「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A step of a top module necessary for generating hardware logic simulation includes a step for converting an original unit test into an expansion unit test, and a step for generating an input pattern file by performing a unit test to the wrapper class by the expansion unit test.例文帳に追加

さらにハードウエアロジックシュミレーション発生に必要とするトップモジュールのステップは、オリジナルユニットテストを拡充ユニットテストに転換するステップ、拡充ユニットテストはラッパークラス（ｗｒａｐｐｅｒ ｃｌａｓｓ）に対してユニットテストを行い入力パターンファイルを発生するステップを含む。 - 特許庁

In this production method of the integrated circuit, the step parts in the integrated circuit are reduced by providing a step for sticking a first conductive material layer 14 on a first inductive material layer 12 and a step for forming a first conductive pattern 15 by patterning the first conductive material layer 14.例文帳に追加

第一の導電材料層１４を第一の誘電材料層１２の上に付着するステップと、第一の導電材料層１４をパターン化して第一の導電性パターン１５を形成するステップとを備える、集積回路中の段部を少なくする、集積回路の製造方法である。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step to apply a paraffin wax to a dyed cloth, a step to apply a decoloring agent to the dyed cloth having applied paraffin wax, and a decoloring step to heat and decolor the dyed cloth coated with the paraffin wax and the decoloring agent.例文帳に追加

染色布帛にパラフィンワックスを塗布するパラフィンワックス塗布工程と、パラフィンワックスが塗布された染色布帛に脱色剤を塗布する脱色剤塗布工程と、パラフィンワックス及び脱色剤が塗布された染色布帛を加熱して脱色させる脱色工程と、を実行する。 - 特許庁

The method for manufacturing the roller with fine pattern includes a step S101 for casting a ceramic layer on a surface of the roller, steps S102 and S103 for grinding and polishing the surface of the roller, a step S104 for forming patterns on the surface of the roller by a laser, and a step for washing the surface of the roller.例文帳に追加

精密な模様を有するローラーの製造方法は、ローラー表面上にセラミック層を鋳造するステップと、前記ローラーの表面を研削及び研磨するステップと、レーザーでローラー表面に模様を形成するステップと、ローラー表面を洗浄するステップとを含む。 - 特許庁

The method for forming a wiring pattern 79 in a predetermined region on a substrate P by liquid drop ejection method comprises a step for forming a bank B on the substrate P, a step for imparting lyophilic properties to the substrate P, and a step for imparting liquid repellency to the bank B.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定の領域に、液滴吐出法を用いて配線パターン７９を形成する方法であって、基板Ｐ上にバンクＢを突設するバンク形成工程と、基板Ｐに親液性を付与する工程と、バンクＢに撥液性を付与する工程とを有している。 - 特許庁

The phase-change ink can be applied in a process comprising, for example, (1) a step for incorporating the phase-change ink into an ink jet printing apparatus, (2) a step for melting the ink and (3) a step for forming droplets of the melted ink to be ejected in an imagewise pattern onto a substrate to be printed on.例文帳に追加

この相変化インキは、例えば（１）相変化インキをインキジェット印刷装置に組み込む工程と、（２）前記インキを溶融する工程と、（３）被印刷体上に画像の形に射出するための前記溶融インキの液滴を生じる工程と、を含む方法に用いることが可能である。 - 特許庁

HV-ECU performs a program comprising a step (S100) detecting the number of motor rotations and a motor temperature, a step (S102) reading a map and setting a restriction pattern, and a step (S106) for restricting a torque command value when the motor temperature is not less than a load factor deterioration start temperature (YES in S104).例文帳に追加

ＨＶ−ＥＣＵは、モータ回転数とモータ温度とを検出ステップ（Ｓ１００）と、マップを読み出して制限パターンを設定するステップ（Ｓ１０２）と、モータ温度が負荷率低下開始温度以上であると（Ｓ１０４にてＹＥＳ）、トルク指令値を制限するステップ（Ｓ１０６）とを含む、プログラムを実行する。 - 特許庁

In a step 424, a target dosage is changed, centering on the optimum dosage, in a plurality of steps at a finer step pitch and the pattern is transferred to the plurality of regions on the wafer through the projection optical system by exposure processing similar to that in the step 406.例文帳に追加

そして、ステップ４２４で、目標ドーズ量を、上記最適ドーズ量を中心としてより細かいステップピッチで複数段階で変化させて、ステップ４０６と同様の露光処理により前記パターンが投影光学系を介してウエハ上の複数の領域に転写される。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a board for treatment by allowing the surface of a flexible resin board to contact with an ozone solution, a step of subjecting the surface of the board to electroless deposition for the formation of an electroless plate coating on the surface, and a step of forming a wiring pattern on the electroless plate coating.例文帳に追加

フレキシブル樹脂基板の表面とオゾン溶液とを接触させて処理基板を形成する工程と、処理基板の表面を無電解めっき処理して無電解めっき被膜を形成する工程と、無電解めっき被膜上に配線パターンを形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step(a) of forming a resist film on a substrate, a pre-wet step(b) of putting prewet liquid on the resist film and removing the pulley wet liquid, after a certain period of time, and a step(c) of exposing onto the resist film on the substrate via the immersion liquid.例文帳に追加

基板上にレジスト膜を形成する工程（ａ）、該レジスト膜上にプリウェット液を盛り、一定時間後、そのプリウェット液を除去するプリウェット工程（ｂ）、基板上のレジスト膜に液浸液を介して露光する工程（ｃ）を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

At that time, by shifting to an intrinsic notice performance control pattern in the stage of a shifting destination, the step-up notice performance by the performance form intrinsic to the stage of a shifting origin is changed to the step-up notice performance by the performance form intrinsic to the stage of the shifting destination (step S528).例文帳に追加

このとき、移行先のステージで固有の予告演出制御パターンに切り替えることにより、移行元のステージに固有の演出態様によるステップアップ予告演出から移行先のステージに固有の演出態様によるステップアップ予告演出へと変更する（ステップＳ５２８）。 - 特許庁

The method for forming a pattern comprises consecutively carrying out a first step of irradiating a resist film formed on a substrate having a level difference with a charged particle beam and a second step of irradiating the resist film with a charged particle beam at a higher dose than the first step.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、段差を備えた基板上に形成されたレジスト膜に荷電粒子線を照射する第１のステップと、前記レジスト膜に前記第１のステップよりも高いドーズ量で荷電粒子線を照射する第２のステップと、を相前後して行うことを特徴とする。 - 特許庁

Next, in a step S7, a treatment condition is operated from a relative formula between the amount ΔL of deviation and the treatment condition in a pattern size changing process S9 for changing the size of the initial pattern, which is effected in a successive process.例文帳に追加

次に、ステップＳ７にて、ズレ量ΔＬと、後工程で行われる初期パターンの寸法を変化させるためのパターン寸法変更工程Ｓ９における処理条件との関係式から、処理条件を算出する。 - 特許庁

Also, in step S240, since a selected ringer tone/incoming call vibration pattern is demonstrated, the user can confirm whether or not an appropriate ringer tone/incoming call vibration pattern is set immediately after setting it.例文帳に追加

また、ステップＳ２４０にて、選択された着信音・着信振動パターンのデモが行われるので、使用者は適切な着信音・着信振動パターンに設定されたか否かを設定直後に確認することができる。 - 特許庁

In the second step, a pattern constituting the mask has an end part having greater width in the length direction of the pattern, which is a direction intersecting with the axial direction, than the width of center part in the length direction.例文帳に追加

第２の工程においては、マスクを構成する一つのパターンにおいて、軸の方向と交差する方向である当該パターンの長さ方向における端部の幅が、長さ方向における中央部分の幅よりも大きい。 - 特許庁

To provide a gradation interpolation circuit for eliminating a stripe pattern by detecting a border line (step difference) of the stripe pattern caused in a gradation region or the like in a display image caused by roughness of quantization applied to a video signal.例文帳に追加

映像信号の量子化の粗さに起因して表示画像中のグラデーション領域等に生じる縞模様の境界線（段差）を検出して縞模様を解消する階調補間回路を提供する。 - 特許庁

In a fourth step, a test of a semiconductor memory determined as defective memory operation using the test pattern converted to the signal pattern by a semiconductor memory tester, is performed and reappearance of the occurrence of the defective operation is verified.例文帳に追加

第４ステップでは、半導体メモリテスタにより信号パターンに変換されたテストパターンを用いてメモリ動作不良と判定された半導体メモリのテストを実施し、上記動作不良発生の再現を検証する。 - 特許庁

They are so formed that the position of the front end of the non-magnetic layer pattern 12 retreats from the position of the front end of the non-magnetic layer pattern 10 and a step is formed between the non-magnetic layer patterns 10 and 12.例文帳に追加

非磁性層パターン１２の前端の位置は非磁性パターン１０の前端の位置よりも後退するようにし、非磁性層パターン１０と非磁性層パターン１２との間に段差が形成されるようにする。 - 特許庁

Subsequently, a prescribed test pattern generation means for failure verification such as an ATPG is applied to the logic circuit after the sequence circuit is replaced by the combination circuit, thereby generating an input test pattern (step S2).例文帳に追加

続いて、順序回路を組み合わせ回路で置換した後の論理回路に対してＡＴＰＧ等の所定の故障検証用テストパターン生成手段を適用して入力テストパターンを生成する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To suppress generation of defects such as disconnection in a PDP pattern due to dust or the like depositing on a photomask in an exposure step, and to obtain a uniform pattern width even in a large screen with high definition.例文帳に追加

露光工程時におけるフォトマスクに付着したダスト等によりＰＤＰのパターンに断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、大画面、高精細であっても均一なパターン幅を得ることを目的とする。 - 特許庁

In a second step, releasing the flexible polymer from the template is followed by pressing the inverse pattern of the flexible polymer replica into a resist layer (14) on a substrate to imprint a replica of the pattern of the template surface in therein.例文帳に追加

第二工程で、可撓性重合体レプリカをテンプレートから引き離した後、可撓性重合体レプリカの逆パターンを、基材上のレジスト層１４中にプレスし、テンプレート表面のパターンのレプリカをインプリントする。 - 特許庁

In an operation mode which is performed by an engine part alone, such as a density control mode accompanied with patch image formation, a test pattern offset value Tot is obtained as the amount of toner consumption corresponding to the formed image pattern (step S141).例文帳に追加

一方、パッチ画像形成を伴う濃度制御モードのように、エンジン部が単独で行う動作モードでは、形成する画像パターンに応じたトナー消費量としてテストパターンオフセット値Ｔｏｔを求める（ステップＳ１４１）。 - 特許庁

To provide a decoration sheet suppressing blocking when winding is once carried out at the step of forming a picture pattern layer, and also excellent in color property and weathering stability of the picture pattern layer.例文帳に追加

絵柄模様層を形成した段階で一旦巻き取りを行った場合でもブロッキングが抑制されており、しかも絵柄模様層の色彩特性及び耐候安定性が良好である化粧シートを提供する。 - 特許庁

In the step of forming the wiring groove pattern, the wiring groove pattern is not formed in a region present above a peripheral part of the substrate 1, which is a region in which the plating film 9 is not formed in the insulating film 2.例文帳に追加

配線溝パターンを形成する工程は、絶縁膜２におけるメッキ膜９が形成されない領域である基板１の周縁部の上方に存在している領域には、配線溝パターンを形成しない。 - 特許庁

The manufacturing method is designed for manufacturing the plastic member with a three-dimensional pattern surface and a flat surface, and comprises a step to form a thin film layer which generates the visual effect on the three-dimensional pattern surface or the flat surface of the plastic member.例文帳に追加

製作方法は、立体模様面と平坦面を有するプラスチック部材を製作し、プラスチック部材の立体模様面または平坦面に視覚効果を生じさせる薄膜層を形成するステップからなる。 - 特許庁

The data operating section at the image processing section 102 determines the average value of 16 uniform patterns, i.e., the same data pattern of read out color pattern image data, and then determines the difference between the average value and each of the 16 uniform patterns (Step 204).例文帳に追加

画像処理部１０２のデータ演算部は、読み取ったカラーパターン画像データの同一データパターンである均一パターンそれぞれ１６個の平均値を求め、その平均値とそれぞれ１６個との差を求める（ステップ２０４）。 - 特許庁

Also, in a step S240, since a selected ringer tone/incoming call vibration pattern is demonstrated, the user confirms whether or not an appropriate ringer tone/incoming call vibration pattern is set immediately after it is set.例文帳に追加

また、ステップＳ２４０にて、選択された着信音・着信振動パターンのデモが行われるので、使用者は適切な着信音・着信振動パターンに設定されたか否かを設定直後に確認することができる。 - 特許庁

For aligning the number of stripes of interference pattern to be within a target number in a specific tolerance range, alignment processing including processing for detecting the number of the stripes of the interference pattern (step S201) is conducted.例文帳に追加

干渉縞の縞本数が、所定の許容範囲である目標縞本数範囲内となるようにアライメントを行うため、干渉縞の縞本数を検出する処理を含むアライメント処理が行われる（ステップＳ２０１）。 - 特許庁

The cordless telephone master set 7 is provided with a specific call signal pattern detection function and when the cordless telephone master set 7 detects a specific call signal pattern from the center 2, the cordless telephone master set 7 calls a specific cordless telephone slave set 8-1 only (step 202).例文帳に追加

コードレス電話親機７に特殊な呼出信号パターン検出機能を設け、センタ２からの特殊な呼出信号パターンを検出すると、特定のコードレス電話子機８−１のみを呼び出す（ステップ２０２）。 - 特許庁

The upper surface of the wiring pattern 2 in the border region 4b is formed to be recessed from the upper surface of the wiring pattern 2 in the wiring region 4a, and a step 2b is provided in the border region 4b.例文帳に追加

境界領域４ｂにおける配線パターン２の上面は配線領域４ａにおける配線パターン２の上面よりも窪むように形成され、境界領域４ｂには段差部２ｂが設けられる。 - 特許庁

The method for manufacturing wiring includes a step of ejecting locally a composition containing a conductive material on a first pattern so as to form a conductor functioning as a pillar, a step of forming a dielectric so as to cover the conductor, a step of etching the dielectric so as to expose a part of the conductor, and a step of forming a second pattern on the exposed conductor.例文帳に追加

本発明の配線の作製方法は、第１のパターン上に導電性材料を含む組成物を局所的に吐出してピラーとして機能する導電体を形成するステップと、前記導電体が覆われるように絶縁体を形成するステップと、前記導電体の一部が露出するように前記絶縁体をエッチングするステップと、露出した前記導電体上に第２のパターンを形成するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of processing the glass substrate has a first step S1 for polishing the processing surface of the glass substrate, a third step S3 and a forth step S4 for forming an etching mask on the processing surface and a fifth step S5 for pattern-forming a micro-processed uneven structure on the processing surface of the glass substrate by wet-etching.例文帳に追加

本発明のガラス基板の加工方法は、ガラス基板の被加工面を研磨する第１工程Ｓ１と、前記被加工面にエッチングマスクを形成する第３工程Ｓ３及び第４工程Ｓ４と、湿式エッチング処理により前記ガラス基板の被加工面に前記微細凹凸構造をパターン形成する第５工程Ｓ５と、を有する。 - 特許庁

A detection stage comprises a step where the multilayer wiring board is irradiated with the X-ray to image the reference mark, a step where the picked-up image is scanned with the template for a pattern matching process, a step where the center position of the image of the reference mark is detected based on the center position data registered in the template, and a step to output the data.例文帳に追加

また、多層配線板にＸ線を照射して基準マークを撮像するステップ、撮像された画像にテンプレートをスキャンしてパターンマッチング処理をするステップ、テンプレートに登録されている中心位置データに基づいて基準マークの画像の中心位置を検出するステップ、このデータを出力するステップからなる検出段階での各ステップを具備する。 - 特許庁

(1) The method for forming a conductor interconnection circuit on a semiconductor wafer comprises a step for laying a metal foil for forming interconnection on the side for forming the electrodes of the semiconductor wafer having circuit elements formed on the surface, a step for forming an interconnection pattern on the metal foil, a step for etching the metal foil, and a step for removing resist and forming an interconnection.例文帳に追加

（１）表面に回路素子の形成された半導体ウェハ上の電極形成面側に配線形成用金属箔を積層する工程、該金属箔上に配線パターンを形成する工程、金属箔のエッチングを行う工程、および、レジストを除去して配線を形成する工程を含む、半導体ウェハ上の導体配線回路形成方法。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ア）半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、（イ）前記レアメタル層上にＴａＯ膜を形成する工程と、（ウ）前記ＴａＯ膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、（エ）前記パターニングされたＴａＯ膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board has a blackening step of blackening the surface of a conductive layer provided on an insulating substrate; a photolithography step of laminating a dry film on the blackened surface, and exposing and developing the dry film; and an etching step of etching the conductive layer exposed by the photolithography step to form the circuit pattern.例文帳に追加

絶縁基板上に設けられた導電層の表面を黒化する黒化処理工程と、黒化された該表面にドライフィルムを積層し、該ドライフィルムを露光、現像するフォトリソグラフィ工程と、該フォトリソグラフィ工程により露出した導電層をエッチングして回路パターンを形成するエッチング工程とを有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps 201 and 202 of forming a chemically amplified resist layer on a semiconductor substrate; a step 203 of patternwise exposing the chemically amplified resist layer; a step 204 of heating the chemically amplified resist layer after the exposure; a first developing step 205 in which alkali concentration is high; and a second developing step 206 in which alkali concentration is low.例文帳に追加

半導体基板上に化学増幅型レジスト層を形成する工程２０１、２０２と、化学増幅型レジスト層をパターン露光する工程２０３と、露光処理後に化学増幅型レジスト層を加熱する工程２０４と、アルカリ濃度の高い第一現像処理工程２０５、その後アルカリ濃度の低い第二の現像処理工程２０６を含む。 - 特許庁

The image synthesizing method comprises: a step for inputting a predetermined pattern image; a conversion step for coupling a plane conversion and a cylindrical column conversion; a coupling computation step for coupling linear difference coupling and alpha blend computation; and a horizontal synthesizing processing step for making processed images into one seamless wide angle image by horizontally coupling them mutually.例文帳に追加

所定のパターン画像を入力するステップ、平面及び円柱変換を結合する変換を行うステップ、線形差分結合とアルファブレンド計算を結合する結合計算を行うステップ、処理済画像を水平方向に互いに一緒にして１個の継ぎ目のない広角画像にする水平合成処理を行うステップから成る。 - 特許庁

The method of manufacturing the pattern electrode formed of a conductive layer formed on a support body and containing metal fine particles, includes a step of forming the conductive layer by coating a liquid containing metal fine particles on the support body, a step of pattern-printing metal fine particle-removing liquid on the conductive layer, and a cleaning step.例文帳に追加

支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 - 特許庁

In the application process of a finger line, supply of paste from a second nozzle 57 is once stopped and, thereafter, is started again (step S54, step S56) on the basis of image data of the bus line pattern 71 obtained by an imaging process (step S52) for imaging the bus line pattern 71 formed on the substrate relatively moved with a CCD camera 11 fixed and arranged with respect to the nozzle.例文帳に追加

フィンガー配線の塗布工程において、ノズルに対して固定配置されたＣＣＤカメラ１１により、相対移動する基板に形成されたバス配線パターン７１を撮像する撮像工程（ステップＳ５２）により得られたバス配線パターン７１の画像データに基づき、第２ノズル５７からのペーストの供給を一旦、停止した後、ペーストの供給を再び開始する（ステップＳ５４，ステップＳ５６）。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises a step of mounting an electrode forming surface of a semiconductor chip 10 oppositely on a board 20 having a wiring pattern 22 on at least one surface and electrically fixedly connecting the electrode 12 to the pattern 22, and a step of grinding a surface of the board 20 at its opposite side of the chip 10 after the previous step.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、配線パターン２２を少なくとも一方の面に有する基板２０に、半導体チップ１０における電極形成面を対向させて搭載し、前記電極１２と前記配線パターン２２とを電気的に接続して固定する工程と、前記工程後に、前記半導体チップ１０における前記基板２０とは反対側の面を研削する工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method includes: a first step to etch a bulk substrate so as to form at least one floating body pattern; a second step to etch a bulk area beneath the floating body pattern so as to divide the bulk substrate into a substrate area and a floating body area; and a third step to fill an area between the floating body area and the substrate area with an insulating material.例文帳に追加

バルク基板をエッチングして少なくとも一つのフローティングボディーパターンを形成する第１工程と、フローティングボディーパターン下部のバルク領域をエッチングして、バルク基板を基板領域とフローティングボディー領域とに分離する第２工程と、フローティングボディー領域と基板領域との間を絶縁物質で満たす第３工程と、を含む半導体基板の製造方法。 - 特許庁

The method includes a step for acquiring information related to data to be transferred to a first telecommunication device, a step for adjusting a transmission power of a signal representing a pilot symbol pattern according to the relevant information, and a step for transferring the signal representing a pilot symbol pattern by the adjusted transmission power, as a plurality of steps to be executed by a second telecommunication device.例文帳に追加

方法は、第２の電気通信デバイスによって実行される複数のステップとして、第１の電気通信デバイスへ転送されるべきデータに関連する情報を取得するステップと、関連する情報に応じて、パイロットシンボルパターンを表す信号の送信電力を調整するステップと、パイロットシンボルパターンを表す信号を調整された送信電力で転送するステップとを含む。 - 特許庁

The optimal designing method of an antenna comprises a step for constituting a rod antenna of a prism or a circular cylinder, a step for generating an antenna element pattern on the side face of the prism or the circular cylinder, and a step for searching the antenna element pattern for optimizing antenna characteristics of the rod antenna using genetic algorithm or a random search method.例文帳に追加

本発明に係るアンテナ最適設計方法は、多角柱又は円柱によって前記ロッド型アンテナを構成する工程と、前記多角柱又は前記円柱の側面上にアンテナ素子パターンを生成する工程と、遺伝的アルゴリズム又はランダムサーチ法を用いて、前記ロッド型アンテナのアンテナ特性が最適となる前記アンテナ素子パターンを探索する工程とを有する。 - 特許庁

The method for producing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate has a film deposition step in which the film for forming a mask pattern is deposited by sputtering in a sputtering atmosphere in which at least gaseous helium is contained and a step for heating the transparent substrate during or after the film deposition step.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁