「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

The continuous performance flag is turned on when the performance pattern of the previous time is a specified one, and the performance control circuit sets the performance pattern for the continuous performance in a step S234 at the time of detecting the ON of the continuous performance flag.例文帳に追加

この連続演出フラグは前回の演出パターンが特定のものであるときにオンされるものであり、演出制御回路は連続演出フラグのオンを検出したときにはステップＳ２３４で連続演出用の演出パターンを設定する。 - 特許庁

A photosensitive resin film is further laminated on a plastic substrate on which an inorganic thin film has been laminated and a prescribed pattern is formed in the photosensitive resin film by exposing the photosensitive resin film through a photomask having a prescribed pattern in an exposure step.例文帳に追加

無機薄膜を積層したプラスチック基板上に、さらに感光性樹脂膜を積層し、露光工程にて感光性樹脂膜を所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光することにより感光性樹脂膜に所定のパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device fine patterning method of forming by one photolithography step the same fine pattern as that by a conventional double patterning method to attain uniformity of pattern line widths and production cost reduction.例文帳に追加

１回のフォトリソグラフィ工程により、従来の二重パターニング法と同程度の微細パターンを形成することが可能で、パターンの線幅の均一性の確保及び製造コストの節減が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing various forms of replica molds for nano imprint using nano imprint and a dry etching process; and a method of forming a multi-step pattern or a micro pattern using a nano imprint process with the manufactured replica molds for nano imprint.例文帳に追加

ナノインプリントと乾式エッチング工程とを用いて多様な形態のナノインプリント用のレプリカモールドを製作する方法と製作されたナノインプリント用のレプリカモールドでナノインプリント工程を用いて多段パターンや微細パターンを成形する方法を提供する。 - 特許庁

Photogravur rolls 3a and 3b are installed above a path line of a carrier film 1, and platens 4a and 4b are installed below, thus forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric on the upper side of the carrier film 1.例文帳に追加

グラビア印刷ロール３ａ、３ｂを、キャリアフィルム１のパスラインよりも上側に設置し、圧胴４ａ，４ｂを下側に設置することにより、キャリアフィルム１の上側に内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a laminated inductor for increasing the value of an inductance by preventing blur at a step part wherein a conductor pattern gets over a mask layer, excellently stably forming a narrow coil pattern on the corresponding flattened layer and miniaturizing the laminated inductor.例文帳に追加

導体パターンがマスク層を乗り越える段差部分でにじみを防止でき、平坦化した該当層に細幅のコイルパターンを不良なく安定に形成でき、小型化とともにインダクタンス値の大値化が行える積層インダクタを提供すること - 特許庁

To provide a method for fabricating a thin film pattern and a method for fabricating a flat panel display device using the same that are adaptive for forming an organic material pattern having step coverage by not using a photolithography process to control a capacitance value of a capacitor.例文帳に追加

本発明は、フォト工程を使用しないで、段差を有する有機物パターンを形成することによって、キャパシタの容量が調節できる薄膜パターンの製造方法及びこれを用いる平板表示素子の製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When the angle formed by the line direction and release direction of the pattern of the mold is set to θ in a case that the mold having an uneven pattern formed thereto in parallel to the line direction in the releasing step of a nanoimprint process, θ is preferably -5°≤θ≤5°.例文帳に追加

ナノインプリントの剥離工程において、ライン方向に平行に凹凸状のパターンが形成されたモールドを使用した場合、モールドのパターンのライン方向と剥離方向とのなす角度をθとすると、−５°≦θ≦５°であることが好ましい。 - 特許庁

It is judged that the pressure is applied in the other cases, a pressure adjusting valve 65 is controlled according to the pattern A and pattern B of the pressure reduction control corresponding to the pressure, and the pressure reduction control of reducing the pressure inside a pot 11 gradually is performed (step S4).例文帳に追加

それ以外は圧力が掛かっていると判定して、圧力に応じて減圧制御のパターンＡ、パターンＢに従って圧力調整弁65の制御を行ない、徐々に鍋11内の圧力を減圧する減圧制御を行なう（ステップＳ４）。 - 特許庁

In this case, the predetermined pattern is a pattern which has the same shape as that of the light-shielding layer 11, is subtly wider than the light-shielding layer 11 and can cover a first inclined surface 12S of the buffer film 12 in which the step difference of the light-shielding layer 11 is reflected.例文帳に追加

ここで、所定のパターンは、遮光層１１と同一の形状であるが、僅かに遮光層１１より広く、遮光層１１の段差が反映されたバッファ膜１２の第１の傾斜面１２Ｓを覆うことができるパターンである。 - 特許庁

A controller 24 performs a ready-for- winning play condition by using the display 13 at the previous step when at least the pattern is finally stopped and displayed as a specified pattern, and it predicts the performance of the ready-for-winning play condition when the patterns are varied.例文帳に追加

制御装置２４は、少なくとも図柄が特定の図柄にて最終的に停止表示される前段階において、表示装置１３にてリーチ遊技状態を演出し、また、図柄の変動に際し、リーチ遊技状態の演出を予告する。 - 特許庁

The method is used to manufacture a wiring board, wherein a pattern wiring is formed on a board, and it includes an aerosol film formation step of forming a conductive layer by collision of aerosol and a patterning step of patterning the conductive layer by etching and form the pattern wiring including the conductive layer.例文帳に追加

基板上にパターン配線が形成されてなる配線基板の製造方法であって、前記基板上に、エアロゾルの衝突によって導電層を形成するエアロゾル成膜工程と、前記導電層をエッチングによりパターニングして当該導電層を含む前記パターン配線を形成するパターニング工程と、を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a gray scale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate 430 by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate 430 with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

The method for producing the solar cell backsheet includes a step of printing a protective varnish in a pattern over a metal foil 18 glued on a face of a plastic film used as a base material and a step of stamping out the pattern after gluing a plastic film over the metal foil 8 after removing the non-printed area of the metal foil by corrosion.例文帳に追加

基材となるプラスチックフィルムの片面に貼り合せた金属箔の上からパターン状に防護ニスを印刷し、非印刷領域の金属箔を腐食によって除去した後に金属箔の上から全面にプラスチックフィルムを貼り合せてからパターンを打ち抜くことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池バックシートの製造方法 - 特許庁

The radiation irradiation method includes the step of irradiating a first part 102-1 of a subject 43 with first radiation 111-1 radiated in a radial pattern from a first point, and the step of irradiating a second part 102-2 of the subject 43 with second radiation 111-2 radiated in a radial pattern from a second point matched with the first point.例文帳に追加

第１点から放射状に放射される第１放射線１１１−１を被検体４３のうちの第１部分１０２−１に照射するステップと、その第１点に一致する第２点から放射状に放射される第２放射線１１１−２を被検体４３のうちの第２部分１０２−２に照射するステップとを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a liquid crystal panel 100 (the liquid crystal display device) includes: a step of laminating a TFT substrate 101 for holding a liquid crystal layer 31 with a CF substrate 102; and a step of forming a barrier pattern 40 of a direct parallax barrier pattern on a surface opposite to a side that holds the liquid crystal layer 31 of the CF substrate 102.例文帳に追加

この液晶パネル（液晶表示装置）１００の製造方法は、液晶層３１を挟持するためのＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０２とを貼り合わせる工程と、ＣＦ基板１０２の液晶層３１を挟持する側とは反対側の表面上に直接視差バリアパターン４０を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method further comprises: a step of forming a resist pattern in the second region by the photolithography process; and a step of processing the insulating layer and the film to be processed using the side wall film in the first region and the resist pattern in the second region as masks and then forming a wiring trench in the film to be processed.例文帳に追加

さらに、前記第２領域においてフォトリソグラフィ工程によりレジストパターンを形成する工程と、前記第１領域における前記側壁膜と前記第２領域における前記レジストパターンとをマスクとして前記絶縁膜および前記被加工膜を加工し、前記被加工膜に配線溝を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

The ECU performs sub-communicating control based on a sub-driving pattern being different from the main driving pattern in driving form of each opening and closing valve (step S52) when the non-braking operation determining conditions A are satisfied if a first elapsed time T1 from the completion of communicating control exceeds a prescribed time KT1 (YES at step S41).例文帳に追加

そして、ＥＣＵは、連通制御が完了してからの第１経過時間Ｔ１が規定時間ＫＴ１以上になった場合（ステップＳ４１が肯定判定）において非ブレーキ操作判定条件Ａが成立したときには、メイン駆動パターンとは各開閉弁の駆動態様が異なるサブ駆動パターンに基づくサブ連通制御を実行する（ステップＳ５２）。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing for spraying dry ice particles on the raw film, and a step of forming the irregularity pattern on the surface of the raw film having a fine irregularity formed by emboss processing.例文帳に追加

製造方法は、ドライアイス粒を前記原反の表面に吹きつけるブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the developing roller includes a step of forming a prescribed irregular pattern on a first plate surface of a metal plate by press working, and a step of forming the metal plate like a cylinder by press working so that the first plate surface on which the irregular pattern has been formed may be an external surface and a pair of opposed end sides of the metal plate may approach.例文帳に追加

金属板の第１板面にプレス加工によって所定の凹凸パターンを形成するステップと、前記凹凸パターンが形成された前記第１板面が外面となるように、かつ、前記金属板の対向する一対の端辺が近接するように、前記金属板をプレス加工によって円筒状に形成するステップとを含む。 - 特許庁

The Al taper dry etching method, which is based on resist backstep sequence method for obtaining a small Al taper angle, consists of a step of forming a resist pattern having the small resist taper angle corresponding to a desired small Al taper angle on Al or an Al alloy, and a step of performing anisotropic dry etching on Al or Al alloy having the resist pattern.例文帳に追加

所望の小さいＡｌテーパ角に対応した小さいレジストテーパ角を有するレジストパターンをＡｌまたはＡｌ合金膜上に形成する工程および該レジストパターンを有するＡｌまたはＡｌ合金膜に異方性ドライエッチングを行なう工程からなる、小さいＡｌテーパ角をうるためのレジスト後退法にもとづくＡｌテーパドライエッチング方法。 - 特許庁

In a stage for forming groove patterns on the air bearing surface of a thin film magnetic head slider 15 by photolithography technology, photoresist patterns 2 and 3 used for working are formed in step-shapes corresponding to a shallow pattern 12 and a deep pattern 13 and the photoresist patterns are transferred onto the air bearing surface in one etching step to work the shallow and deep grooves collectively.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドスライダー１５のエアーベアリング面にフォトリソグラフィ技術により溝パターンを形成する工程に際して、加工に用いるフォトレジストのパターン２、３を、浅溝パターン１２及び深溝パターン１３に対応した階段状に形成し、フォトレジストのパターンを、一回のエッチングによりエアーベアリング面上に転写し、浅溝、及び深溝の加工を一括して行う。 - 特許庁

It includes a step of forming a pattern by inputting the position and size data of the designed pattern and impacting power data for them into an impacting machine having chips and punching the processing surface, and a step of checking the processing surface with a microscope and grinding the surface with a grinder if defective then processing the surface after adjusting the processing conditions.例文帳に追加

設計されたパターンの位置、パターンのサイズデータ及びこれらに対応する打撃力データをチップ付き打撃装置に入力して加工面を打撃することにより、パターンを形成する段階と、加工面をマイクロスコープで確認し、異常があれば、加工面を研磨機で押し出し、加工条件を調節した後再加工する段階とを含む。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a grayscale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

The method for recording data to the optical recording medium includes: a step for generating a box type recording pattern comprising a first pulse which has a duration determined according to a length of a recording mark and has a first power level and a second pulse which has a second power level different from that of the first power level; and a step for recording data according to the recording pattern.例文帳に追加

記録するマークの長さによって決定される長さを有し、第１パワーレベルを有する第１パルス、及び第１パワーレベルより低いパワーレベルを有する第２パルスで構成されたボックス型記録パターンを生成するステップと、記録パターンによってデータを記録するステップと、を含む光記録媒体にデータを記録する方法である。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

This method includes a step G01 for describing the pattern forming process in accordance with at least one layout parameter, a step G03 for making the distribution of at least one parameter discrete, a step G05 for providing an error correction table linking the correction of layout with at least one parameter and a step G06 for correcting the layout by applying correction in the table to the layout at least once.例文帳に追加

この方法は、少なくとも１つのレイアウト・パラメータに応じてパターン形成プロセスを記述するステップと、前記少なくとも１つのパラメータの分布を離散化するステップと、レイアウト修正を前記少なくとも１つのパラメータに連係させる誤差補正テーブルを提供するステップと、前記テーブル内の前記修正を前記レイアウトに少なくとも１回適用することによってレイアウトを補正するステップとを含む。 - 特許庁

The method for processing the semiconductor wafer is characterized by including the step of bonding a support wafer with a double-faced adhesive sheet on the surface of the semiconductor wafer having a pattern formed thereon, and the step of thinning the back of the semiconductor wafer while the support wafer is fixed.例文帳に追加

パターンが形成された半導体ウエハ表面に、両面粘着シートで支持ウエハを貼付ける工程と、前記支持ウエハを固定した状態の半導体ウエハの裏面に薄型加工を施す工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁

In a correction step S10, the resist pattern form of the arbitrary patterns is predicted by correcting the outline form of the optical image which is computed in the second computation step according to the correction amount given by the correction model in accordance with the amount of characteristic of the outline form.例文帳に追加

補正工程Ｓ１０では、第２計算工程で計算された光学像の輪郭形状を該輪郭形状の特徴量に応じて該補正モデルによって与えられる補正量に従って補正することにより、任意のパターンのレジストパターンの形状を予測する。 - 特許庁

An input processing part 15 inputs information of a control card 13, a pattern file 12, and an input net list 11, and stores it into an internal database 14, a transistor circuit division step 16 divides the circuit into a CCC (Chanel-Connected-Components) unit, and a circuit recognition step 17 recognizes the circuit.例文帳に追加

入力処理部１５は、入力ネットリスト１１と、パタンファイル１２と、コントロールカード１３の情報を入力し、内部データベース１４に格納し、トランジスタ回路分割１６が回路をＣＣＣ単位に分割し、回路認識１７が回路認識を行う。 - 特許庁

The method forms the film pattern by arranging a functional liquid on a substrate, and includes a step of forming a bank B on the substrate P and a step of arranging the functional liquid L in the area demarcated by the bank B.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基体上に機能液を配置することにより膜パターンを形成する方法であって、基体Ｐ上にバンクＢを形成する工程と、バンクＢによって区画された領域に機能液Ｌを配置する工程とを有する。 - 特許庁

When receiving an opening specifying command from a main CPU (step S10), a general CPU determines whether or not a big winning game specified by the opening specifying command is the big winning game based on a variation pattern for the big winning performance of a big winning 2R (step S11).例文帳に追加

統括ＣＰＵは、オープニング指定コマンドをメインＣＰＵから受信すると（ステップＳ１０）、オープニング指定コマンドに指定される大当り遊技が大当り２Ｒの大当り演出用の変動パターンに基づく大当り遊技であるか否かを判定する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

The method includes a step of forming the alignment film on a substrate having an electrode pad at a position corresponding to a transfer electrode for applying a voltage to a common electrode, and a step of locally etching the alignment film to expose the electrode pad without using a mask pattern.例文帳に追加

共通電極に電圧を印加するトランスファ電極に対応する電極パッドを備える基板上に配向膜を形成する段階と、前記電極パッドを露出させるようにマスクパターンを用いずに前記配向膜をエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

Heating boards 1a, 1b, 1c of ≥3 pieces are disposed in the laminated layer direction by arranging gaps, and a laminated body 90a of a conductor pattern is inserted into the gap of the upper step among the heating boards 1a, 1b, 1c and a laminated body 90b is inserted into the gap of the lower step.例文帳に追加

３枚以上の熱盤１Ａａ，１ｂ，１ｃを隙間を空けて積層方向に配置し、熱盤１Ａａ，１ｂ，１ｃ間の上段の隙間に導体パターンフィルムの積層体９０ａを挿入し、下段の隙間に積層体９０ｂを挿入する。 - 特許庁

At the time, if the player operates an additional betting control part 302 and selects a desired treasure box 301, the content of the privilege associated with the treasure box 301 is announced step by step based on the number of times of selection of announcement and the announcement pattern of the treasure box 301.例文帳に追加

ここで、遊技者が、追加ベット操作部３０２を操作し、所望の宝箱３０１を選択すると、当該宝箱３０１の報知選択回数、報知パターンに基づいて、当該宝箱３０１に関連付けられている特典内容が段階的に報知される。 - 特許庁

To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

Furthermore, the resin molded article is manufactured by a metal structure forming step at which a metal structure is deposited on the substrate by plating according to the resist pattern and by a molded article forming step at which the resin molded article is formed with the metal structure used as a mold.例文帳に追加

さらに、レジストパターンにしたがって、基板上に金属構造体をメッキにより堆積させる金属構造体形成ステップと、金属構造体を型として、樹脂成形品を形成する成形品形成ステップによって、樹脂成形品が製造される。 - 特許庁

To provide a method for producing a stencil mask by which the deposition of foreign matter is prevented in a step for forming a pattern opening in a single-crystalline silicon wafer, particularly in a step for etching a middle silicon dioxide film and a high quality stencil mask is produced in a high yield.例文帳に追加

単結晶シリコンウェハにパターン開口部を形成する工程や、特に中間シリコン酸化膜をエッチングする工程での異物の付着を無くし、製造歩留まりの高い高品質のステンシルマスクを製造する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In this manufacturing method, a primary acceptance determining section determines whether or not the hole diameter D of a contact hole opening 42 and the alignment offset value A of a lower interconnection line 10 configured as a target pattern are within a predetermined standard range in a primary acceptance determination step (Step S4).例文帳に追加

第１合否判定部１８において、コンタクトホール開口部４２のホール径Ｄ及びターゲットパターンとしての下層配線ライン３０とのアライメント・オフセット値Ａがそれぞれ所定の規格範囲内に入っているか否かの１次合否判定を行う（ステップＳ４）。 - 特許庁

The wearable robot 1 emits light diagonally forward down in a predetermined shape pattern to project an image, photographs the image, detects a level difference between a comb plate at the end and the step plate, on the basis of the distortion of the image, and calculates a distance between the comb plate and the step plate to be fed.例文帳に追加

装着型ロボット１は、所定形状パターンの光を前進方向斜め下に照射して像を投影してこれを撮影し、その像の歪みから乗口の櫛板と踏板の段差を検出し、櫛板から繰り出される踏板までの距離を算出する。 - 特許庁

The another vehicle detection apparatus for detecting another vehicle using a reflected wave of an irradiation wave irradiated by an own vehicle comprises an another vehicle decision means (Step S3 to Step S5) for deciding the presence or absence of another vehicle from an intensity pattern of the reflected wave.例文帳に追加

自車両から照射した照射波の反射波を用いて他車両の検出を行う他車両検出装置において、反射波が持つ強度のパターンから他車両の有無を判定する他車両判定手段を備えた（ステップＳ３〜ステップＳ５）。 - 特許庁

The yield of servo patterns can be improved by evaluating transfer quality of a plurality of sets of servo patterns (step S11) and by selecting a set of servo patterns ( best servo pattern) used for positioning a magnetic disk for each zone on the basis of the evaluation result (step S12).例文帳に追加

複数組のサーボパターンの転写品質を評価し（ステップＳ１１）、その結果に基づいて、磁気ディスクのゾーンごとに位置決めに使用するサーボパターン組（最良サーボパターン）を選択する（ステップＳ１２）ことから、サーボパターンの歩留まりを高くすることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member has a step in which the metal fine particle binding body having a porosity of 20-80% formed by binding the metal fine particles via a binder resin is formed into a mesh pattern using a printing method, and a step in which the resulted product is subjected to plating process.例文帳に追加

透明基材上に、印刷法を用いて、金属微粒子を樹脂バインダーによって結着した空隙率が２０〜８０％の金属微粒子結着体をメッシュパターンに形成し、このものをめっき処理する電磁波シールド部材の製造方法である。 - 特許庁