「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for forming resist pattern in which exposure is performed in a vacuum or a dry atmosphere, a resist is applied to a substrate in a resist applying step S1 and, after applying the resist, the substrate is pre- baked in a pre-baking step S2.例文帳に追加

真空中または乾燥雰囲気下で露光するレジストパターン形成方法において、レジスト塗布工程Ｓ１で基板にレジストを塗布し、レジスト塗布後にプリベーク工程Ｓ２で基板をプリベークする。 - 特許庁

A same pattern as that of the display part is formed in the peripheral part of the substrate to be separated from the panel so that the step structure of the peripheral part of the substrate is made aligned to the step structure of the display part.例文帳に追加

パネルから切り離される基板周辺部にも表示部と同様のパターンを形成することにより、図示された基板周辺部の段差構造を表示部の段差構造に揃える。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed matter includes: a step in which a printing layer 109 is provided at a base material 107 using a predetermined pattern; and a step in which an opening 111 penetrating through the base material and the printed matter is provided in an opening formation region.例文帳に追加

基材１０７に所定パターンで印刷層１０９を設ける工程と、基材及び印刷層を貫通する開口部１１１を開口部形成領域に設ける工程とを含む。 - 特許庁

A method of forming film pattern comprises: a step of forming a first bank layer 35 by locating a first bank forming material on the substrate 18; and a step of forming a second bank layer 36 on the first bank layer 35.例文帳に追加

基板１８上に第１のバンク形成材料を配置して第１バンク層３５を形成する工程と、第１バンク層３５上に第２バンク層３６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The step of optionally removing the transfer paper includes a step of wetting the transfer paper, in a manner such that the transfer paper is dissolved, leaving the printed antenna pattern on the surface of the material to be etched.例文帳に追加

転写紙除去ステップは任意的に、エッチング対象の材料の表面上に印刷アンテナパターンを残した状態で転写紙を溶解するように該転写紙を湿潤させるステップを含む。 - 特許庁

In a step S24, the arrangement of the blocks selected in the step S23 is so determined that a block is closer and closer to the center of the block mask as the size of the minimum exposure pattern included in the block is smaller and smaller.例文帳に追加

ステップＳ２４は、ステップＳ２３において選択されたブロックを、例えば、そのブロックに含まれている最小の露光パターンのサイズが小さい程、ブロックマスクの中央にくるように配置を決定する。 - 特許庁

The method comprises the step of obtaining secondary electron images of sites on a sample surface by irradiating the sample surface with charged particle beams, and the step of detecting a pattern having bad electric properties based on the images.例文帳に追加

試料表面に荷電粒子ビームを照射して試料表面の各部位の二次電子画像を得る工程と、その画像に基づいて電気特性の不良なパターンを検出する工程を含む。 - 特許庁

When the execution of fixing operation is confirmed in a step 305, the pattern of a leading record is drawn by accessing a communication class database correspondently storing respective patterns and communication classes (step 307).例文帳に追加

ステップ３０５で確定操作が行われたことが確認された場合には、各パターンと通信種別とを対応させて記憶した通信種別データベースにアクセスし、先頭レコードのパターンを引き出す（ステップ３０７）。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step for forming a hydrophobic film having a photosensitive hydrophobic group on a substrate, a step for forming a hydrophilic pattern by irradiating the hydrophobic film formed on the substrate with light and a step for depositing a metal oxide for enhancing pattern resolution on the hydrophilic pattern particularly by putting the substrate with the formed hydrophilic pattern in an atmosphere of a hydrolyzable metal oxide precursor.例文帳に追加

基板上に感光性の疎水基を有する被膜を形成する疎水性被膜形成工程と、該疎水性被膜形成工程により基板上に形成された疎水性被膜に光を照射して親水性のパターンを形成する親水性パターン形成工程を施した後に、パターン解像度を向上させるための金属酸化物析出方法として、特に、該親水性パターンを形成した基板を加水分解性金属酸化物前駆体の雰囲気におくことによる、該親水性パターン上に金属酸化物を析出させる工程からなるようにした。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜３と帯電防止膜５との間に中間膜４を形成する工程と、基板試料１に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料１に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料１に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

Furthermore, the patterns are generated by deciding graphics to be components to constitute the patterns to be created by a fundamental element selection step 40 and arranging the graphics decided by the fundamental element selection step 40 in images to be the patterns based on the numerical value data created by the analysis step 30 by a pattern generation step 50.例文帳に追加

さらに基本要素選択ステップ４０で、作成する模様を構成する構成要素となる図形を決め、模様生成ステップ５０で、基本要素選択ステップ４０で決められた図形を、解析ステップ３０で作成した数値データに基づいて、模様となる画像内に配置して模様を生成する。 - 特許庁

Accordingly, because the pattern 123 of the conversation and the pattern 133 of the conversation can be simultaneously visually recognized in the video of the step-up notice 3, a player becomes easy to visually comprehend a difference between two sides.例文帳に追加

このため、ステップアップ予告３の映像で会話の絵柄１２３および会話の絵柄１３３が同時に視覚的に認識可能となるので、両者の違いを遊技者が視覚的に把握し易くなる。 - 特許庁

To provide a method for creating a pattern for reducing deviation from a design pattern of a post-etching feature caused by a step feature that generates after rule-base OPC used for correcting a residual component of an OPC model.例文帳に追加

パターン作成方法に関し、ＯＰＣモデルの残渣成分を補正するために用いるルールベースＯＰＣ後に発生する段差形状に起因するエッチング後形状と設計図パターンとの乖離を低減する。 - 特許庁

The CPU of a change instruction board confirms a variation pattern determined by a main CPU and judges whether the variation pattern satisfies or not launch stop conditions set by a selector switch (Step S26).例文帳に追加

変更指示基板のＣＰＵは、メインＣＰＵにより決定された変動パターンを確認し、その変動パターンが切換スイッチにより設定された発射停止条件を充足するか否か判定する（ステップＳ２６）。 - 特許庁

When the MODE value acquired at the time is FFH (Yes), it is decided that a different variation pattern group address selection table is selected, and a variation pattern group selection random number is acquired (step S506).例文帳に追加

このとき取得したＭＯＤＥ値がＦＦＨであれば（Ｙｅｓ）、別の変動パターングループアドレス選択テーブルを選択したものと判断し、変動パターングループ選択乱数を取得する（ステップＳ５０６）。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2).例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which improves dimensional precision of a conductor pattern when the conductor pattern (for example a gate electrode) is formed in the region close to a step part.例文帳に追加

段差部に近接した領域に導電体パターン（例えばゲート電極）が形成される場合に、導電体パターンの寸法精度を高くすることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface forming method is a method for forming a desired pattern in a calcium fluoride substrate and has a step for irradiating the substrate with a beam through a mask in which the above desired pattern has been formed.例文帳に追加

弗化カルシウム基板に所望のパターンを形成する方法であって、前記所望のパターンが形成されたマスクを介して前記基板にビームを照射するステップを有する形成方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a step 404 of determining, when a predetermined pattern is drawn on the display surface of an LCD, the matching of the drawn pattern to one of preliminarily registered patterns.例文帳に追加

ＬＣＤの表示面上に所定のパターンを描画したとき、その描画されたパターンと、あらかじめ登録してあるパターンのうちの１つのパターンとのマッチングを判別するステップ４０４を設ける。 - 特許庁

In the opening formation step, an opening which exposes the pattern 111 for measuring shift in position and a second pattern 102 are formed in a second layer 103, which is stacked so as to be higher than the first layer.例文帳に追加

開口部形成工程では、前記第１層よりも上層に積層した第２層１０３に前記位置ズレ計測用のパターン１１１を露出させる開口部と第２パターン１０２とを形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of stably forming a fine pattern which is 50 nm or less by minimizing nonuniformity generated at the time of CMP in the step of forming the fine pattern.例文帳に追加

微細パターンの形成工程におけるＣＭＰ時に生じる不均一性を最小化し、５０ｎｍ以下の微細パターンを安定的に形成可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A plurality of substrates in which a prescribed pattern is transferred are manufactured using an injection molding device for transferring a stamper on which the prescribed pattern is formed, by performing the step of manufacturing the disk substrates one after another.例文帳に追加

所定パターンが形成されたスタンパを転写する射出成形装置を用いて、ディスク基板を製造する工程を順次行って、所定パターンが転写された基板を複数枚製造する。 - 特許庁

In the method, a step 240 of processing image data into halftone data is executed by using a processor which can process a first halftone pattern having a first data width into SIMD-processed pattern having a second data width.例文帳に追加

第１データ幅を有する第１ハーフトーンパターンを、第２データ幅を利用するＳＩＭＤ可能なプロセッサを用いて、画像データにハーフトーン化処理２４０を実行するための方法を提供する。 - 特許庁

In a step of manufacturing the printed circuit board by a semi additive method, the seed layer 2 is formed by an electroless copper plating method, followed by forming the circuit pattern 4 by a copper electroplating method by using a resist pattern 3.例文帳に追加

セミアディティブ法によるプリント基板の製造工程では、無電解銅めっき法によりシード層２が形成され、その後、レジストパターン３を用いて電解銅めっき法により回路パターン４が形成される。 - 特許庁

A reference speed level is plurally set at A and B levels, and a speed pattern is changed to a pattern during transition of forming a step-wise portion when a speed of the carriage reaches the set A level during the slow up.例文帳に追加

基準速度レベルをＡ，Ｂ複数レベル設定し、スローアップ時にキャリッジの速度が設定されたＡレベルに達したときに階段状部分（定速）を作る移行時のパターンに変更する。 - 特許庁

The communication mode detection method includes a step of receiving a communication frame pattern of data transmitted from a near field communication initiator after making the communication frame pattern synchronized with a preset sampling clock.例文帳に追加

本発明の通信モード検出方法によれば、近距離通信イニシエータから伝送されるデータの通信フレームパターンを予め設定されたサンプリングクロックに同期して受信する段階が用意される。 - 特許庁

A photoresist film 30 is formed on the inorganic insulating layer 23, subjected to light exposure of a pattern shape, and then subjected to a developing treatment with use of a developer to form a resist pattern 30B' in a developing step.例文帳に追加

そして、この無機絶縁層２３上にフォトレジスト膜３０を形成してパターン状に露光した後に、現像工程において、現像液を用いて現像することでレジストパターン３０Ｂ’を形成する。 - 特許庁

The wiring support substrate is separated from the molding to expose from the molding a main surface of the wiring pattern opposite to a main surface where the wiring pattern is connected to the electrodes (step S3).例文帳に追加

次に、配線支持基材を成形体から離し、配線パターンが上記の電極と接続している主面とは反対側の配線パターンの主面を成形体から表出させる（ステップＳ３）。 - 特許庁

To obtain excellent pattern characteristic (pattern accuracy) when etching a copper foil laminate by effectively preventing resin dust deposition in a laminating step with an insulating prepreg mainly consisting of epoxy resin or the like.例文帳に追加

エポキシ樹脂等を主成分とする絶縁性プリプレグとの積層工程において、レジンダストを効果的に防止し、それによって積層銅箔のエッチングに際して良好なパターン特性（パターン精度が良い）を得る。 - 特許庁

When the replacement with the gradation pattern is ended, the end part of the gradation pattern of the adjacent block is connected, a film original plate is outputted and a press plate processing is performed on the basis of the film original plate (step S6).例文帳に追加

階調パターンへの置換が終了すると、隣接するブロックの階調パターンの端部を連接してフィルム原版を出力し、このフィルム原版に基づいて刷版処理を行う（ステップＳ６）。 - 特許庁

The circuit pattern forming method comprises a step of preparing a substrate having the porous layer formed on one face, a step of using an ink jet head for discharging the thermosetting metal ink to the porous layer corresponding to the circuit pattern, and a step of heating the ink and the porous layer for sintering the ink and removing the porous layer.例文帳に追加

本発明の回路パターン形成方法は、一面に多孔層が形成された基板を用意する段階と、回路パターンに対応するように、インクジェットヘッドを用いて多孔層に熱硬化性金属インクを吐出する段階と、インク及び多孔層に熱を加えてインクを焼結し、多孔層を除去する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

An exemplary embodiment of a feedback control method for controlling high frequency banding includes a step for creating a test pattern, a step for detecting the test pattern by the optical sensor and a step for measuring the high frequency banding and adjusting imaging parameters based on the measured high frequency banding in order to reduce the extent of high frequency banding.例文帳に追加

高周波バンディング制御用のフィードバック制御方法の例示的な実施形態は、テストパターンを作成するステップと、光学センサーによりテストパターンを検知するステップと、高周波バンディングの程度を減少させるべく、高周波バンディングを測定し、測定された高周波バンディングに基づいて画像化パラメータを調整するステップを含む。 - 特許庁

The method of processing the cavity of the core substrate includes: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by a circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

A lithographic method includes: a step of calculating laser metric based on a spectrum of a laser radiation emitted to the lithographic apparatus from a laser and representation of an aerial image of the pattern projected on the substrate by the lithographic apparatus; a step of either changing operation of the laser or adjusting the lithographic apparatus by using the laser metric; and a step of projecting the pattern on the substrate.例文帳に追加

レーザからリソグラフィ装置へ放出されたレーザ放射のスペクトルとリソグラフィ装置によって基板上に投影されるパターンの空間像の表現とに基づいてレーザメトリックを計算するステップと、レーザメトリックを用いてレーザの動作を変更するか又はリソグラフィ装置を調整するステップと、基板上にパターンを投影するステップとを含むリソグラフィ方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the circuit board comprises a step of forming on an electric conductor a resist pattern 2 corresponding to a desired wiring circuit, a step of plating an opening of the resist pattern 2 on the electric conductor with metallic material by electrolysis plating, and a step of imprinting the plated part on a base material 4 to serve as the wiring circuit.例文帳に追加

本発明者らの検討によると、導電体上に所望の配線回路に対応するレジストパターン２を形成し、この導電体上のレジストパターン２の開口部に、電解めっきにより金属材料をめっきし、このめっきした部分をベース基材４に転写し配線回路とすることにより、回路基板を製造できることを見出した。 - 特許庁

The method comprises an inspection step for inspecting a wiring pattern comprising a plurality of wires formed on a wafer W, for a spot of an unplanned short circuit between wires; and a blowout step for severing by laser application the defective spot in case a short-circuiting spot is found in the wiring pattern during the inspection step.例文帳に追加

ウエーハＷ上に形成された複数本の配線からなる配線パターンに配線同士を意図せず短絡させるようなショート欠陥部位があるか否かを検査する検査工程と、この検査工程で配線パターンにショート欠陥部位が発見された場合に、このショート欠陥部位にレーザを照射して当該部位を溶断する溶断工程と、を含むものである。 - 特許庁

The machining method further comprises a step 105 for forming an oxide film etching mask pattern corresponding to a deep trench in the upper surface of the oxide film, a step 106 for forming the mask pattern on the upper surface of the silicon substrate 1, and a step 107 for making two trenches of desired profile and depth in the silicon substrate 1 by etching.例文帳に追加

該酸化膜の上面に、深い溝に対応して、酸化膜エッチングマスクパターンが作製され（工程１０５）、エッチングにより、シリコン基板１の上面には、当該酸化膜マスクパターンが形成されて（工程１０６）、エッチングにより、シリコン基板１に対しては、それぞれ所望の形状ならびに深さを有する二つの溝が形成される（工程１０７）。 - 特許庁

The optical disk manufacturing method comprises the step of forming a data area including a pit representing a signal to be read by light irradiation on a substrate, the step of forming a reflective film on the data area, and the step of forming a barcode pattern representing information in the reflective film on the data area, and the barcode pattern is formed on the pit.例文帳に追加

光の照射により読み取り可能な信号を表すピットを含むデータ領域を基板上に形成するステップと、前記データ領域の上に反射膜を形成するステップと、前記データ領域上の前記反射膜に情報を表すバーコードバターンを形成するステップと、を備え、前記バーコードパターンは前記ピットの上に形成される光ディスクの製造方法。 - 特許庁

A printer control device performs, in image formation process control, processing of detecting a misalignment detection pattern (step S305), and processing of detecting a concentration detection pattern (step S307), and thereafter refers to a first reference signal level and a second reference signal level to determine whether the results of the detection processing are valid or not (step S309).例文帳に追加

プリンタ制御装置は、画像形成プロセス制御において、位置ずれ検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０５）、及び濃度検出用パターンの検出処理（ステップＳ３０７）を行った後、第１参照信号レベル及び第２参照信号レベルを参照し、検出処理の結果が有効であるか否かを判断する（ステップＳ３０９）。 - 特許庁

The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加

（１）透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、（２）前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、（３）前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁

The receiving side compares a fingerprint pattern attached to the email with the fingerprint pattern of the sender previously registered inside (step S26); if they match, the user is informed that the sender is identified (step S28); if not, the user is informed that the sender could be spoofing (step S27).例文帳に追加

受信側では、電子メールに添付されていた指紋パターンと、予め内部に登録してある送信者の指紋パターンとを比較（ステップＳ２６）し、一致したならば送信者の素性は本物であることを使用者へ通知（ステップＳ２８）し、一方、一致しなかった時には送信者は「成りすまし」ている可能性があることを使用者へ通知（ステップＳ２７）する。 - 特許庁

A correction value calculating method includes: a step of forming a correction pattern; a step of acquiring read image data of the correction pattern; and a correction value calculating step of calculating a correction value for correcting data of each pixel array of print image data for every pixel array of the print image data based on the data of each pixel array of the read image data.例文帳に追加

補正用パターンを形成するステップと、補正用パターンの読取画像データを取得するステップと、読取画像データの各画素列のデータに基づいて、印刷画像データの各画素列のデータを補正するための補正値を、印刷画像データの画素列ごとに算出する補正値算出ステップと、を備える補正値算出方法である。 - 特許庁

In the Braille layout creating method, following steps are performed: an information reading step for reading information out of a list window W2 wherein a multiple pieces of information for punching Braille dots are listed; a converting step for converting the read information into a Braille pattern; and an inputting step for inputting the Braille pattern to a Braille object frame OB2 on a tape image TI displayed in a layout window W1.例文帳に追加

点字打刻を行うための情報が複数列記されたリストウィンドウＷ２から、情報を読み出す情報読み出しステップと、読み出した情報を点字パターンに変換する変換ステップと、点字パターンを、レイアウトウィンドウＷ１に表示されたテープイメージＴＩ上の点字オブジェクト枠ＯＢ２に流し込む流し込みステップと、を実行するものである。 - 特許庁

A cavity processing method of a core substrate comprises: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by the circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from the one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

This method for inspecting a semiconductor circuit comprises both an operation step for making the semiconductor circuit operate by changing over between a pass condition for passing an output pattern of the semiconductor circuit of when a test pattern is inputted and a specification step for specifying the faulty part of the semiconductor circuit on the basis of the output pattern of when the semiconductor circuit is made to operate.例文帳に追加

試験パターンを入力したきの半導体回路の出力パターンがパスするパス条件とフェイルするフェイル条件とを途中で切り替えて動作させる動作ステップと、半導体回路を動作させたときの出力パターンを基に半導体回路の故障箇所を特定する特定ステップとを有する半導体回路の検査方法が提供される。 - 特許庁