbon based gas by using a mask of photoresist film pattern, and an ashing step is carried out with oxide plasma.例文帳に追加

フォトレジスト膜パターンをマスクにしてフルオロカーボン系ガスを含んだエッチングガスにより下層配線層に達する開口部を酸化シリコン系絶縁膜に開口部を形成し、酸素プラズマによるアッチングを行なうときに開口部底部における下層配線層のアンダー・カット部の形成を抑制する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin that even if developing time exceeds the optimum time in a development step, a good pattern profile can be formed, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The CPU of a microcomputer for display control discriminates whether a defined command is received or not (step S262) in decoration pattern performance setting processing to be carried out after a prescribed time (33 millisecond, concretely) has passed since confirming reception of a varying starting command sent from a main substrate.例文帳に追加

表示制御用マイクロコンピュータのＣＰＵは、主基板から送出される変動開始コマンドの受信を確認してから所定時間（具体的には、３３ミリ秒）が経過した後に実行する飾り図柄演出設定処理において、確定コマンドを受信しているか否かを判別する（ステップＳ２６２）。 - 特許庁

Thus, the first analysis result with respect to an influence of the opening of the pattern and the second analysis result with respect to the strength of a membrane between the patterns are combined, and the complimentary division condition is determined based on an allowable changing quantity and stress concentration (step ST15).例文帳に追加

このように、パターンの開口の影響の観点からの第１の解析およびパターン間のメンブレンの強度の観点からの第２の解析の結果を併用し、許容される変位量および応力集中に基づいて、相補分割条件が決定される（ステップＳＴ１５）。 - 特許庁

The image processing method in the image display comprises a step of shifting pictures by a pattern at a pixel shift frequency characterized in the said frequency is changed for a group of at least one picture depending on a motion degree of the group.例文帳に追加

画像表示器における画像処理の方法であって、あるピクセル移動周波数で、あるパターンによって画像を移動させるステップを有し、前記ピクセル移動周波数は、少なくとも一つの画像を有するグループのために、前記グループの動きの度合いに依存して変化させる。 - 特許庁

The manufacturing method of the multilayer-structured board comprises a process of disposing the electronic component on the surface such that terminals of the electronic component are directed upward, and a first inkjet process of providing a first insulating pattern on the surface so as to embed any step caused by the thickness of the electronic component.例文帳に追加

多層構造基板の製造方法が、電子部品の端子が上側を向くように前記電子部品を表面上に配置する工程と、前記電子部品の厚さに起因する段差を埋めるように第１絶縁パターンを前記表面上に設ける第１インクジェット工程と、を包含している。 - 特許庁

A trench pattern 120 is made on the dielectric layer, and the trench is etched through a part of the dielectric layer, and at the step of etching this trench, a part of the via protective layer is removed, and then the section of the via protective layer left is selectively etched, and metal is formed within the trench.例文帳に追加

誘電体層の上に、トレンチパターン１２０を形成し、誘電体層の一部を通ってトレンチをエッチングし、このトレンチのエッチングするステップでビア保護層の一部を除去し、その後ビア保護層の残り部分を選択的にエッチングし、トレンチ内に金属を形成する。 - 特許庁

The mask cleaning method includes a step of cleaning a surface of a mask film 32 by irradiating a mask film 32 having a mask pattern formed on a main surface 30a of a substrate 30 with energy beam from the mask film 32 and making the temperature of the mask 32 higher than that of the substrate 30.例文帳に追加

マスク洗浄方法は、基板３０の主面３０ａ上に形成されたマスクパターンを有するマスク膜３２に、マスク膜３２側からエネルギー線を照射して基板３０よりもマスク膜３２の温度を高温とすることによりマスク膜３２の表面を洗浄する工程を含む。 - 特許庁

This can accurately detect the unevenness of exposure by a cyclic stripe pattern caused by the unevenness of exposure when the exposure start timing of adjacent odd/even lines is largely out of misalignment and the unevenness of exposure results from the other flash firing or the like occurs in one frame image (step S24).例文帳に追加

これにより、隣接する奇数／偶数ラインの露光開始タイミングが大きくずれ、他者のフラッシュ発光等に起因する露光ムラが１フレームの画像に発生する場合には、その露光ムラは周期的な縞模様になるため、露光ムラを精度よく検出することができる（ステップＳ２４）。 - 特許庁

A screen print is sequentially made on the print pallet 1 to form a stacked body having a conductive pattern between insulating layers, and a degree of luster is measured by the luster measurer 6 in the step of forming the film layer to control a temperature of the dryer 5 and a conveying speed of the belt conveyor 2.例文帳に追加

印刷パレット１の上に順次にスクリーン印刷を行い、絶縁膜層の間に導体パターンを有する積層体を形成するが、膜層の形成工程では光沢測定器６で光沢度を測定し、乾燥機５の温度，ベルトコンベア２の搬送速度などを制御する。 - 特許庁

A method for evaluating a thin film for a transfer mask having a thin film in which a pattern is formed on a transparent substrate by irradiating with ArF excimer laser exposure light includes a step of evaluating light resistance of the thin film by intermittently irradiating the thin film with pulsed laser light.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用され、透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた転写用マスクのための薄膜の評価方法であって、パルスレーザ光を前記薄膜に間欠的に照射することによって薄膜の耐光性を評価する工程を備える。 - 特許庁

By making a Gon character GC of a step 4 in a development advance announcement performance appear before a left decorative symbol 50a is stopped and displayed at a specified stop pattern, the consciousness of a player is naturally shifted from the appearance of the Gon character GC to the stop display of the left decorative symbol 50a.例文帳に追加

左装飾図柄５０ａを指定された停止図柄で停止表示するまでに、発展予告演出におけるステップ４のゴンキャラクタＧＣを出現させることで、ゴンキャラクタＧＣの出現から左装飾図柄５０ａの停止表示に自然に遊技者の意識を移行させることができる。 - 特許庁

When inputting a predictive command or a suspended command outputted by a main control board, an integrated control board decides the predictive pattern of the predictive performance (consecutive prediction) (step S23) based on the value of a random number for predictive decision and the stored number of starting held balls instructed by the command.例文帳に追加

統括制御基板は、主制御基板が出力した予告コマンド又は保留コマンドを入力すると、予告判定用乱数の値及び前記コマンドで指示された始動保留球の記憶数に基づき、予告演出（連続予告）の予告パターンを決定する（ステップＳ２３）。 - 特許庁

The method of manufacturing a pattern substrate includes a step of exposing a resist through the halftone mask and developing the resist to form resist patterns 81, 82, 83 in different film thicknesses, and etching films 6, 7 on the substrate through the resist patterns 81, 82, 83.例文帳に追加

また、本発明にかかるパターン基板の製造方法は、ハーフトーンマスクによってレジストを露光する工程と、レジストを現像し、膜厚差を有するレジストパターン８１、８２、８３を形成する工程と、レジストパターン８１、８２、８３を介して基板上の膜６、７をエッチングする工程と、を備える。 - 特許庁

In a through-hole 12b of the driver module for an EL 10 with electronic components, such as active component, chip capacitor, and step-up transformer mounted on a wiring circuit on a circuit board 12 sealed with mold resin 13, a spring terminal 11 composed of a coil part 11b is jointed with respect to a connection pattern with the exterior.例文帳に追加

回路基板１２上の配線回路に搭載された能動素子、チップコンデンサ、昇圧トランス等の電子部品をモールド樹脂１３で封止したＥＬ用ドライバーモジュール１０のスルーホール１２ｂには、外部との接続パターンに対してコイル部１１ｂから成るスプリング端子１１が接合されている。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a ceramic laminate which eliminates a step due to the thickness of a conductor pattern, and suppresses the deformation of the ceramic laminate the drop of insulating resistance and the occurrence of a short-circuit failure even if a ceramic green sheet is thinned and number of laminations is increased.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、導体パターンの厚みによる段差を無くし、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、絶縁抵抗の低下やショート不良の発生を抑制できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

An illumination device 30 with a remote control receiver can recognize a channel code setting request on the basis of an information pattern taken out from a signal 40 outputted when a predetermined key operation is performed at a remote control receiver 1 (Yes in step S403).例文帳に追加

リモコン受信機付き照明装置３０は、リモコン送信機１において所定のキー操作を行ったときに出力される信号４０から取り出した情報パターンに基づいて、チャンネルコード設定の要求であることを認識することができる（ステップＳ４０３でＹｅｓ）。 - 特許庁

In a step for forming a minute pattern 106 on a substrate 101, a photosensitive material 102 having etching resistance, ≤1/ μm absorption coefficient to radiation 104 of 200-10 nm wavelength and ≤15 MPa/μm residual stress in its film is used.例文帳に追加

基体１０１上に微細パターン１０６を形成する工程において、エッチング耐性を有し、波長２００〜１０ｎｍの放射線１０４に対し吸収係数が１／μｍ以下であり、且つその膜中残留応力が１５ＭＰａ／μｍ以下である感光性材料１０２を用いる。 - 特許庁

To provide a wiring layout device for a semiconductor integrated circuit for reducing fluctuation in a wiring pattern dimension due to processing, improving accuracy of delay analysis in a layout design step, and facilitating attainment of a target operation frequency of a circuit.例文帳に追加

ダミー配線を極力付加することなく、加工による配線パターン寸法変動を抑制し、レイアウト設計段階で遅延解析をより正確にし、回路の目標動作周波数達成を容易化する半導体集積回路の配線レイアウト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern form which can form patterns in a simple step and can form patterns even if the form is not irradiated with energy in the form of the patterns by a method using a photomask, a method using electron beam lithography, etc.例文帳に追加

本発明は、簡便な工程での形成が可能であり、フォトマスクを介する方法や電子線描画を用いる方法等によりエネルギーをパターン状に照射しなくとも、パターン形成が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

A spiral pattern is considered to be a localized amorphous region generated upon spin doping of the catalytic element solution due to insufficient formation of an extremely thin silicon oxide film during the ozone water treatment step.例文帳に追加

上記渦状の模様は、オゾン水処理工程の極薄シリコン酸化膜の成膜不足により、触媒元素溶液のスピン添加処理の際に、局部的に撥水現象が生じ、触媒元素が均一に添加されない為、局部的非晶質領域が発生したものと考えられる。 - 特許庁

The UV-curing adhesive 31 is applied to at least one bonding part 20a or 21a of a base board 20 provided with an ink jet head and its driver IC connected through a wiring pattern or a cover 21 being bonded to the base board 20 (step 2).例文帳に追加

インクジェットヘッドとそのドライバＩＣとが設けられ、この両者が配線パターンで接続されているベース基板２０、または、このベース基板２０に接着されるカバー２１とのうち少なくとも一方の接着部２０ａ又は２１ａに紫外線硬化型接着剤３１を塗布する（工程２）。 - 特許庁

When discriminating that a channel and a transmission rate are revised in a step S1, a CPU in the mobile communication terminal controls a blink pattern and a color of an LED notice section depending on whether acquired channel information indicates a notice channel, a call channel, a shared channel or an individual channel.例文帳に追加

携帯通信端末内のＣＰＵは、ステップＳ１でチャネル及び伝送レートが変更されたと判定した時は、取得したチャネル情報が報知チャネル、呼出チャネル、共通チャネル、個別チャネルのいずれであるかに応じて、ＬＥＤ通知部の点滅パターン及び色を制御する。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a level block for a CMP device and the CMP device capable of polishing a workpiece by a surface reference method, capable of flatly polishing even a workpiece of wafer or the like with pattern without being influenced by its step difference, and capable of attaining almost complete global planarization.例文帳に追加

ワークを表面基準方式で研磨することができ、しかも、パターン付きウエハ等のワークについてもパターンの段差に影響されることなく平坦に研磨することができ、ほぼ完全なグローバルプラナリゼーションを達成可能なＣＭＰ装置の定盤及びＣＭＰ装置を提供する。 - 特許庁

Such a process is executed in turn up to a 24th optical axis, a minimum photoreception volume level is extracted from among ones exceeding the threshold value V2 at a step S6, and display of an optical axis adjustment display part 30 is controlled by a display pattern in accordance with the minimum photoreception volume level.例文帳に追加

これらの処理を２４番目の光軸まで順次実行し、ステップＳ６で光軸指定用閾値Ｖ２以上の受光量レベルの中から最小受光量レベルを抽出し、この最小受光量レベルに応じた表示パターンで光軸調整用表示部３０の表示を制御する。 - 特許庁

The method further comprises a transfer step of transferring the cured paste 55 in the hole 53 onto the plate 56 by separating the belt 51 from the plate 56 by a separating unit 64, thereby forming a spacer for a liquid crystal panel as the pattern on the plate 56.例文帳に追加

更に、分離装置６４によりマスクベルト５１とガラス板５６と分離し、孔５３内の硬化済み紫外線硬化ペースト５５をガラス板５６上に転写する転写工程とを施して、このガラス板５６上にパターンとしての液晶パネル用スペーサを形成するようにした。 - 特許庁

The detection output of a position shift detection mark is compared with a reference voltage Xm [V] stored in a nonvolatile memory (step S4) and when a difference larger than a specified value is not detected, it can not be known which of the real position shift detection pattern and noise is detected.例文帳に追加

不揮発メモリに記憶されている基準電圧Ｘｍ［Ｖ］と位置ずれ検出マークの検出出力を比較し（ステップＳ４）、所定値以上の差が検出できない場合には、本当に位置ずれ検出パターンを検出したのかノイズを検出したのか分からない。 - 特許庁

A liquid droplet is delivered continuously using sequentially a preceding delivery pulse having a variation pattern of potential for delivering the liquid droplet, an evaluation objective delivery pulse, and a following delivery pulse, in the measuring step, to measure a flying velocity of the liquid droplet delivered by the following delivery pulse.例文帳に追加

計測ステップでは、液体滴を吐出させるための電位の変化パターンを持つ先行吐出パルス、評価対象吐出パルス、及び、後行吐出パルスを順に用いて液体滴を連続的に吐出させ、後行吐出パルスによって吐出された液体滴の飛行速度を計測する。 - 特許庁

The method for charged particle beam lithography in which the substrate is exposed to the desired pattern by raster scanning a charged particle beam includes an adjusting step of narrowing the size of the charged particle beam on the substrate in the raster scanning direction as compared with the size of the beam in the direction perpendicular to the raster scanning direction.例文帳に追加

荷電粒子線をラスタースキャンして基板を露光する荷電粒子線描画方法において、基板上の荷電粒子線のラスタースキャン方向における大きさを、前記ラスター方向と直交する方向における大きさに比べ狭める調整ステップを有する。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two-layer resist system.例文帳に追加

高感度であり、０．２μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the printing bases 1 for the decorative plate for constituting the pattern of the decorative plate comprises a step of printing image data 26 for printing, having the number of dots for preservation arbitrarily selected from a range of 100 dpi or more as the bases 18 each having a size S1 for the decorative plate.例文帳に追加

化粧板用のサイズＳ１を有する基材１８に１００ｄｐｉ以上の範囲から任意に選択された保存用ドット数を有する印刷用画像データ２６を印刷して化粧板の模様を構成する化粧板用印刷基材１を製造する。 - 特許庁

Patterns containing figures or letters are applied to the front body cloth 1a, a part of the back body cloth 1b and a part of the sleeves 1c, 1d of an outer wear 1 or the hem of pants in correlated manner in the folding order in such a manner as to form an integrated, continuous or single correlated pattern in each folding step.例文帳に追加

前身頃、後身頃の一部、および上着の袖あるいはズボンの裾の一部に、折り畳む順序で、絵柄や文字を含む模様が関連づけて付され、折り畳まれた各段階で、模様が一体化、連続化、あるいは１つの関連した模様を形成するように構成されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic laminate which enables to eliminate a step due to the thickness of a conductor pattern and to suppress the deformation of a ceramic laminate even when making ceramic green sheets thinner and increasing the number of layers, and also enables to suppress the decrease in insulation resistance or the generation of short-circuit defects.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、導体パターンの厚みによる段差を無くし、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、絶縁抵抗の低下やショート不良の発生を抑制できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a mechanism of laminate device pressurization capable of easily obtaining a stable and fine pressure control pattern for an extensive pressure control range of a thermo-compression bonding step, obtaining high control accuracy over the extensive pressure control range from a low pressure to a high pressure, and enhancing the quality of an IC card or the like.例文帳に追加

熱圧着工程等の広い圧力制御範囲に対する安定した細かな圧力制御パターンを容易に得るとともに、低圧から高圧までの広い圧力制御範囲全体における高度の制御精度を得、ＩＣカード等の更なる品質向上を図る。 - 特許庁

The fashion article selection and coordinate proposal are repeatedly performed, a fashion article sale is carried out, when the selection of all fashion articles is finished (step S106), thereby a general on-line commerce is implemented, and the data of a customer DB 306 are updated based on this behavior pattern of the customer.例文帳に追加

服飾品選択、コーディネート提案は繰り返し実行され、総ての服飾品の選択を終了したとき服飾品販売（ステップＳ１０６）を実行し、一般的なオンライン商取引の実行と、今回の顧客の行動パターンに基づいた顧客ＤＢ３０６のデータ更新とを行う。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに１００〜２８０ｎｍの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

To provide a method for knitting a knitted fabric without having a problem of not obtaining an expected inlay state since an inlay yarn is pushed out to the outside of tooth opening even on inserting the inlay yarn from a race bar which is not in the uppermost step, and capable of extending the range of a pattern expression, and also to provide a device for designing.例文帳に追加

最上段ではないレースバーからインレイ糸を挿入しても、インレイ糸が歯口外に押し出されて期待するインレイ状態が得られなくなる問題が発生しないで、柄表現の範囲を広げることができる編地の編成方法、およびデザイン装置を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, when the at least one photosensitive resin layer contains a naphthoquinonediazido derivative, in the step of transferring the photosensitive transfer material, a substrate temperature is 120-180°C, a roll temperature is 130-160°C, or a conveyance speed is 1-2 m/min.例文帳に追加

また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が１２０℃以上１８０℃以下、又はロール温度が１３０℃以上１６０℃以下又は搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であるパターン形成方法。 - 特許庁

The conversion program into the painting style image in which the input original image in a mechanical tone is converted into the painting style image comprises a composite step of composing the original image with a filter image prepared by the predetermined variable density pattern so as to provide the target picture feeling in the original image.例文帳に追加

入力される機械調の原画像を絵画調画像に変換する絵画調画像への変換プログラムであって、前記原画像と、該原画像に目的とする絵の感じがでるように所定の濃淡パターンで作成されたフィルタ画像とを合成する合成ステップを有する。 - 特許庁

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

An image of a wedge mark group for measuring the best focusing position and images of box and in-box marks for measuring a coma aberration of the projection optical system are exposed at a plurality of focusing positions Z1 to Z5 at positions near a wafer by a micro-step system, and a resist pattern is formed by the following development.例文帳に追加

ベストフォーカス位置計測用の楔型マーク群の像、及び投影光学系のコマ収差計測用のボックス・インボックスマークの像を、複数のフォーカス位置Ｚ１〜Ｚ５でウエハ上の近接した位置にマイクロ・ステップ方式で露光し、その後の現像によってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

Subsequently an algorithm step comprising a series of steps is repeatedly carried out with respect to the selected specified number of patterns until the optical characteristics value of the final natural selection pattern gets within the range of the desired difference from the desired optical characteristics so as to manufacture the most suitable multilayer film optical filter.例文帳に追加

ついで選択した所定数のパターンに対して上記一連の工程からなるアルゴリズム工程を、最終の淘汰パターンの光学特性の値が所望の光学特性の値に対する所望の差の値の範囲内になるまで繰り返し行ない、最適な多層膜光フィルタを製造する。 - 特許庁