「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

According to one embodiment, in a first templating step, a pattern is formed on a first substrate by imparting a predetermined displacement for every shot by an optical exposure apparatus, and then the pattern on the first substrate is cut out for every shot thus forming a first template.例文帳に追加

実施の形態によれば、第１のテンプレート作製ステップは、光露光装置によってショット毎に所定の位置ずれ分布を与えて第１の基板上パターンを形成し、その後、前記第１の基板上パターンを前記ショット毎に切り出して第１のテンプレートを作製する。 - 特許庁

In this case, although the step for forming the electrode pattern layer becomes a so-called Wet-on-Dry system, the green sheet has already been cured by two-pack polymerization when the electrode pattern layer is formed, thus preventing the sheet attack phenomenon from occurring.例文帳に追加

本発明によれば、電極パターン層を形成するステップがいわゆるＷｅｔ−ｏｎ−Ｄｒｙ方式となるが、電極パターン層を形成する時点では、２液重合により既にグリーンシートが硬化していることから、シートアタック現象が生じることはない。 - 特許庁

In the removing step, one end side of the wiring pattern 104 is removed so that a shortest distance from one end of the wiring pattern 104 to an end surface of the metal substrate 102 through a surface of the insulating layer 103 becomes longer than a thickness of the insulating layer 103.例文帳に追加

除去工程では、配線パターン１０４の一端から絶縁層１０３の表面を経て金属基板１０２の端面に到達するまでの最短距離が、絶縁層１０３の厚みよりも長くなるように、配線パターン１０４の一端側を除去する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of forming a fine pattern with high accuracy, without requiring a hard mask, further simplifying the formation step than conventionally, and reducing the manufacturing cost of the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

ハードマスクを必要とせずに、微細なパターンを高精度で形成することができ、従来に比べて工程の簡略化と半導体装置の製造コストの低減を図ることのできるパターン形成方法、半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

In a first etching step of a method for forming metallic pattern, about 1/6 of the top portion of a lower electrode forming film 17A is etched with a mixed gas of chloride supplied at a flow rate of 0.09 slm and Ar supplied at a flow rate of 0.01 slm by using a resist pattern 18 as a mask.例文帳に追加

第１のエッチング工程において、流量０．０９ｓｌｍの塩素と流量０．０１ｓｌｍのＡｒとの混合ガスを用いて、レジストパターン１８をマスクとして下部電極形成膜１７Ａの上部の６分の１程度に対してエッチングを行なう。 - 特許庁

Next, the relative position is adjusted by rotating or moving the memory medium and/or the transfer master so as to avoid or reduce defective transfer of a transfer pattern caused by overlap of the foreign matter or the defect on the surface of the memory medium and the transfer pattern with each other (step S3).例文帳に追加

続いて、記憶媒体及び／又は転写マスタを回転若しくは異動させて、記憶媒体の表面上の異物又は欠陥と、転写パターンとの重畳による転写パターンの転写不良を回避又は低減する様に、相対位置を調整する（ステップＳ３）。 - 特許庁

A K(black) test pattern is obtained by arranging a plurality of lines in parallel, and a C(cyan) test pattern is obtained by arranging a plurality of patterns in a step state obtained by providing level differences in a direction orthogonally crossing with a K line in a direction in parallel with the K line.例文帳に追加

Ｋ（ブラック）のテストパターンは、複数のラインを平行に並べられたパターンであり、Ｃ（シアン）のテストパターンは、Ｋのラインに直交する方向に段差を設けて形成された階段状のパターンを、Ｋのラインと平行な方向に複数並べたパターンである。 - 特許庁

Since the transmitting side 26 periodically superimposes the synchronous pattern signal on a serial signal to transmit the synchronous pattern signal regardless of the existence/absence of an occurrence of step-out at a receiving side 27, a reduction in the volume of vehicle harness can be realized in comparison with when a parallel signal is transmitted and received.例文帳に追加

受信側２７での同期はずれ発生の有無に関わらず送信側２６で定期的に同期パターン信号をシリアル信号内に重畳して送信するので、パラレル信号を送受信する場合に比べて車両ハーネスの削減を実現することができる。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain satisfactory connection by preventing the end part of a pattern from becoming a reversely tapered shape at the time of forming the pattern by etching off the insulating film arranged under a wiring while using the wiring as a mask and by suppressing the step cutting of a connecting elec trode which is to be provided on the end part.例文帳に追加

配線の下に配置された絶縁膜を該配線をマスクとしてエッチング除去してパターン形成する際に、該パターン端部が逆テーパ形状となることを防ぎ、その上に設けられる接続電極の段切れを抑制して良好な接続を得る。 - 特許庁

A standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed step of a first material to be treated and a standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed mask residual film thickness of the material to be treated are set.例文帳に追加

第１の被処理材の所定段差に対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンと被処理材の所定マスク残膜厚さに対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンを設定する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the step of predicting flatness of polishing in the case of using a stopper film by using two parameters of a value of a pattern density in a first area representing a processing pressure, and a value of a pattern density in a second area representing a selection ratio.例文帳に追加

加工圧力を代表する第１の領域内のパターン密度の値と、選択比を代表する第２の領域内のパターン密度の値の２つのパラメータを用いることにより、ストッパ膜を用いる場合における研磨の平坦性予測を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a positioning mark and an interconnection pattern forming a fine interconnection pattern to form the positioning mark, which are easily recongnized at a step of exposure, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device using it and a semiconductor device.例文帳に追加

配線パターンを微細化した上で、露光工程において容易に認識できる位置合わせマークを形成することができる位置合わせマーク及び配線パターンの形成方法、これを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置を提供する。 - 特許庁

When password step-out is recognized and the re-transmission processing of a password synchronous pattern for password re-synchronism is executed on a reception side, the reception side outputs password pattern data to a communication line 7 instead of sound encoding data which is transmitted till then.例文帳に追加

また、タイマーを起動して、一定時間内に音声フレーム同期が再確立したかを判定することで、送受信側双方の回線で暗号同期外れが発生しても、一定時間後に、双方の暗号再同期を確立して、暗号通話を再開する。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the light control film for controlling the optical characteristic is characterized in that a step is provided in which stress is applied to film material on the surface of which a predetermined notch pattern is given, and a craze or a crack starting from the notch pattern is generated.例文帳に追加

本発明の光学特性を制御する光制御フィルムの製造方法は、所定のノッチパターンが表面に付与されたフィルム材料に応力を加え、前記ノッチパターンを起点としてクレーズまたはクラックを発生させるステップを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

To have the center of a wafer coincide with the center of a mask pattern in with proper precision by a manufacture of a semiconductor sensor, having a transfer step where the mask pattern is transferred by exposing the semiconductor wafer via the mask, without relating to the kind of exposing apparatus.例文帳に追加

マスクを介して半導体ウェハ上を露光することにより該マスクのパターンを転写する転写工程を有する半導体センサの製造方法において、露光機の種類に関係なく、ウェハの中心とマスクパターンの中心とを精度良く合致させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board 108 includes a step of forming a wiring pattern 106 with a metal diffusion preventing layer 103 on the conductive frame 101 by electrolytic plating, a step of forming an insulating layer 107 on a wiring layer forming surface of the conductive frame 101, and a step of removing the conductive frame 101.例文帳に追加

導電性フレーム１０１上に、電解めっきにより、金属拡散防止層１０３が形成された配線パターン１０６を形成する工程と、前記導電性フレーム１０１の配線層形成面に絶縁層１０７を形成する工程と、前記導電性フレーム１０１を除去する工程とを含むプリント配線板１０８の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor substrate includes followings: a) a step for preparing a donor substrate and a handle substrate, b) a step to create one or more pattern of doped regions within the handle substrate, especially inside, c) a step to obtain the composite of the donor and handle substrate by attaching or more favorably, bonding the donor substrate to the handle substrate.例文帳に追加

本発明の半導体基板を製造する方法は、ａ）ドナー基板とハンドル基板を準備するステップと、ｂ）ハンドル基板に、特に内部に、１つ以上のドープ領域のパターンを形成するステップと、ｃ）次に、特に結合させることにより、ドナーとハンドル基板を付着させて、ドナー・ハンドル複合物を得るステップと、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of forming conductive patterns includes: (1) a step of preparing a base material; (2) a step of forming patterns on the base material using a conductive pattern forming composition and a printing method; and (3) a step of positioning the base material formed with the patterns between two microwave-permeable panels, and baking the patterns using microwaves.例文帳に追加

本発明によると、１）基材を用意する段階と、２）導電性パターン形成用組成物及び印刷方法を利用し、上記基材上にパターンを形成する段階と、３）上記パターンが形成された基材をマイクロウェーブを透過させる２枚のパネルの間に位置させ、マイクロウェーブを利用して上記パターンを焼成する段階とを含む。 - 特許庁

A making method includes a dicing tape-drawing step of drawing a ductile dicing tape 72 from a state where semiconductor chips made individual in a dicing step are stuck and fixed on the dicing tape 72, and a laser marking step of writing an ID pattern to a side face 78-1S of a semiconductor chip 78-1 with laser luminous flux 76 outputted from a laser marker 74.例文帳に追加

ダイシング工程によって個片化された半導体チップが延伸性のダイシングテープ72に粘着固定されている状態からダイシングテープを伸張するダイシングテープ延伸工程と、半導体チップ78-1の側面78-1Sにレーザマーカー74から出力されるレーザ光束76によってIDパターンを書き込むレーザマーキング工程とを含むマーキング方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing a solid-state imaging device includes: a step for forming an imaging area and a peripheral circuit area on a substrate; a step for forming a plurality of wiring patterns so that the wiring pattern density of the peripheral circuit area may be higher than that of the imaging area; and a step for forming an insulation film to embed among the wiring patterns.例文帳に追加

本発明の固体撮像装置の製造方法は、基板上に撮像領域と周辺回路領域を形成する工程と、撮像領域よりも周辺回路領域の配線パターン密度が高くなるように複数の配線パターンを形成する工程と、配線パターンの間を埋め込む絶縁膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

The method includes: a step of providing thermal profile data for an energy applicator; a step of determining a specific absorption rate around the energy applicator as a function of the thermal profile data; and a step of generating a simulated radiation pattern for the energy applicator as a function of the determined specific absorption rate.例文帳に追加

この方法は、エネルギーアプリケータについての熱プロフィールデータを提供する工程；該エネルギーアプリケータの周囲の比吸収率を、該熱プロフィールデータの関数として決定する工程；および該エネルギーアプリケータについてのシミュレーションされた放射パターンを、該エネルギーアプリケータの周囲で決定された該比吸収率の関数として生成する工程を包含する。 - 特許庁

Plural test patterns are recorded (step S2) on the basis of image data corrected by a partially different correction value α, a test pattern that looks smoothest from among the test patterns is selected visually, a number corresponding to it is inputted (step S3), and a γ-table corresponding to the number is updated as the γ-table for image data correction (step S4).例文帳に追加

部分的に異なる補正値αによって補正された画像データに基づいて、複数のテストパターンを記録し（ステップＳ２）、それらのテストパターンの中から、最も平滑に見えるテストパターンを目視により選択して、それに対応する番号を入力し（ステップＳ３）、その番号に対応するγテーブルを画像データ補正用γテーブルとして更新する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic device 10 having a plating step for plating a metal on a resist pattern 13 provided on a substrate 11 to be plated has a coating step for previously applying a plating solution or a solvent for the plating solution on the substrate 11 to be plated under a reduced pressure atmosphere before the plating step.例文帳に追加

被めっき用基板１１上に設けられたレジストパターン１３に、金属をめっきするめっき工程を有する電子デバイス１０の製造方法において、前記めっき工程の前に、被めっき用基板１１を減圧雰囲気下で、めっき液又はめっき液の溶媒を予め塗布する塗布工程を有する電子デバイス１０の製造方法である。 - 特許庁

In the pattern forming method including a step for forming a negative resist layer (thick film resist layer) 13 on a substrate 10, a step for forming a plating film 14 on the substrate 10 and a step for removing the negative resist layer 13 from the substrate 10, a positive resist layer 12 is formed before forming the negative resist layer 13.例文帳に追加

基板１０上にネガレジスト層（厚膜レジスト層）１３を形成する工程と、基板１０上にめっき皮膜１４を形成する工程と、剥離液に浸漬し、基板１０からネガレジスト層１３を剥離させる工程とを含むパターン形成方法において、ネガレジスト層１３を形成する前にポジレジスト層１２を形成するようにした。 - 特許庁

This method for discriminating the direction of defocusing of an exposure device for exposing a resist, includes an imaging step of imaging a resist pattern, formed by exposing by the exposure device to obtain image data, an extraction step of extracting feature data of the image data, and a discrimination step of discriminating the defocus direction, based on the feature data.例文帳に追加

レジストを露光する露光装置のデフォーカスの方向を判別する判別方法であって、前記露光装置による露光を介して形成されたレジストパターンを撮像して画像データを得る撮像ステップと、前記画像データの特徴データを抽出する抽出ステップと、前記特徴データに基づいて、前記デフォーカス方向を判別する判別ステップとを有する。 - 特許庁

The method of manufacturing the flexible printed circuit board includes: a step of adhering masking tape 2 with its pattern opened onto a resin sheet 3; a step of forming an adhesion layer 5 on the resin sheet 3, onto which the masking tape 2 is adhered, by coating ultraviolet curing paint; and a step of forming a metal conductive layer 8 on the adhesion layer 5 by evaporating a metal conductive film.例文帳に追加

樹脂シート３上にパターンが開口されたマスキングテープ２を貼り付ける工程と、マスキングテープ２が貼り付けられた樹脂シート３上に、紫外線硬化型塗料を塗付して、密着層５を形成する工程と、密着層５上に金属導電膜を蒸着させて金属導電層８を形成する工程とを含むフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method of an organic electroluminescent element is characterized by comprising: a step for providing a substrate with pixel electrodes formed; a step for laminating the donor substrate attached to a frame on the entire surface of the substrate; and a step for forming an organic film layer pattern on the pixel electrodes by radiating laser in a predetermined area of the donor substrate.例文帳に追加

本発明による有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にフレームに付着されたドナー基板をラミネーションする段階と、前記ドナー基板の所定領域にレーザーを照射して前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step of selectively forming an under active layer containing a polymerization initiator on a surface of a layer to be etched on a substrate; a step of forming a polymer layer on the under active layer by living radical polymerization of an organic monomer; and a step of selectively etching the layer to be etched through the polymer layer as a mask.例文帳に追加

基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

If the toggle rate calculated in the toggle rate calculating step is lower than the predetermined specific value, a step of revising the burn-in pattern or drawings of a burn-in board or changing the RTL design and a step of calculating the toggle rate with respect to connection data in the RTL designing phase are repeated until the toggle rate reaches or exceeds the specific value.例文帳に追加

トグル率算出工程において算出されたトグル率があらかじめ設定された規定値より低い場合には、トグル率が前記規定値以上になるまで、バーンインパターンまたはバーンインボード図面の修正あるいはＲＴＬ設計の変更を行う工程と、ＲＴＬ設計段階の接続データに対してトグル率を算出する工程を繰り返す。 - 特許庁

To provide a printing plate that can finely, precisely and stably form a stripe pattern of 0° relative to a doctor blade sliding direction in a printing method requiring a doctoring step.例文帳に追加

ドクタリング工程を要する印刷方式において、ドクターブレード摺動方向に対して０°のストライプパターンを微細で高精度、且つ安定的に形成することができる印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper film, which can form a copper film having a predetermined pattern without needing an etching step, and to provide a composition which can be used therefor.例文帳に追加

エッチング工程がなくても、所定のパターンを有する銅膜を形成することを可能とした銅膜の形成方法、およびそのために使用することができる組成物を提供する。 - 特許庁

A bank pattern is formed of the same material as a red color filter portion, a green color filter portion and a blue color filter portion of the color filter layer at the outside of the color filter layer on the glass substrate in the same step.例文帳に追加

カラーフィルタ層の赤色フィルタ部、緑色フィルタ部および青色フィルタ部と同じ材料で、ガラス基板上のカラーフィルタ層の外側に土手パターンを同一工程で形成する。 - 特許庁

In a pattern inspection of an Nth substrate to be inspected, other than first one, among a plurality of substrates to be inspected, an N-1th alignment position O3, O4 is detected in step S30.例文帳に追加

複数の被検査基板のうち、第１番目を除く第Ｎ番目の被検査基板のパターン検査において、ステップＳ３０では第Ｎ−１番目のアライメント位置Ｏ３、Ｏ４を検出する。 - 特許庁

A switch type gear shift operation section 36 is provided in the grip section of a speed change lever 18 to change a main speed change pattern upward or downward one step for each pressing operation of a switch 36a or 36b.例文帳に追加

変速レバー１８の把持部にスイッチ式の変速操作部３６を設けて、スイッチ３６ａ若しくは３６ｂの押し操作毎に主変速パターンを１段ずつアップ若しくはダウンさせる。 - 特許庁

To ensure the wear resistance of a pneumatic tire by suppressing partial wear of a step-in end of a block arranged on a shoulder part without degrading the cut-resistant performance by improving a tread pattern.例文帳に追加

トレッドパターンを改良することにより、耐カット性能を低下させずに、ショルダー部に配置されたブロックの踏込端の偏摩耗を抑制して、空気入りタイヤの耐摩耗性を確保する。 - 特許庁

A varying notice pattern classification which executes a varying notice performance during when a decorative symbol is being variably displayed is decided to be either one of those prepared beforehand in plural numbers (step S903).例文帳に追加

飾り図柄の可変表示中に変動中予告演出を実行するための変動中予告パターン種別が、予め複数用意されたいずれかに決定される（ステップＳ９０３）。 - 特許庁

When a variable is designated to an arbitrary character string of an original language and a target and a target language, the designated characters string is replaced with the variable to make a translation pattern, including the variable (step S35).例文帳に追加

原言語と目的言語の任意の文字列に対して変数が指定された場合、指定された文字列を変数に置換し、変数を含む翻訳パターンとする（ステップＳ３５）。 - 特許庁

Here, the Step S414, S420, S428 and S432 determine an electric power supply pattern to a suction motor, and can express the feelings by changing an intake air sound by driving corresponding to the respective feelings.例文帳に追加

ここで、ステップＳ４１４，Ｓ４２０，Ｓ４２８，Ｓ４３２は吸引モータに対する電力の供給パターンを決定しており、各感情に対応した駆動によって吸気音が変化し、感情を表現できる。 - 特許庁

A thin layer of a material is formed on a substrate, molding or etching enables a known geometric pattern to be printed in the thin layer, and the thin layer is converted into a solid state at the end of the printing step.例文帳に追加

材料の薄層が基板上に形成され、既知の幾何学パターンが成形またはエッチングにより薄層内に印刷され、薄層は印刷工程の最後に固体状態となる。 - 特許庁

Further, in the flaw detecting step ST5, the difference between the inspection data and the data positioned in the background pattern direction in the respective comparison data is calculated, and the flaw is detected on the basis of the difference value.例文帳に追加

また、欠陥検出工程ＳＴ５は、検査データおよび各比較データにおいて前記背景パターン方向に位置するデータの差分を求め、その差分値に基づいて欠陥を検出する。 - 特許庁

The first step is to perform a manufacturing process such as a chemical etching process or a laser cutting process in order to form hole mask on a metal plate with a predetermined hole pattern.例文帳に追加

第１の段階は、所定の穴模様で金属板上に穴マスクを形成するために例えば、化学的エッチング工程又はレーザカッティング工程のような製造工程を実施する。 - 特許庁

A non-foreground region binarizing step performs binarizing processing on the non-foreground region to divide the non-foreground region into a first candidate background and a first candidate common pattern, and obtains dispersion and average values of each.例文帳に追加

非前景領域二値化ステップは、非前景領域に二値化処理を行って、第１の候補背景と第１の候補共通パターンに分け、それぞれの分散及び平均値を取得する。 - 特許庁

In the step for forming the auxiliary pattern 108, a solid solution of the high transmittance/low reflection layer and the low transmittance/high reflection layer is formed by irradiating the reflective layer 102 with an electron beam 204.例文帳に追加

補助パターン１０８を形成する工程では、反射層１０２に電子ビーム２０４を照射して、高透過率・低反射層と低透過率・高反射層の固溶体を形成する。 - 特許庁