「step pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The shape of every hole pattern 400 arranged therein is observed, thereby finding distortion during the alignment step.例文帳に追加

この四隅に配置される各ホールパターン４００の形状を観察することにより、露光工程時におけるディストーションの発生の有無の観察を行う。 - 特許庁

During the step of pressurizing the laminate 121 while heating it, the cushion sheets 51, 52 deform so that the shape of the conductor pattern 37 is transferred.例文帳に追加

積層体１２１を加熱しつつ加圧する工程時、クッションシート５１，５２が導体パターン３７の形状が転写されるように変形する。 - 特許庁

Thereafter, a developer at 3°C is supplied onto the substrate to develop a resist film on the substrate to form a resist pattern on the resist film (step S3).例文帳に追加

その後、基板上に３℃の現像液を供給し、基板上のレジスト膜を現像して当該レジスト膜にレジストパターンを形成する（ステップＳ３）。 - 特許庁

When a first etching step is performed, the second auxiliary film 112 remains between the first auxiliary patterns 104a and becomes a second auxiliary pattern 112a.例文帳に追加

第１のエッチング工程を実施し、第２補助膜１１２が第１補助パターン１０４ａ間に残留して第２補助パターン１１２ａとなる。 - 特許庁

Grooves or holes are machined thinner than pattern dimensions in a BARC etching step, and etching is made under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2.例文帳に追加

BARCエッチングステップにてパターン寸法よりも溝又は孔を細く加工し、N_２またはO_２を含む高マスク選択比条件にてエッチングを行う。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit 1 comprises a logic circuit 10, a pattern generation circuit 30, a step-number adjustment circuit 40, and a comparison circuit 60.例文帳に追加

半導体集積回路１は、論理回路１０、パターン生成回路３０、段数調整回路４０、及び比較回路６０を備えている。 - 特許庁

It is provided with a step of forming a transfer lens by transfering the pattern of the lens matrix on the transparent resin layer by dry etching.例文帳に追加

該レンズ母型のパターンを、ドライエッチングにより前記透明樹脂層に転写し、転写レンズを形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

During a first irradiation step, a resist is exposed with an original mask (100), i.e. comprising substantially a pattern to be obtained in a layer.例文帳に追加

第１の照射ステップの間、レジストが、元のマスク（１００）すなわち層の中に得られるパターンを実質的に含む元のマスクで露光される。 - 特許庁

The method also includes a step of forming a pattern by using an EB direct writing machine on this EB resist 107 while aligning by using a mark 108(F).例文帳に追加

そして、マーク１０８を用いて位置合わせを行いながら、このＥＢレジスト１０７にＥＢ直接描画機を用いてパターンを形成する（Ｆ）。 - 特許庁

Then, a solid electrolyte layer in conformity with the uneven pattern is formed by applying application liquid containing a polymer electrolyte material (a step S104).例文帳に追加

そして、高分子電解質材料を含む塗布液を塗布し凹凸パターンに追従した固体電解質層を形成する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

A ceramics paste is gravure-printed on the surface of a long carrier film 10, and then it is dried to form a step-eliminating ceramics pattern 3.例文帳に追加

長尺状のキャリアフィルム１０の表面に、まず、セラミックペーストをグラビア印刷し、乾燥して、段差解消セラミック用パターン３を形成する。 - 特許庁

The exposure-development step thus follows the prebaking in a short time and the change of the resist pattern can be reduced.例文帳に追加

これによって、プリベークから短時間で連続して感光・現像工程に移ることが可能となり、レジストパターンの変動を減少させることができる。 - 特許庁

Projection of ink is suppressed by a first surface energy region 12b as a liquid-repellent surface and the step, and an edge of a pattern can be accurately formed.例文帳に追加

撥液面である第１の表面エネルギー部１２ｂと、段差によってインクのはみ出しが押さえられ、パターンのエッジを正確に形成出来る。 - 特許庁

After that, a postbaking step is conducted by heating the substrate having the photoresist pattern at a second temperature of from about 90°C to about 110°C.例文帳に追加

その後、後熱処理工程がフォトレジストパターンを有する基板を約９０℃から約１１０℃の第２温度で加熱することにより実施される。 - 特許庁

Consequently, torque step caused by engine variation can be reduced and rotation fluctuation due to change over of the injection pattern can be kept low.例文帳に追加

これにより、エンジンの機差バラツキに起因するトルク段差を低減でき、噴射パターンの切り替えによる回転変動を小さく抑えることができる。 - 特許庁

The present invention includes a step for forming a resist pattern by discharging a composition containing photosensitizer on a work under a depressurized atmosphere.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

Allowable areas 5b and 5c are set for corners 4b and 4c of a step 4a of inspection data 4 to be compared with a pattern 1a of a photomask, respectively.例文帳に追加

フォトマスクのパターン１ａと比較する検査データ４の段差４ａのコーナー４ｂ，４ｃに、それぞれ許容エリア５ｂ，５ｃを設定する。 - 特許庁

By eliminating the step 1a from the device pattern 1 of the photomask, correction in the event of a defect at an edge thereof can be facilitated.例文帳に追加

また、フォトマスクのデバイスパターン１から段差１ａを消失させることで、そのエッジに欠陥が発生した場合の修正の容易化が図られる。 - 特許庁

Next, by allotting the obtained distribution information of the fiber diving angles to a supposed columnar space, the wood grain pattern is defined at the step (S2).例文帳に追加

次に、取得した繊維潜り角の分布情報を樹木を想定した円柱空間に割り当てることにより木理パターンを定義する（Ｓ２）。 - 特許庁

Moreover, optical characteristic of the projection type optical system is calculated (step 125) based on the position information of a plurality of detected pattern images.例文帳に追加

そして、検出された複数のパターン像それぞれの位置情報に基づいて、投影光学系の光学特性を算出する（ステップ１２５）。 - 特許庁

In order to prepare data of a first reticle, the pattern, a tip portion and a butt portion of the object which are arrayed in a Y direction are combined (step S12).例文帳に追加

第１のレチクルのデータの作成のために、Ｙ方向において並ぶ対象物のパターン、先端部及び突合部を結合する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

The method includes the step of preparing an object file management framework for establishing a standard interface between a vender-supplied pattern compiler and the module type test system, receiving a pattern source file, preparing a pattern object metafile on the basis of the pattern source file by using the object file management framework, and testing the device to be tested, through the test module by using the pattern object metafile.例文帳に追加

ベンダ供給パターンコンパイラとモジュール式試験システムとの間に標準インターフェースを確立するためのオブジェクトファイル管理フレームワークを作成すること、パターンソースファイルを受信すること、オブジェクトファイル管理フレームワークを用いて、パターンソースファイルに基づいてパターンオブジェクトメタファイルを作成すること、及びパターンオブジェクトメタファイルを用いて試験モジュールを通して被試験デバイスを試験する。 - 特許庁

In the specific state performance display according to the middle performance pattern, a promotion lottery is performed, and the beginning second step performance mode is changed into the first step performance mode when the promotion lottery is won.例文帳に追加

途中演出パターンによる特定状態演出表示では、昇格抽選を行い、昇格抽選に当選した場合に、最初の第２段階の演出モードを第１段階の演出モードに変更する。 - 特許庁

To provide an electronic component in which a protrusion on a step relaxing layer partially fills a continuous gap formed between the step relaxing layer and a thin-film conductive pattern, thereby preventing moisture or a plating liquid from permeating into the gap.例文帳に追加

段差緩和層に設けられた突起部が、段差緩和層と薄膜導電パターンの間に発生する連続的な隙間を部分的に埋めることで、この隙間への水分やめっき液などの浸入を防ぐ。 - 特許庁

The method for attaching the pellicle includes a step of supporting a mask (13) as extending in a vertical direction in a clean room (1) and a step of disposing a pellicle (23) so as to oppose to the pattern face of the mask.例文帳に追加

本発明によるペリクル装着方法は、クリーンルーム（１）内にマスク（１３）を鉛直方向に延在するように支持する工程と、マスクのパターン面と対向するようにペリクル（２３）を配置する工程とを具える。 - 特許庁

After ending placement of each block at step 110, clock signal connection information and information concerning to factors having an effect on the clock signal pattern is extracted for individual blocks at step 112.例文帳に追加

ステップ１１０において各ブロックの配置が終了した後に、ステップ１１２では、クロック信号接続情報、及びクロック信号パターンに影響を与える要因の関連情報を、個々のブロックについて抽出する。 - 特許庁

Prior to formation of the pattern 80, the method includes a step to form the marking partition walls B1 corresponding to the alignment mark AM and a step to place the liquid material containing the alignment mark forming material between the marking partition walls B1.例文帳に追加

パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 - 特許庁

The process from the step of cleaning with the first chemical liquid through the step of applying the application liquid is performed in the same processing room such that the workpiece maintains the state in which the liquids are held on the pattern.例文帳に追加

前記第１の薬液による洗浄から前記塗布液の塗布までを、前記被加工物が前記パターン間で液体を保持した状態を維持するように同一の処理室内で実施することを特徴とする。 - 特許庁

When the wavelength of a laser beam of a wavelength variable laser is controlled (step S0), an optical system or a hologram recording medium is moved (step S1), and a state where a light beam is made incident on a wavelength control pattern is made.例文帳に追加

波長可変レーザのレーザ光の波長を制御する際（ステップＳ０）には、光学系ないしはホログラム記録媒体を移動して（ステップＳ１）、波長制御パターンに光ビームが入射される状態にする。 - 特許庁

Then, the instruction information of an erasure pattern or the like inputted from a manager or the like is acquired (step S13), and a program for erasure according to the instruction information is specified and transmitted to the user PC (step S14).例文帳に追加

そして、管理者等から入力される消去パターン等の指示情報を取得し（ステップＳ１３）、指示情報に従った消去用プログラムを特定して、利用者ＰＣに向けて送信する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

The device 1 selects a candidate for a semantic generation rule (matching pattern string) from contents described in the 'items' of the title table (step ST7) and matches the candidate with table input information to generate table semantic information (step ST8).例文帳に追加

タイトル表の「項目」に記述された内容から意味生成規則（マッチングパターン列）の候補を選択し（ステップＳＴ７）、表の入力情報とのマッチングを行って表の意味情報を生成する（ステップＳＴ８）。 - 特許庁

A performance control CPU specifies a main variation pattern determined by a CPU of a main board (step S651), and determines whether or not the execution history of the pseudo successive variation is more than the prescribed reference number of times (step S652).例文帳に追加

演出制御ＣＰＵは、主基板のＣＰＵが決定したメイン変動パターンを特定し（ステップＳ６５１）、擬似連変動の実行履歴が所定の基準回数より多いか否かを判定する（ステップＳ６５２）。 - 特許庁

In addition, the stepwise heating in the dewaxing step is preferably conducted at a temperature zone of ≤250°C, and, in the firing step, the resin pattern (a) is preferably burnt and extinguished at a temperature of 300°C-750°C.例文帳に追加

尚、脱ロウ工程での階段状加熱は、２５０℃以下の温度帯域で行われることが望ましく、また前記焼成工程では、３００℃〜７５０℃の温度にて樹脂模型（ａ）を燃焼消失させることが望ましい。 - 特許庁

To provide a method for forming wiring pattern by which rewiring can be made without implementing a full-surface thin film forming step (sputtering) or etching step, a semiconductor device and a method for manufacturing it, a circuit board, and electronic equipment.例文帳に追加

全面薄膜形成工程（スパッタ）及びエッチング工程を用いずに再配線を形成する配線パターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

The scale manufacturing method includes; a step for detecting the position of the dense track that is formed in advance for generating a pattern in a coarse track corresponding to the position; and a write-once formation step of the coarse track onto a scale surface.例文帳に追加

あらかじめ形成された密トラックの位置を検出して、その位置に対応する粗トラックのパターンを生成するステップと、粗トラックをスケール面に追記可能な形成ステップとを含むスケール製造方法を提供する。 - 特許庁

To upgrade covering property of an interlayer insulating film by forming a resist pattern in one time without undercut, and lowering the height per step of a step difference.例文帳に追加

レジストパターン１回形成でアンダーカットなく形成し、かつ段差１段あたりの高さを低くすることで層間絶縁膜の被覆性を良好にした多層配線とその形成方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The method for determining the physiological activity of the cypris larva of the barnacle includes the step of irradiating the cypris larva of the barnacle with exciting light and the step of detecting the distribution pattern of the fluorescence emitted from the irradiated cypris larva.例文帳に追加

本発明に係る生理活性測定方法は、フジツボ類キプリス幼生に対して励起光を照射する工程と、照射された前記キプリス幼生が発光する蛍光分布パターンを検出する工程とを含む。 - 特許庁

At a step S402, the detection magnetic waveform of one magnetic pattern is cut out of the obtained detection magnetic waveform and at a step S403, the cut detection magnetic waveform is integrated to generate the integral waveform.例文帳に追加

ステップＳ４０２において、取得した検出磁気波形から１つ分の磁気パターンの検出磁気波形を切り出し、ステップＳ４０３において、切り出した検出磁気波形を積分して、積分波形を生成する。 - 特許庁

In a method for manufacturing the filter, a step for printing the dark color convex pattern layer to a step for coating the transparent resin layer are continuously carried out without winding up on one apparatus in a state the transparent base material is continuous belt-like.例文帳に追加

フィルタの製造方法は、透明基材を連続帯状で、暗色凸状パターン層の印刷工程から透明樹脂層の塗工工程までを同一装置上で巻き取らずに連続的に行う。 - 特許庁

When it is decided that an ordinary pattern success flag is set (step A70: Yes), '1' is added to the number F of times of continuous success occurrence presenting the number of times of the continuous success occurrence of ordinary patterns (step A72).例文帳に追加

普通図柄当りフラグがセットされていると判定すると（ステップＡ７０：Ｙｅｓ）、普通図柄の当りの連続して発生した回数を示す当り連続発生回数Ｆに「１」を加算する（ステップＡ７２）。 - 特許庁

In a radio communication apparatus 2 provided with a Bluetooth (BT) (R) communication part 26 and an SS radio communication part 27, a test pattern is transmitted from the BT(R) communication part 26 (step S2) and received by the SS radio communication part 27 (step S3).例文帳に追加

Bluetooth（ＢＴ）通信部２６とＳＳ無線通信部２７が設けられた無線通信装置２において、ＢＴ通信部２６からテストパターンを送信し（ステップＳ２）、ＳＳ無線通信部２７により受信する（ステップＳ３）。 - 特許庁

When the ridge is located at the position corresponding to the engagement part (Step 104: YES), the phase-locked energization is executed so that a part in an engagement groove (the sensor pattern [3]) is stopped at the position corresponding to the engagement part (Step 105), and then a locking device is operated to lock (Step 106).例文帳に追加

そして、山部が係合部に対応する位置にある場合（ステップ１０４：ＹＥＳ）には、該係合部に対応する位置に、係合溝内の箇所（センサパターン「３」）を停止させるよう相固定通電を実行した後に（ステップ１０５）、ロック装置をロック作動させる（ステップ１０６）。 - 特許庁

A pattern signal insertion part 2 inserts the inspection signal to the data signal 32 for detection of the break of the connection circuit with the LSI (not shown) connected to the following step by the LSI connected to the following step and outputs it to the LSI connected to the following step.例文帳に追加

パターン信号挿入部２は、後段に接続された図示しないＬＳＩとの間の接続回路の断線を後段に接続された前記ＬＳＩに検出させるため、そのための検査信号をデータ信号３２に挿入して後段に接続されたＬＳＩに出力する。 - 特許庁

The method for producing the laser paper comprises a step for printing a prescribed pattern on a paper, a step for coating a water-soluble laser layer on the working plane of the paper, a step for manifesting mirror plane effects by heating the water-soluble laser layer, and manifesting the laser effects by pressing the paper having the water-soluble laser layer.例文帳に追加

紙に所定のパターンを印刷する工程と、紙の作業面に水溶性レーザー層を塗布する工程と、該水溶性レーザー層を加熱することにより、鏡面効果を現す工程と、水溶性レーザー層を有する紙に加圧することにより、レーザー効果を現す工程と、を備える。 - 特許庁

The method of constituting the metal material includes a step of preparing the substrate including a region formed from a first semiconductor material, and a second material containing germanium separated by a pattern formed from a dielectric material, a step of performing deposition (F2) of a metal layer, and a step of performing a first thermal process (F3).例文帳に追加

第１半導体材料から作られた領域と、誘電体材料から作られたパターンによって分離されたゲルマニウムを含む第２半導体材料から作られた領域と、を含む基板を準備し、金属層を堆積し（Ｆ２）、第１熱処理（Ｆ３）を行うことを含む。 - 特許庁