「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose total light transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥50% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加

無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの全光線透過率が５０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁

This method for manufacturing a multilayered wiring board includes the consecutive steps of a step of forming a curing insulation resin layer, a step of selectively forming a via hole in the curing insulation resin layer, a step of etching a metal for a wiring pattern, a step of curing the curing insulation resin layer after etching, and a step of applying a plating treatment for interlayer connection.例文帳に追加

配線パターンが形成された絶縁基材上に、硬化性絶縁樹脂層を設ける工程、該硬化性絶縁樹脂層に選択的にビアホールを形成する工程、配線パターンの金属をエッチングする工程、エッチング後に該硬化性絶縁樹脂層を硬化する工程、およびメッキ処理を行って層間接続を行う工程、をこの順に行うことを特徴とする多層配線基板の製造方法。 - 特許庁

In the step S1 in the manufacturing process, at least the conductor pattern width, conductor pattern thickness, and insulating layer thickness are taken as parameters, and an effective conductor pattern width expressed by multiplying these parameters by a prescribed factor to correct them is introduced, and the simulation values of the characteristic impedances are calculated as a function of the effective conductor pattern width.例文帳に追加

このとき、製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、少なくとも、導体パターン幅、導体パターン厚、及び絶縁層厚をパラメータとするとともに、これらパラメータに対して所定の係数を乗じて補正することによって表される実効導体パターン幅を導入し、実効導体パターン幅の関数として、特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

The manufacturing method for a laminated electronic component has a step of laminating an internal electrode pattern layer 12a, which makes an internal electrode layer 12 after calcination, and a margin pattern layer 24, adjusted to a complementary type pattern where the internal electrode pattern layer 12a is not formed, onto a green sheet 10a, which will make a dielectric layer 10 after calcination.例文帳に追加

焼成後に内部電極層１２となる内部電極パターン層１２ａと、その内部電極パターン層１２ａが形成されていない相補型パターンに合わせた余白パターン層２４とを、焼成後に誘電体層１０となるグリーンシート１０ａに対して積層させる工程を有する積層型電子部品の製造方法である。 - 特許庁

Further, the semiconductor package has a semiconductor element mounted on the interposer, and the method of manufacturing the interposer includes a step of forming the conductor pattern on a metal foil of the prepreg formed by bonding the metal foil to the one surface by etching and a step of forming the coating layer so as to cover at least the part of the conductor pattern.例文帳に追加

また、半導体パッケージは、上記インターポーザに半導体素子を搭載しており、インターポーザの製造方法は、片面に金属箔を接合してなるプリプレグの金属箔にエッチングにより導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンの少なくとも一部を覆うように被覆層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

If copy restriction information is not extracted from the read document, dot pattern data is generated corresponding to copy restriction information stored in the embed information storage part 111 (step S209), and the dot pattern data and image data outputted from a scanner 170 are synthesized (step S210).例文帳に追加

これに対し、今回読み取られた原稿から複写制限情報が抽出されない場合、埋め込み情報保存部１１１に保存されている複写制限情報に対応するドットパターンデータが生成され（ステップＳ２０９）、このドットパターンデータとスキャナ１７０から出力された画像データが合成される（ステップＳ２１０）。 - 特許庁

The method for manufacturing the magnetic recording medium includes at least: a protective layer forming step for forming a protective layer on an irregular pattern of the magnetic recording medium having a magnetic layer with the irregular pattern formed thereon along the irregular shape, and a resin filling step for filling a recess of the protective layer with resin.例文帳に追加

凹凸パターンが形成された磁性層を有する磁気記録媒体の凹凸パターンの上に凹凸形状に添って保護層を形成する保護層形成工程、形成された保護層の凹部に樹脂を充填する樹脂充填工程を少なくとも有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

This authentication method is provided with an image acquiring step for acquiring an image of skin of a person to be authenticated (S10), and a collating step for collating a pattern of a pore in the acquired image with a pattern of a pore of a registrant stored beforehand in a database and judging whether the person to be authenticated is the registrant (S18 to S28).例文帳に追加

被認証者の皮膚の画像を取得する画像取得ステップ（Ｓ１０）と、取得した画像中の毛穴のパターンと、あらかじめデータベースに保存された登録者の毛穴のパターンとを照合し、被認証者が登録者であるか否かを判定する照合ステップ（Ｓ１８〜Ｓ２８）とを備える。 - 特許庁

A method includes a step of calculating a first gray tone set of a pixel set, the first gray tone set being, corresponding to the center of a pattern disposed in a first lattice position, and furthermore, includes a step of calculating a second gray tone set of the pixel set, the second gray tone set being, corresponding to the center of a pattern disposed in a second lattice position.例文帳に追加

方法は、ピクセルセットの第一グレートーンセットを計算するステップを含み、第一グレートーンセットは第一格子位置に配置されているパターンの中心に対応し、さらにピクセルセットの第二グレートーンセットを計算するステップを含み、第二グレートーンセットは、第二格子位置に配置されているパターンの中心に対応する。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor memory device includes: a step (a) of sequentially laminating a TMR film 5 and a cap layer 6 on base layers 1, 2, 3 and 4; and a step (b) of patterning the TMR film 5 and the cap layer 6 to form a normal laminate structure pattern 13 and a dummy laminate structure pattern 16 thereof.例文帳に追加

本発明に係る半導体記憶装置は、（ａ）下地層１，２，３，４上にＴＭＲ膜５、キャップ層６を順に積層する工程と、（ｂ）ＴＭＲ膜５、キャップ層６をパターニングして、それらの正規積層構造パターン１３およびダミー積層構造パターン１６を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit substrate includes a step of disposing the chip 12 in a through hole 11A provided in the aperture substrate 11 corresponding to the height of the chip 12, and a step of forming a wiring pattern 13 on the aperture substrate 11 and wiring the wiring pattern 13 to the electrode 12A on the chip 12.例文帳に追加

チップ部品１２の高さに対応させて開口基板１１に設けた貫通穴１１Ａ内に、チップ部品１２を配置する工程と、開口基板１１上への配線パターン１３の形成及び該配線パターン１３とチップ部品１２上の電極１２Ａとの結線を行う工程とを有している。 - 特許庁

The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.例文帳に追加

石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁

This method comprises a step of performing a first exposure for partly forming the image of a pattern and a step of performing a second exposure for partly forming an image of the pattern, and at least either the first or the second exposure is performed, using an illumination mode substantially having a bipolar intensity distribution.例文帳に追加

パターンを部分的に結像するために、第１感光を行う段階と、パターンを部分的に結像するために、第２感光を行う段階とを含み、しかも、上記第１と第２の感光のうちの少なくとも一方を、実質的に双極強度分布を有する照明モードを使用することで行う。 - 特許庁

When special patterns are stationarily displayed in the next-to-win display mode on a first combination effective line (step S414; Yes) in a special pattern game selectively determining a variable display pattern of the ready-to-win state F, the display of special patterns in the variable display part except for the first combination effective line are erased (step S416).例文帳に追加

リーチＦの可変表示パターンが選択決定された特図ゲームにおいて、第１の組合せ有効ライン上にリーチ表示態様で特別図柄を停止表示したときには（ステップＳ４１４；Ｙｅｓ）、第１の組合せ有効ライン以外の可変表示部における特別図柄の表示を消去する（ステップＳ４１６）。 - 特許庁

The process for producing an electromagnetic wave shielding layer comprises a step 10 for preparing a base film, and a step for forming a conductive pattern by printing metal paste (one kind of powder or nanoparticles of gold, silver, copper, aluminium, nickel and carbon nanotube) onto the base film using at least one of screen print method and ink jet method and then calcinating the metal paste to form a conductive pattern.例文帳に追加

ベースフィルムを用意するステップ１０と、前記ベースフィルム上にスクリーンプリント法またはインクジェット法の少なくともいずれか一方を用いて、金属ペースト（金、銀、銅、アルミニュウム、ニッケル、カーボンナノチューブのパウダー又はナノパーティクルの内、一種）を印刷し、焼成することにより、導電性パターンを形成するステップを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high resolution, capable of diminishing defects in a resist pattern and failures such as chipping, breaking and short circuit in a circuit formed in an etching or plating step and less liable to generate residue on removal in a resist pattern removing step particularly after electroplating by a semi-additive process.例文帳に追加

高解像性を有し、レジストパターンの欠陥や、エッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥を低減することができ、特にセミアディティブ工法の電解めっき後のレジストパターン剥離工程における剥離残が発生しにくい感光性樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁

Further, the method includes a step S08 for computing the times that the signal requires to reach plural circuits from the signal supply means as delay times and a step S09 for altering a 2nd pattern as part of the 1st pattern for arranging plural capacity elements so that the delay times are substantially as long as one another.例文帳に追加

信号が信号供給手段から複数の回路のそれぞれに到達するのに要する時間を、遅延時間としてそれぞれ算出するステップＳ０８と、遅延時間が実質的に同一になるように、第１パターンのうち、複数の容量素子を配置するための部分である第２パターンを変更するステップＳ０９とを含む。 - 特許庁

A method for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a photoresist pattern 14 on a layer 12 to be etched, a step for forming an etching rate increasing film of the layer 12 on the side wall of the photoresist pattern 14, and a step for forming a contact window by etching the layer 12 using the photoresist pattern on which the etching rate increasing film is formed as an etching mask.例文帳に追加

食刻対象層１２の上部にフォトレジストパターン１４を形成する段階と、プラズマ処理を行いフォトレジストパターン１４の側壁に食刻対象層１２の食刻速度を増加させるための食刻速度増加膜を一定の厚さで形成する段階と、食刻速度増加膜が形成されているフォトレジストパターンを食刻マスクとして用いて食刻対象層を食刻することによりコンタクト用のウィンドウを形成する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

PATTERN EXTRACTION METHOD AND DEVICE, MINUTE FOREIGN OBJECT SHAPE MEASUREMENT METHOD AND DEVICE, METHOD AND DEVICE FOR MEASURING HOLE DIAMETER AT HOLE CENTER PART, AND METHOD HOLE STEP MEASUREMENT METHOD AND HOLE STEP MEASUREMENT DEVICE例文帳に追加

パターン抽出方法、パターン抽出装置、微小異物形状測定方法、微小異物形状測定装置、ホール中央部の穴径測定方法、ホール中央部の穴径測定装置、ホール段差測定方法及びホール段差測定装置 - 特許庁

The method includes: a step of forming a thin film transistor and a connecting pattern connecting the drain electrode of the thin film transistor and a data line on a substrate of a liquid crystal display device; and a step of forming a pixel electrode connected to the drain electrode.例文帳に追加

液晶表示装置の基板上に薄膜トランジスタ及びそのドレイン電極とデータラインとを接続する接続パターンを形成するステップと、該ドレイン電極と接続される画素電極を形成するステップを有する。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step for forming an etching mask 2 on the surface of a substrate 1 of a sintered body material and a step for dry-etching the material through the etching mask 2 as a mask, wherein the cross sectional area of the etching mask 2 is a trapezoid.例文帳に追加

焼結体素材の基板１の表面にエッチングマスク２を形成する工程と、前記エッチングマスク２をマスクとしてドライエッチングする工程を含むパターン形成方法において、前記エッチングマスク２の断面形状が台形をなす。 - 特許庁

Since the de-smearing step is performed following the pattern etching step for exposing a substrate, the surface of the substrate can be smoothed by imparting a chemical to the surface of the substrate where multiple protrusions and recesses are formed by copper foil subjected to anchoring.例文帳に追加

基材が露出するパターンエッチング工程後にデスミヤ処理を行うことにより、アンカー処理された銅箔によって多数の凹凸が形成された基材表面に薬品を付与し、該基材の表面を平滑化することができる。 - 特許庁

When decoding of RSS_Limited is normally completed (Yes in step A15), a control circuit of a bar code reader determines whether a predetermined distance exists between both ends of the read code pattern and both ends of a reading visual field (step A19).例文帳に追加

バーコード読取装置の制御回路は、RSS＿Limitedのデコードが正常に終了した場合は（ステップＡ１５：ＹＥＳ）、読取ったコードパターン両端と読取り視野の両端との間に所定の距離が存在するか否かを判定する（ステップＡ１９）。 - 特許庁

To provide an overprint card that prevents a pattern ink layer formed by using an ultraviolet-curable type ink from being broken in a transfer step or in an embossing step.例文帳に追加

本発明の解決しようとする課題は、以上の問題点に鑑み、転写工程ないしはエンボス加工工程において、紫外線硬化型インキを用いて形成した絵柄インキ層が割れることのないオーバープリントカードを提供するものである。 - 特許庁

When the arm of the robot is not in the third step position nor in the fourth step position (S213: No, S217: No), as long as the value of a variation pattern counter is "5" (S218: Yes), the arm of the robot moves/stops at the next position (S219).例文帳に追加

また、ロボットの腕が３段のポジション及び４段のポジションにないときは（Ｓ２１３：Ｎｏ、Ｓ２１７：Ｎｏ）、変動パターンカウンタの値が「５」である限り（Ｓ２１８：Ｙｅｓ）、ロボットの腕が、次のポジションに移動・停止する（Ｓ２１９）。 - 特許庁

The method 10 of performing two-stage retrieval of an electronic content stored in a computer system or network is performed by recognizing a pattern in a search word input (Step 12) by a user (Step 14) in a first stage.例文帳に追加

コンピュータシステムまたはネットワーク内に保存された電子コンテンツの２段階検索を行う方法１０が、第１の段階で、ユーザによって入力（ステップ１２）された検索語内のパターンを認識することによって実施される（ステップ１４）。 - 特許庁

In a retrieval meta-information creating process in a step S102, document data is read and reference bibliographic information and reference sentences are extracted from the document data based on the extraction pattern data registered in the step S101.例文帳に追加

ステップＳ１０２における検索用メタ情報作成処理では、書籍データが読み込まれ、ステップＳ１０１で登録された抽出パターンデータに基づいて、書籍データの中から参照書誌情報と参照文が抽出される。 - 特許庁

In the case of determining a notice pattern kind CY3 in a decorative symbol variation setting processing in a step S161, a predetermined performance operation to be a button operation promotion performance is performed in processing under a decorative symbol variation in a step S162.例文帳に追加

ステップＳ１６１の飾り図柄変動設定処理にて予告パターン種別ＣＹ３に決定した場合には、ステップＳ１６２の飾り図柄変動中処理にてボタン操作促進演出となる所定の演出動作が行われる。 - 特許庁

The film thickness measuring method forms a step part 10 on the laminated film L0 by lifting off the mask pattern M and obtains film thickness Tm of the measuring object layer Lm as Tm=T0-(T1+T2) by measuring depth T0 of the step part 10 by a stylus method.例文帳に追加

そして、マスクパターンＭをリフトオフして積層膜Ｌ０に段差部１０を形成し、段差部１０の深さＴ０を触針法によって測定して測定対象層Ｌｍの膜厚ＴｍをＴｍ＝Ｔ０−（Ｔ１＋Ｔ２）として得た。 - 特許庁

According to the operation of the image forming device, it is determined at a step 400 whether or not print data for printing the test pattern are inputted, and if the print data are inputted, it is determined at a step 402 whether or not a yellow head 12Y is driven from the print data.例文帳に追加

ステップ４００で、テストパターンを印字するための印字データが入力されたか否かを判断し、印字データが入力されると、ステップ４０２で、印字データに基づいてイエローヘッド１２Ｙが駆動されるか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a device detecting characteristic points of two or more different parts by narrowing characteristic point candidates step by step for detecting an accurate position while reducing cost for recognition processing based on a normalized pattern using a plurality of points.例文帳に追加

２つ以上の異なる部位の特徴点を検出する装置であって、段階的に特徴点の候補を絞り込みながら、複数点を用いた正規化パターンによる認識処理のコストを抑えつつ、正確な位置を検出する。 - 特許庁

When business card information including the telephone number information and the postal code number information in which dividing information is inserted into numeral information is inputted (Step S2), printing pattern data based on the character information of the business card information are prepared (Step S9).例文帳に追加

数字情報に区切り情報が挿入された電話番号情報及び郵便番号情報を含む名刺情報が入力されると（ステップＳ２）、その名刺情報の文字情報による印字パターンデータを作成する（ステップＳ９）。 - 特許庁

A CPU stops a CCD sensor's reading an information code (step B9) at a point of time when a feature detecting gate array fails in feature pattern detection for an information code (step B2:YES), to start new reading operation.例文帳に追加

ＣＰＵは、特徴検出用ゲートアレイによる情報コードの特徴パターン検出が失敗すると（ステップＢ２：ＹＥＳ）、その時点でＣＣＤセンサによる情報コードの読み取りを停止させ（ステップＢ９）新たな読取り動作を開始させる。 - 特許庁

A design device uses error extraction processing (step 35) at a corner part and verification processing (step 36) to verify validity of error at a position affected by roundness of corner part among errors caused by a correction pattern.例文帳に追加

設計装置は、補正パターンにより生じるエラーのうち、コーナー部の丸まりの影響を受ける箇所のエラーについては、コーナー部のエラー抽出処理（ステップ３５）と検証処理（ステップ３６）において、その妥当性を検証する。 - 特許庁

In a retrieval meta-information creating process in a step S102, document data is read and illustration specification information and illustration explanation sentences are extracted from the document data based on the extraction pattern data registered in the step S101.例文帳に追加

ステップＳ１０２における検索用メタ情報作成処理では、書籍データが読み込まれ、ステップＳ１０１で登録された抽出パターンデータに基づいて、書籍データの中から図版特定情報と図版説明文が抽出される。 - 特許庁

A manufacture of the silicone coat 3 includes a step for preparing a silicone wafer 4 as a base material of the silicone coat 3, and a step for forming the fine pattern 5 on the surface of the silicone wafer 4 by patterning by lithography and anisotropic dry etching.例文帳に追加

シリンコンコート３の作製は、シリコンコート３の基材としてシリコンウエハ４を準備する工程と、シリコンウエハ４の表面に、リソグラフィによるパターニングと異方性ドライエッチングとによって微細パターン５を形成する工程とを含む。 - 特許庁

Information recorded on a wafer is read out (step 206), and it is determined based upon the information whether a stage used to form a previous pattern on the wafer is the same as a stage scheduled to be used next (step 208).例文帳に追加

ウエハに記録された情報を読み取り（ステップ２０６）、該情報に基づき、ウエハ上に先のパターンを形成する際に使用したステージと、次に使用が予定されているステージとが一致しているか否かを判断する（ステップ２０８）。 - 特許庁

The method comprises: a step, of preparing a sheet, on the outermost surface of which a chromic oxide layer not including ferric oxide substantially is formed, and a step, of forming a plurality of solder bumps, which are located in a specified pattern, on the chromic oxide layer.例文帳に追加

最外表面に実質的に鉄酸化物を含まないクロム酸化物層を有するシートを用意する工程と、前記クロム酸化物層上に、所定のパターンに配置された複数のはんだバンプを形成する工程とを包含する。 - 特許庁

The pattern forming method has a first step for forming the liquid repellent part H by applying a droplet containing a liquid repellent material on the substrate having lyophilic part and a second step for applying the functional liquid on the lyophilic part Pa surrounded by the water repellent part H.例文帳に追加

親液部を有する基板に対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部Ｈを形成する第１工程と、撥液部Ｈに囲まれた親液部Ｐａに機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁

In the case of a time shortening state, specific state performance display is mainly performed in a middle performance pattern beginning with display of the second step performance mode after the first step among the plurality of performance modes sequentially ordered into a plurality of steps.例文帳に追加

時短状態の場合に、複数段階に順番付けられた複数の演出モードのうちの第１段階より後の第２段階の演出モードから表示する途中演出パターンによる特定状態演出表示を主に行う。 - 特許庁

When a color registration adjusting pattern is detected by a color registration detection sensor, and also, when the density of the density adjusting pattern detected by the density sensor is beyond a normal extent, information that abnormality occurs in the printing engine is given to the printing controller (step 112).例文帳に追加

カラーレジ調整用のパターンがカラーレジ検知センサに検知され、濃度センサが検知する濃度調整用パターンの濃度が正常範囲外の場合は、プリントエンジンに異常が発生していることをプリントコントローラに通知する（ステップ１１２）。 - 特許庁

This method comprises a step for exposing the wax pattern 2 into a specific state in order to recover the wax from e.g. the wax pattern 2 used in the investment casting method by using the lost wax technique without damaging included ceramic cores 1;21;31.例文帳に追加

組み込まれたセラミックコア１；２１；３１を損傷させずに、ロストワックス技術を使用してインベストメント鋳造法にて使用したワックス模型２からワックスを回収するため、ワックス模型２を特定の状態に露呈させるステップを備えている。 - 特許庁

In a step for forming a laminate 18, an alignment pattern 14a that can be visually recognized through an area 24 exposing along two continuous peripheries 26a, 26b on the upper surface of the laminate 18 is formed as a conductor pattern.例文帳に追加

積層体１８を形成する工程において、積層体１８の上面の連続する二つの周辺２６ａ，２６ｂに沿って露出した領域２４を介して視認されるアライメントパターン１４ａを導体パターンとして形成する。 - 特許庁

Everytime the pattern is changed at the step (S 350), the working roller during its ascent is rotated so as to set to the head of the pattern worked therewith at the steps (S 315 to S 330) in order to form successively patterns on a sheet material in the working order.例文帳に追加

そして、模様が変わるたびに（Ｓ３５０）、上昇中の加工ローラが加工に用いる模様ので先頭に合わせて回転され（Ｓ３１５〜Ｓ３３０）、加工順序に沿って順次模様がシート材料に形成される。 - 特許庁

In the case of neither the big hit nor the ready-to-win state and in the case that the storage value of the number of starting held balls is the upper limit value, a simultaneous stop variation pattern is selected (step S19), and the patterns of each row are simultaneously stopped to determine the pattern.例文帳に追加

そして、大当りでなく、かつ、リーチでもない場合に、前記始動保留球数の記憶値が上限値の場合に同時停止変動パターンを選択し（ステップＳ１９）、各列の図柄を同時に停止させて図柄を確定する。 - 特許庁