「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

An optimal traveling pattern calculation part calculates a traveling pattern which makes an optimal fuel consumption using traveling environmental information, storage information and vehicle traveling information, and calculates an optimal control variable of an accelerator pedal in the traveling pattern (step S120).例文帳に追加

最適走行パターン演算部は、走行環境情報と記憶情報と車両走行情報とを用いて、最適な燃料消費率となる走行パターンを演算し、その走行パターンにおけるアクセルペダルの最適操作量を算出する（ステップＳ１２０）。 - 特許庁

To obtain an exposure device capable of making small a step formed at an oblique contour part of a drawing pattern without increasing original image data.例文帳に追加

オリジナルの画像データを増やさずに、描画パターンの斜め輪郭部に生じる段差を小さくすることができる露光装置を得る。 - 特許庁

Then, one or more missed patterns other than a big hit pattern are gradually removed while continuing this reciprocating action (Step S95).例文帳に追加

その後、この往復変動を継続しながら大当たり図柄以外の１または複数のはずれ図柄を徐々に除いていく（ステップＳ９５）。 - 特許庁

Step ST11: Design pattern data are prepared in which contact holes are arranged on a part of grid points in matrix.例文帳に追加

マトリクス配置されたグリッド点に対して、一部のグリッド点上にコンタクトホールが配置された設計パターンデータを用意する（ステップＳＴ１１）。 - 特許庁

In the bonding material formation step S1, the bonding material is formed to have a predetermined shape pattern in a mounting region of a component.例文帳に追加

接合用材料形成工程Ｓ１では、部品の実装領域に、接合用材料を、所定の形状パターンでもって形成する。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a first region having a first pattern density on the semiconductor substrate 1, and a second region having a second pattern density that is smaller than the first pattern density; a step of forming a light transmission film that is composed of a silicon oxide film and silicon nitride film on the first region; and a step of irradiating the semiconductor substrate 1 with light through the light transmission film.例文帳に追加

本発明では、半導体基板１上に、第１のパターン密度を有する第１の領域と、第１のパターン密度より密度が小さい第２のパターン密度を有する第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域上にシリコン酸化膜及びシリコン窒化膜からなる光透過膜を形成する工程と、前記光透過膜を通して前記半導体基板１に光を照射する工程と、を備える。 - 特許庁

In a step S34, a display device displays a list of image data depending on the pattern of the hierarchical relation denoted by the designated image mark.例文帳に追加

ステップＳ３４において、指定されたイメージマークが表す階層関係のパターンに応じて、画像データの一覧をディスプレイに表示する。 - 特許庁

The max. and min. values detected are used to approximate the phase distribution I(i, j) as a sawtooth pattern in a step 116.例文帳に追加

そして、検索された極大値及び極小値を用い、ステップ１１６において、位相分布Ｉ（ｉ、ｊ）を鋸歯状パターンで近似する。 - 特許庁

To quickly obtain final pattern data in a mask design step where masks used in the manufacture of a semiconductor integrated circuit device are designed.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造に用いられるマスクの設計段階において、最終的なパターンデータを迅速に得ること。 - 特許庁

As a result, when it is determined that the application is preliminarily registered (Yes), the MFP automatically executes the printing of a woven pattern (step S12).例文帳に追加

その結果、登録されているアプリケーションに該当していれば（Ｙｅｓ）、ＭＦＰは自動的に地紋印刷を実行する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

In this case, the second oxide film pattern is diffused by annealing to have a step on the surface of the deep well region.例文帳に追加

このような場合、アニーリングによって第２酸化膜パターンが拡散して高電圧ディープウェル領域の表面に段差が発生する。 - 特許庁

When the value of the counter CT is 400 or more, the scene of paradise is displayed as the background of each special pattern (step S290).例文帳に追加

カウンタＣＴの値が４００以上の場合は、各特別図柄の背景表示としてパラダイスの風景が表示される（ステップＳ２９０）。 - 特許庁

The method for making a phase modulation type hologram not substantially accompanied by a surface relief image due to irregularity includes (1) a step of computing a variation pattern of light transmittance as a mask pattern through a computer generated hologram, (2) a step of making a photomask from the computed mask pattern, and (3) a step of exposing an index modulation type photopolymer with light passed through the photomask.例文帳に追加

（１）マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、（２）計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および（３）当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。 - 特許庁

Each size of the resist patterns is measured by a pattern size measuring apparatus and output the results of the measurement is output by a controlling section (Step S1).例文帳に追加

パターン寸法測定装置において、それぞれのレジストパターン寸法を測定し、測定結果を制御部に出力する（ステップＳ１）。 - 特許庁

A ratio of the TOP dimension to the BOTTOM dimension (the TOP dimension/the BOTTOM dimension) is computed for each test pattern (step S13).例文帳に追加

テストパターンごとに、ＴＯＰ寸法とＢＯＴＴＯＭ寸法の比率（ＴＯＰ寸法／ＢＯＴＴＯＭ寸法）を算出する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

To form a conductive pattern with ease, at a low cost, and with high precision, in a region where a flat surface and a step part of a substrate are formed.例文帳に追加

基板の平面と段差部が形成された領域に、導電性のパターンを簡便に、低コストで、かつ高い精度で形成する。 - 特許庁

The method further includes a step of generating a vertical mask based on the target pattern where the vertical mask contains low contrast horizontal features.例文帳に追加

この方法は、ターゲットパターンに基づいて垂直マスクを作成するステップをさらに含み、垂直マスクは低コントラスト水平フィーチャを含む。 - 特許庁

The EUV mask having a multilayer film and an absorber pattern is placed on a mask stage, and the position of a reference mark is detected (step S101).例文帳に追加

多層膜と吸収体パターンとを有するＥＵＶマスクをマスクステージに載置し、基準マークの位置を検出する（ステップＳ１０１）。 - 特許庁

Thereafter, a treatment liquid at 3°C is supplied onto the substrate to lower surface tension of the rinse agent on the resist pattern of the substrate (step S5).例文帳に追加

その後、基板上に３℃の処理液を供給して、基板のレジストパターン上のリンス液の表面張力を低下させる（ステップＳ５）。 - 特許庁

Then, in a step S4, second exposure treatment is performed by only deciding an ordinary pattern forming area as a substantial object to be exposed.例文帳に追加

次に、ステップＳ４において、通常パターン形成領域のみを実質的な露光対象とする第２の露光処理を実行する。 - 特許庁

At this time, even while the performance display is performed, the advance notice message is kept displayed at the sub pattern display device (step S5).例文帳に追加

その際、この演出表示が行われているときも、前記副表示装置には予告メッセージを表示したままとする（ステップＳ５）。 - 特許庁

The method enables a step (104) where a spot pattern including plural spots is decided on a first surface of a part to which the peening is given.例文帳に追加

ピーニングを加えるべき部品の第１表面上に、複数のスポットを含むスポットパターンを定める段階（１０４）を可能にする。 - 特許庁

In a third processing step, a part of the photoresist layer 9 is removed by development such that an initial surface pattern having sacrificial layer regions 25 is obtained.例文帳に追加

第３処理ステップにて、フォトレジスト層９の一部を現像除去し、犠牲層領域２５を有する初期表面パターンを得る。 - 特許庁

In a determination step S2, the body shape is determined when self-organization of a high-dimension local correlation pattern is carried out by using a neural network.例文帳に追加

判定ステップＳ２では、ニューラルネットを用いて高次局所相関パターンを自己組織化することにより身体形状を判定する。 - 特許庁

An input device is used to designate a pattern of a hierarchical relation among images of micro films denoted by an image mark in a step S31.例文帳に追加

ステップＳ３１において、入力デバイスを用いてイメージマークが表すマイクロフィルムの複数画像間の階層関係のパターンを指定する。 - 特許庁

A method for forming a pattern includes a step of forming a film which comprises a pattern forming material containing a copolymer having a polystyrene derivative and a polymethacrylate derivative containing silsesquioxane, a step of forming a microphase separation structure in the film, and a step of etching the substrate with a phase of a polymer chain containing the silsesquioxane as a mask and transferring a pattern of the microphase separation structure on the substrate.例文帳に追加

ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

When the value in the counter CT is at least 400, a scene in Paradise is displayed as a background display of each special pattern (Step S290).例文帳に追加

カウンタＣＴの値が４００以上の場合は、各特別図柄の背景表示としてパラダイスの風景が表示される（ステップＳ２９０）。 - 特許庁

A scanner section 101 reads out the image data of a mounted color pattern and delivers it to the data operating section at an image processing section 102 (Step 203).例文帳に追加

スキャナ部１０１は、載置されたカラーパターンの画像データを読み取り、画像処理部１０２のデータ演算部に出力する（ステップ２０３）。 - 特許庁

The method for forming a pattern is constituted by at least a step wherein the photosensitive layer of the photosensitive film is exposed to light.例文帳に追加

前記感光性フィルムにおける感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

The first step comprises making an intermediate laminated body having a cavity corresponding to a wax pattern by removing the wax by the lost wax process.例文帳に追加

第１工程：ロストワックス法にしたがい、脱ワックス処理して、ワックス模型に相当するキャビティを有する中間積層体を得る工程。 - 特許庁

Then, as a second step, for example, a matching size including one contact hole is chosen, and the pattern matching is applied on the left section B.例文帳に追加

第２段階として、例えば、コンタクトホール１個を含むようにマッチングサイズを選び、この残り部分Ｂに対して、パターンマッチングを実行する。 - 特許庁

To eliminate effects of ununiformity of a lower wiring structure such as a step, etc., when a photoresist pattern is formed by electron beam linear drawing.例文帳に追加

電子線直描によりフォトレジストパターンを形成するに際して、段差等の下層配線構造の非一様性の影響を除去する。 - 特許庁

A damascene metallization method comprises a step for making a trench in a desired interconnect pattern in a porous insulation layer formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上の多孔性絶縁層中の所望の配線パターンにトレンチを形成する工程等を含むダマシン金属化方法。 - 特許庁

The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).例文帳に追加

さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁

Then a photoresist pattern 206 is formed by leaving the photoresist on a low-voltage element forming area 202 in a photolithography step.例文帳に追加

次に、フォトリソグラフィ工程を施して、低電圧素子形成領域２０２上にフォトレジスト膜を残し、フォトレジストパターン２０６を形成する。 - 特許庁

Since the substrate whose temperature is controlled at a desired value is shifted to the following step, a variance of line width of the pattern after development can be eliminated.例文帳に追加

この基板温度が所望値に制御された基板が次工程に移行されるので、現像後のパターンの線幅のバラツキを抑制する。 - 特許庁

On the other hand, the dividing information is removed from the inputted business card information (Step S10), and the business card information from which the dividing information is removed is converted to pattern data of a QR code symbol (Step S11).例文帳に追加

一方、入力された名刺情報から区切り情報を除去し（ステップＳ１０）、その区切り情報を除去した名刺情報をＱＲコードシンボルのパターンデータに変換する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

The stack is pattern-formed (step 30) so as to form an opening part which is used in order to form the side-wall capacitor (step 35) when a via or a groove of the dual damascene structure is formed.例文帳に追加

スタックは、二重ダマシーン構造のバイアまたは溝が形成される際に側壁コンデンサを形成するために用いられる開口部が形成され（ステップ３５）得るようにパターン化される（ステップ３０）。 - 特許庁

To provide a game machine which updates the performance pattern step by step with the storage of game information, and a game system.例文帳に追加

段階的に演出パターンが更新される遊技において、その遊技情報を外部の携帯端末に記憶させることを契機として演出パターンが更新される遊技機及び遊技システムを提供すること。 - 特許庁

Subsequently, the pattern measurement apparatus maps a basic shape to the image border line (step S304), and obtains a position of a measurement border line using the normal vector corresponding to the basic shape mapped to the image border line (step S305).例文帳に追加

次に、画像輪郭線に基本形状をマッピングし（ステップＳ３０４）、画像輪郭線にマッピングされた基本形状に対応する法線ベクトルを用いて測長輪郭線の位置を求める（ステップＳ３０５）。 - 特許庁

The shift pattern control method comprises a step of determining whether a throttle valve is opened/closed or not, and a step of maintaining a speed ratio for a set time when the throttle valve is in a closed condition.例文帳に追加

本発明による変速パターン制御方法は、スロットルバルブの開閉有無を判断する段階と、スロットルバルブが閉鎖された状態である場合、設定時間の間変速比を維持する段階とを含む。 - 特許庁

In the second step, a process in which a mask 13A having a pattern shape corresponding to the second magnetic part is provided on the magnetic film 5 via the step is performed for each part between servo region formation planned parts.例文帳に追加

第２工程では、当該過程を経て、第２磁性部に対応したパターン形状を有するマスク１３Ａを磁性膜５上に設けることをサーボ領域形成予定箇所間毎に行う。 - 特許庁

The shift pattern control method can also comprise a step of detecting whether a brake is operated or not, and a step of continuously maintaining the speed ratio when the brake is being operated after the set time passes.例文帳に追加

変速パターン制御方法は、ブレーキの作動有無を検出する段階と、設定時間が経過してもブレーキが作動中であれば、変速比を維持し続ける段階とをさらに含むことができる。 - 特許庁

In the electromagnetic wave shielding material manufacturing method, the second step is the step of crimping the conductive sheet on which the conductive pattern is formed onto a sheet in which a resin layer is formed on a second base.例文帳に追加

第２の工程が、第２の基材上に樹脂層を形成したシートに、導電性パターンを形成した導電性シートを圧着させるものである上記電磁波遮断材の製造方法。 - 特許庁